JPS63253521A - 磁気記録媒体およびその製造法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造法Info
- Publication number
- JPS63253521A JPS63253521A JP8578487A JP8578487A JPS63253521A JP S63253521 A JPS63253521 A JP S63253521A JP 8578487 A JP8578487 A JP 8578487A JP 8578487 A JP8578487 A JP 8578487A JP S63253521 A JPS63253521 A JP S63253521A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magnetic
- magnetic recording
- protective film
- magnetic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 98
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 30
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 26
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 35
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 18
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 18
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 50
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 Co-8L Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020598 Co Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020632 Co Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020637 Co-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002519 Co-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020674 Co—B Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020678 Co—Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020708 Co—Pd Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020517 Co—Ti Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020516 Co—V Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018054 Ni-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018481 Ni—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- FPVKHBSQESCIEP-JQCXWYLXSA-N pentostatin Chemical compound C1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1N1C(N=CNC[C@H]2O)=C2N=C1 FPVKHBSQESCIEP-JQCXWYLXSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に係わり、さらに詳しくは磁性層
である強磁性金属薄膜層の表面に、耐食性ならびに機械
的強度に優れた保護膜を形成させた耐久性および信頼性
の高い磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
である強磁性金属薄膜層の表面に、耐食性ならびに機械
的強度に優れた保護膜を形成させた耐久性および信頼性
の高い磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
真空蒸着法、スパッタリング法あるいはイオンブレーテ
ィング法などで作られるCo(コバルト)を主成分とす
る強磁性金属薄膜層を有する磁気記録媒体は、高密度磁
気記録に適した優れた特性を有する反面、磁気ヘッドな
どとの摺動接触の際に摩耗や損傷を受は易く、さらに大
気中において磁性層(磁気記録層)である強磁性金属薄
膜の表面が腐食され、そのために磁気特性ならびに走行
性が劣化するという欠点があった。この欠点を解消する
ために、磁性層表面にレーザ光線を照射して熱酸化させ
る方法(特開昭58−130428号公報)や。
ィング法などで作られるCo(コバルト)を主成分とす
る強磁性金属薄膜層を有する磁気記録媒体は、高密度磁
気記録に適した優れた特性を有する反面、磁気ヘッドな
どとの摺動接触の際に摩耗や損傷を受は易く、さらに大
気中において磁性層(磁気記録層)である強磁性金属薄
膜の表面が腐食され、そのために磁気特性ならびに走行
性が劣化するという欠点があった。この欠点を解消する
ために、磁性層表面にレーザ光線を照射して熱酸化させ
る方法(特開昭58−130428号公報)や。
グロー放電によって酸化物保護層を形成させる方法(特
開昭58−41439号公報)、水蒸気処理により安定
な耐食性被膜を形成させる方法(特開昭57−1235
33号公報)、オゾン雰囲気に曝すことにより酸化物保
護層を形成させる方法(特開昭59−63031号公報
)あるいは高温高湿の雰囲気下で処理して安定な酸化物
保護層を形成させる方法(米国特許第3460968号
)など多く提案されている。
開昭58−41439号公報)、水蒸気処理により安定
な耐食性被膜を形成させる方法(特開昭57−1235
33号公報)、オゾン雰囲気に曝すことにより酸化物保
護層を形成させる方法(特開昭59−63031号公報
)あるいは高温高湿の雰囲気下で処理して安定な酸化物
保護層を形成させる方法(米国特許第3460968号
)など多く提案されている。
これらの方法は、少なくともスピネル(CO304)ま
たはCo、03・H2Oの形で示される安定な結晶性の
高次酸化物を磁性層表面に形成させて耐食性の改善をは
かるものである。しかし、上記の安定な結晶性高次酸化
物の形成だけでは必ずしも所望の耐食性を得ることがで
きず、長時間にわたって高温高湿の雰囲気下、あるいは
硫黄酸化物、窒素酸化物などを含むPHの低い酸性の雰
囲気中に放置すると磁性層の腐食が著しく進行し磁気特
性ならびに走行性の劣化が見られるなど、磁気記録媒体
としての耐久性ならびに信頼性が低下するという問題が
あった。
たはCo、03・H2Oの形で示される安定な結晶性の
高次酸化物を磁性層表面に形成させて耐食性の改善をは
かるものである。しかし、上記の安定な結晶性高次酸化
物の形成だけでは必ずしも所望の耐食性を得ることがで
きず、長時間にわたって高温高湿の雰囲気下、あるいは
硫黄酸化物、窒素酸化物などを含むPHの低い酸性の雰
囲気中に放置すると磁性層の腐食が著しく進行し磁気特
性ならびに走行性の劣化が見られるなど、磁気記録媒体
としての耐久性ならびに信頼性が低下するという問題が
あった。
また、湿式法にてクロム保護膜を磁性層上に設けること
が提案されている(特開昭59−186136号公報)
、一般に、Cr保護膜は耐食性に優れているが、湿式法
で形成したCr保護膜は磁気ヘッドなどとの摺接に対す
る機械的強度が十分でなく。
が提案されている(特開昭59−186136号公報)
、一般に、Cr保護膜は耐食性に優れているが、湿式法
で形成したCr保護膜は磁気ヘッドなどとの摺接に対す
る機械的強度が十分でなく。
他方、真空蒸着法やスパッタ法により形成したCr保護
膜においても、機械的強度ならびに耐食性の点でいずれ
も十分に満足のいく水準に達していなかった。
膜においても、機械的強度ならびに耐食性の点でいずれ
も十分に満足のいく水準に達していなかった。
本発明は、上述した従来の強磁性金属薄膜を磁性層とす
る磁気記録媒体において、高温多湿あるいは硫黄酸化物
、窒素酸化物などを含むpH値が低く酸性の雰囲気下に
おける磁性層の腐1食の問題を解消し、磁性層の表面に
、耐食性が極めて良好で、機械的強度の大きい保護膜を
形成させた走行性ならびに耐久性に優れた磁気記録媒体
およびその製造方法を提供することを目的とする。
る磁気記録媒体において、高温多湿あるいは硫黄酸化物
、窒素酸化物などを含むpH値が低く酸性の雰囲気下に
おける磁性層の腐1食の問題を解消し、磁性層の表面に
、耐食性が極めて良好で、機械的強度の大きい保護膜を
形成させた走行性ならびに耐久性に優れた磁気記録媒体
およびその製造方法を提供することを目的とする。
一般に、pH値の低い酸性の環境で優れた耐食性を示す
Crは、磁性層である強磁性金属薄膜の保護膜として適
した性質を有するが、Cr単独では磁気ヘッドなどとの
摺接時における機械的強度が十分でない、このため1本
発明者はCrをGo、Niなとの強磁性金属と合金化し
て強度を得ようと試みた。しかし、Crが低濃度では耐
食性に効果がなく、一方Crが高濃度すぎては磁気特性
および機械的強度が劣化するため、その中間のCr濃度
を選択したが、耐食性、機械的強度のいずれも満足する
には至らなかった。
Crは、磁性層である強磁性金属薄膜の保護膜として適
した性質を有するが、Cr単独では磁気ヘッドなどとの
摺接時における機械的強度が十分でない、このため1本
発明者はCrをGo、Niなとの強磁性金属と合金化し
て強度を得ようと試みた。しかし、Crが低濃度では耐
食性に効果がなく、一方Crが高濃度すぎては磁気特性
および機械的強度が劣化するため、その中間のCr濃度
を選択したが、耐食性、機械的強度のいずれも満足する
には至らなかった。
さらに、本発明者は鋭意検討を重ねた結果、磁性層にC
rと共にPもしくはCを添加するか、もしくはCr、P
、Cを添加した強磁性合金を保護膜として、他の組成の
磁性層である強磁性金属薄膜上に成膜し、この表面に水
分を付着させ、しかる後に酸素ガス雰囲気下で酸化処理
することで。
rと共にPもしくはCを添加するか、もしくはCr、P
、Cを添加した強磁性合金を保護膜として、他の組成の
磁性層である強磁性金属薄膜上に成膜し、この表面に水
分を付着させ、しかる後に酸素ガス雰囲気下で酸化処理
することで。
耐食性および機械的強度のいずれにも優れた磁気記録媒
体が得られることを見出した。この理由は、PやCの添
加が1表面に安定なCrを主成分とした含水酸化物層の
形成に効果的であること、さらに上記の酸化処理によっ
て、このCrを主成分とした含水酸化物層中に、機械的
強度の高い強磁性金属元素が均一に拡散され、これによ
って耐ヘツド摺動強度が向上するものと考えられる。
体が得られることを見出した。この理由は、PやCの添
加が1表面に安定なCrを主成分とした含水酸化物層の
形成に効果的であること、さらに上記の酸化処理によっ
て、このCrを主成分とした含水酸化物層中に、機械的
強度の高い強磁性金属元素が均一に拡散され、これによ
って耐ヘツド摺動強度が向上するものと考えられる。
上記本発明の目的は、CoまたはNiの単体金属、もし
くはこれらの元素を主成分とする合金に、Crを3〜2
0at(原子)%含有させ、さらにPは3〜15at%
の範囲内、Cは1〜5at%の範囲内で、P、Cのうち
の少なくとも1種を添加した強磁性金属薄膜を磁性層と
して形成させるか、または上記強磁性金属薄膜と同一組
成の合金を保護膜として、他の組成の磁性層上に形成さ
せ、これを1O−3T orr以上の水蒸気圧を有する
雰囲気中に曝して上記強磁性金属薄膜層または上記保護
膜層の表面に水分を付着させ、しかる後、酸素ガスもし
くは酸素ガスを主成分とする酸化性の雰囲気中で処理し
て、安定なCrを主成分とする含水酸化物層を形成させ
ることにより、達成される。
くはこれらの元素を主成分とする合金に、Crを3〜2
0at(原子)%含有させ、さらにPは3〜15at%
の範囲内、Cは1〜5at%の範囲内で、P、Cのうち
の少なくとも1種を添加した強磁性金属薄膜を磁性層と
して形成させるか、または上記強磁性金属薄膜と同一組
成の合金を保護膜として、他の組成の磁性層上に形成さ
せ、これを1O−3T orr以上の水蒸気圧を有する
雰囲気中に曝して上記強磁性金属薄膜層または上記保護
膜層の表面に水分を付着させ、しかる後、酸素ガスもし
くは酸素ガスを主成分とする酸化性の雰囲気中で処理し
て、安定なCrを主成分とする含水酸化物層を形成させ
ることにより、達成される。
本発明のCrを主成分とする含水酸化物層を形成させる
CoまたはNi系の強磁性合金の組成において、Cr含
有量が3at%未満では、Crを主成分とする含水酸化
物層が十分に形成されないので耐食性の向上効果が少な
く、20at%を超えると飽和磁化が低下し、磁気特性
が劣化するので好ましくない。また、P含有量は、3a
t%未満ではCrの溶出を抑制する効果が少なく、また
15at%を超えるとCo、Niなどの基本成分量が少
なくなり磁気特性が劣化するので好ましくない。さらに
、C含有量は、1at%未満ではCrの溶出を抑制する
効果が少なく、5at%を超えると合金になりにくく、
Cが遊離してくるので好ましくない。
CoまたはNi系の強磁性合金の組成において、Cr含
有量が3at%未満では、Crを主成分とする含水酸化
物層が十分に形成されないので耐食性の向上効果が少な
く、20at%を超えると飽和磁化が低下し、磁気特性
が劣化するので好ましくない。また、P含有量は、3a
t%未満ではCrの溶出を抑制する効果が少なく、また
15at%を超えるとCo、Niなどの基本成分量が少
なくなり磁気特性が劣化するので好ましくない。さらに
、C含有量は、1at%未満ではCrの溶出を抑制する
効果が少なく、5at%を超えると合金になりにくく、
Cが遊離してくるので好ましくない。
本発明のCrを主成分とする含水酸化物層の膜厚は、5
0〜500人の範囲が好ましく、より好ましい範囲は1
00〜300人である。上記膜厚が、50人未満である
と耐食性保護膜としての効果が少なく、また500人を
超えるとスペーシングロスが大きくなり、電磁変換特性
が低下するので好ましくない。
0〜500人の範囲が好ましく、より好ましい範囲は1
00〜300人である。上記膜厚が、50人未満である
と耐食性保護膜としての効果が少なく、また500人を
超えるとスペーシングロスが大きくなり、電磁変換特性
が低下するので好ましくない。
本発明が適用できる磁気記録媒体として、 Co、Ni
などの単体金属もしくはこれらを主成分とする合金、例
えばGo−P、Co−B、Co−8L、Co−V、Co
−Y、Go−8m、Co−Mn、Co−Pd、 Co−
Pt、 Co−Ti、Co−Fe、 Co−Ni。
などの単体金属もしくはこれらを主成分とする合金、例
えばGo−P、Co−B、Co−8L、Co−V、Co
−Y、Go−8m、Co−Mn、Co−Pd、 Co−
Pt、 Co−Ti、Co−Fe、 Co−Ni。
Co−N1−P、Co−N1−B、Co−Cr、Co−
Ni−Cr、Co−Ni−Ag、Co−Ni−Pd、G
。
Ni−Cr、Co−Ni−Ag、Co−Ni−Pd、G
。
−Ni−Zn、Co−Cu、Co−Ni−Cu、Go−
W、Co−N1−W、Co−Mn−P、Co−8s−C
u、Go −Ni −Zn −P 、 Co −Ni
−Mo −Cr、 Co −V−Crなどの合金に、C
r 3〜20at%含有させ、さらにP3〜15at%
、C1〜5at%のいずれか、または両方含有させた強
磁性合金を真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタ
リング、イオンビームデポジション、化学気相成長(C
,VD)法などのペーパーデポジション法あるいは電気
メッキ、無電解メッキなどの方法によって基体上に被着
させることにより形成させた、金属薄膜型の磁気記録媒
体を挙げることができる。
W、Co−N1−W、Co−Mn−P、Co−8s−C
u、Go −Ni −Zn −P 、 Co −Ni
−Mo −Cr、 Co −V−Crなどの合金に、C
r 3〜20at%含有させ、さらにP3〜15at%
、C1〜5at%のいずれか、または両方含有させた強
磁性合金を真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタ
リング、イオンビームデポジション、化学気相成長(C
,VD)法などのペーパーデポジション法あるいは電気
メッキ、無電解メッキなどの方法によって基体上に被着
させることにより形成させた、金属薄膜型の磁気記録媒
体を挙げることができる。
また、本発明の方法が適用できる磁気記録媒体は、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂製のフィル
ムあるいはAA、M合金、Ti、Ti合金、ステンレス
などの金属板を基体とするテープ、シート、カード、デ
ィスク状などの種々の形態の磁気記録媒体を包含する。
エチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂製のフィル
ムあるいはAA、M合金、Ti、Ti合金、ステンレス
などの金属板を基体とするテープ、シート、カード、デ
ィスク状などの種々の形態の磁気記録媒体を包含する。
以下に本発明の一実施例を挙げ、図面に基づいてさらに
詳細に説明する。
詳細に説明する。
(実施例 1)
第1図に示す断面構造の磁気記録媒体を、真空斜め入射
蒸着法によって、以下の手順で作製した。
蒸着法によって、以下の手順で作製した。
非磁性の基体1として、厚さ10.のポリエチレンテレ
フタレートフィルムを用い1強磁性合金として、Co−
10(at%)Ni−5(at%)Cr−5(at%)
P合金を用い、真空度5×1O−sT orr下で、電
子ビーム溶解により蒸発させて、基体1上に1500人
の膜厚の磁性層であるCo−1ONi −5Cr−5P
合金層2を斜め入射蒸着(図示せず)させた。なおこの
時、蒸着室には酸素ガス導入口より酸素ガスを0.4I
27IIlin導入し、磁性層の表面に酸化物層を形成
させた。このようにして作製した磁気記録媒体の原反を
蒸着室より取り出し、20℃、RH50%の本気雰囲気
中に1時間放置し磁性層表面に水分を付着させた。この
場合、雰囲気中の水分量の分圧が3 X 10”’ T
orr未満であるとCrの含水酸化物層の形成が不十分
となるので好ましくない、この水分付着処理をした後、
引き続き1気圧の酸素ガスを封入した容器中に入れ、1
00時間保持して、磁性層表面にCrを主成分とする含
水酸化物層3を形成させた。
フタレートフィルムを用い1強磁性合金として、Co−
10(at%)Ni−5(at%)Cr−5(at%)
P合金を用い、真空度5×1O−sT orr下で、電
子ビーム溶解により蒸発させて、基体1上に1500人
の膜厚の磁性層であるCo−1ONi −5Cr−5P
合金層2を斜め入射蒸着(図示せず)させた。なおこの
時、蒸着室には酸素ガス導入口より酸素ガスを0.4I
27IIlin導入し、磁性層の表面に酸化物層を形成
させた。このようにして作製した磁気記録媒体の原反を
蒸着室より取り出し、20℃、RH50%の本気雰囲気
中に1時間放置し磁性層表面に水分を付着させた。この
場合、雰囲気中の水分量の分圧が3 X 10”’ T
orr未満であるとCrの含水酸化物層の形成が不十分
となるので好ましくない、この水分付着処理をした後、
引き続き1気圧の酸素ガスを封入した容器中に入れ、1
00時間保持して、磁性層表面にCrを主成分とする含
水酸化物層3を形成させた。
(実施例 2)
強磁性合金として、Go−1ONi−5Cr −5G合
金を用いた以外は、実施例1と同様にして磁気記録媒体
の原反を作製した。
金を用いた以外は、実施例1と同様にして磁気記録媒体
の原反を作製した。
(実施例 3)
第2図に示す断面構造の磁気記録媒体を、真空斜め入射
蒸着法によって、以下の手順で作製した。
蒸着法によって、以下の手順で作製した。
まず、非磁性の基体1上に、磁性層としてGo−2ON
i合金層4を1300人の膜厚に形成した後、さらにそ
の上に、Co−10Cr −5P合金層5を200人の
膜厚に形成し、磁性層であるCo−2ONi合金層4の
保護膜とした。その後、実施例1と同様の処理方法で、
Go−10Cr −5P合金層5の上に。
i合金層4を1300人の膜厚に形成した後、さらにそ
の上に、Co−10Cr −5P合金層5を200人の
膜厚に形成し、磁性層であるCo−2ONi合金層4の
保護膜とした。その後、実施例1と同様の処理方法で、
Go−10Cr −5P合金層5の上に。
Cr含水酸化物1f!I6を形成させ、磁気記録媒体の
原反を作製した。
原反を作製した。
(比較例 1)
磁性層である強磁性合金をCo−2ONiとした以外は
、実施例1と同様の方法および処理を行い磁気記録媒体
の原反を作製した。
、実施例1と同様の方法および処理を行い磁気記録媒体
の原反を作製した。
(比較例 2)
磁性層である強磁性合金をGo−15Ni −5Crと
した以外は、実施例1と同様の方法および処理を行い磁
気記録媒体の原反を作製した。
した以外は、実施例1と同様の方法および処理を行い磁
気記録媒体の原反を作製した。
以上の実施例および比較例において作製した磁気記録媒
体の原反を裁断して磁気テープを作り、二酸化硫黄(S
O,)を0.5ppyr含む、35℃、75%RHの大
気雰囲気下に、上記実施例および比較例によって作製し
た磁気テープを50時間曝露した後、ヘッドとの摺動テ
ストを行った。その結果を第1表に示す。
体の原反を裁断して磁気テープを作り、二酸化硫黄(S
O,)を0.5ppyr含む、35℃、75%RHの大
気雰囲気下に、上記実施例および比較例によって作製し
た磁気テープを50時間曝露した後、ヘッドとの摺動テ
ストを行った。その結果を第1表に示す。
第 1 表
第1表から明らかなごとく1本発明による磁気テープは
、pHの低い酸性の雰囲気下で優れた耐腐性ならびに耐
摩耗性を示している。
、pHの低い酸性の雰囲気下で優れた耐腐性ならびに耐
摩耗性を示している。
なお、上記実施例および比較例において作製した磁気テ
ープについて、 S O,0,5ppm含む大気雰囲気
下に50時間曝露した後の磁性層表面を、X線光電子分
光分析装置(ESCA)によって分析したところ、比較
例において作製した磁気テープにおいては、いずれもC
oの硫酸塩が磁性層表面に形成されていることが認めら
れた。一方1本発明の実施例において作製した磁気テー
プにおいては、いずれも磁性層表面のCr濃度が比較例
に比べて高く、硫黄分は表面に物理吸着している程度し
か認められず硫酸塩としては全熱検知されなかった。な
お、上記のCr濃度の差は曝露テスト前の磁性M表面の
ESCA分析においても同様であった・ 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したごとく、本発明の強磁性合金よりな
る磁性層もしくは保護膜上に、Crを主成分とする含水
酸化物層を形成させた磁気記録媒体は、特にPH値の低
い酸性の環境において優れた耐食性ならびに耐摩耗性を
示すので、走行性が良好で耐久性および信頼性の高い磁
気記録媒体が得られる。
ープについて、 S O,0,5ppm含む大気雰囲気
下に50時間曝露した後の磁性層表面を、X線光電子分
光分析装置(ESCA)によって分析したところ、比較
例において作製した磁気テープにおいては、いずれもC
oの硫酸塩が磁性層表面に形成されていることが認めら
れた。一方1本発明の実施例において作製した磁気テー
プにおいては、いずれも磁性層表面のCr濃度が比較例
に比べて高く、硫黄分は表面に物理吸着している程度し
か認められず硫酸塩としては全熱検知されなかった。な
お、上記のCr濃度の差は曝露テスト前の磁性M表面の
ESCA分析においても同様であった・ 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したごとく、本発明の強磁性合金よりな
る磁性層もしくは保護膜上に、Crを主成分とする含水
酸化物層を形成させた磁気記録媒体は、特にPH値の低
い酸性の環境において優れた耐食性ならびに耐摩耗性を
示すので、走行性が良好で耐久性および信頼性の高い磁
気記録媒体が得られる。
第1図は本発明の実施例1において作製した磁気テープ
の断面構造を示す模式図、第2図は実施例3において作
製した磁気テープの断面構造を示す模式図である。 1・・・基体 2−Co−1ONi −5Cr −5P合金層3・・・
Crを主成分とする含水酸化物層4−Co−2ONi合
金層
の断面構造を示す模式図、第2図は実施例3において作
製した磁気テープの断面構造を示す模式図である。 1・・・基体 2−Co−1ONi −5Cr −5P合金層3・・・
Crを主成分とする含水酸化物層4−Co−2ONi合
金層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、可撓性の非磁性基体上に、強磁性金属薄膜からなる
磁性層、もしくは該磁性層上に、さらに保護膜を形成さ
せた磁気記録媒体において、上記磁性層もしくは保護膜
は、コバルト(Co)またはニッケル(Ni)の単体金
属、もしくはCo、Niの元素のうちより選ばれる少な
くとも1種の元素を主成分とする合金に、クロム(Cr
)と、さらにリン(P)および炭素(C)のうちの1種
または2種を含有する強磁性合金よりなり、上記磁性層
もしくは保護膜の表面にCrを主成分とする含水酸化物
層を形成させたことを特徴とする磁気記録媒体。 2、原子%で、Crを3〜20%、Pを3〜15%、C
を1〜5%含有する強磁性合金であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。 3、Crを主成分とする含水酸化物層の膜厚が50〜5
00Åであることを特徴とする特許請求の範囲第1項ま
たは第2項に記載の磁気記録媒体。 4、可撓性の非磁性基体上に、強磁性金属薄膜からなる
磁性層、もしくは該磁性層上に、さらに保護膜を形成さ
せた磁気記録媒体を製造する方法において、上記基体上
に、ベーパデポジション法もしくはメッキ法によって、
コバルト(Co)またはニッケル(Ni)の単体金属、
もしくはCo、Niの元素のうちより選ばれる少なくと
も1種の元素を主成分とする合金に、クロム(Cr)と
、さらにリン(P)および炭素(C)のうちの1種また
は2種を含有する強磁性合金よりなる上記磁性層もしく
は保護膜を形成した後、水蒸気圧が10^−^3Tor
r以上有する雰囲気中に曝して上記磁性層もしくは保護
膜表面に水分を付着させ、さらに酸化性ガスを主成分と
する雰囲気中で酸化処理を行い、上記磁性層もしくは保
護膜の表面にCrを主成分とする含水酸化物層を形成さ
せることを特徴とする磁気記録媒体の製造法。 5、酸化性ガスが、酸素もしくは酸素を主成分とするガ
スであることを特徴とする特許請求の範囲第4項に記載
の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8578487A JPS63253521A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8578487A JPS63253521A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63253521A true JPS63253521A (ja) | 1988-10-20 |
Family
ID=13868511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8578487A Pending JPS63253521A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63253521A (ja) |
-
1987
- 1987-04-09 JP JP8578487A patent/JPS63253521A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6589676B1 (en) | Corrosion resistant magnetic thin film media | |
US20080170329A1 (en) | Granular perpendicular magnetic recording media with improved corrosion resistance by SUL post-deposition heating | |
JPS6180527A (ja) | 磁気記録媒体用耐摩耗・耐腐蝕性膜の作成方法 | |
US4756967A (en) | Magnetic recording medium | |
US5744256A (en) | Magnetic recording medium and method of producing same | |
KR100233697B1 (ko) | 자기 기록 매체 | |
JPS63253521A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造法 | |
JPH0481268B2 (ja) | ||
JPS5837615B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS6366719A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS63197017A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0196819A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2538123B2 (ja) | 固定磁気ディスクおよびその製造方法 | |
JPH0514325B2 (ja) | ||
JPS63197026A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0364932B2 (ja) | ||
JPH10112019A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JPS61294635A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS63304423A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH02108224A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS63217529A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
JPH02172016A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPH061550B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS6364622A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62183021A (ja) | 保護層を有する磁気記録媒体 |