JPH02108224A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH02108224A JPH02108224A JP26217088A JP26217088A JPH02108224A JP H02108224 A JPH02108224 A JP H02108224A JP 26217088 A JP26217088 A JP 26217088A JP 26217088 A JP26217088 A JP 26217088A JP H02108224 A JPH02108224 A JP H02108224A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記
録媒体に関し、さらに詳しくは、耐食性および耐久性に
優れた前記の磁気記録媒体に関する。
録媒体に関し、さらに詳しくは、耐食性および耐久性に
優れた前記の磁気記録媒体に関する。
強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、スパ
ッタリング等によって基体フィルム上に被着してつくら
れ、高密度記録に適した特性を有するが、反面、磁気ヘ
ッドとの摩擦係数が太き(て摩耗や損傷を受は易く、ま
た、高温多湿の環境下で腐食されやすい。
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、スパ
ッタリング等によって基体フィルム上に被着してつくら
れ、高密度記録に適した特性を有するが、反面、磁気ヘ
ッドとの摩擦係数が太き(て摩耗や損傷を受は易く、ま
た、高温多湿の環境下で腐食されやすい。
このため、従来から強磁性金属薄膜層中に不働態化傾向
の強い金属元素を添加するなどして耐食性を改善するこ
とが行われており、たとえば、C0を主成分とする強磁
性金属薄膜層にCrなとの不働態化傾向の強い金属元素
を添加することが試みられている。(特開昭59−61
105号)〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、Coを主成分とする強磁性金属薄膜層中にC
rなどの不働態化傾向の強い金属元素を含有させても、
高温多湿下における腐食を防止することは難しく、また
高濃度のCr等を強磁性金属薄膜層中に添加すると、強
磁性金属薄膜層の磁気特性や耐摩耗性が劣化するという
問題がある。
の強い金属元素を添加するなどして耐食性を改善するこ
とが行われており、たとえば、C0を主成分とする強磁
性金属薄膜層にCrなとの不働態化傾向の強い金属元素
を添加することが試みられている。(特開昭59−61
105号)〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、Coを主成分とする強磁性金属薄膜層中にC
rなどの不働態化傾向の強い金属元素を含有させても、
高温多湿下における腐食を防止することは難しく、また
高濃度のCr等を強磁性金属薄膜層中に添加すると、強
磁性金属薄膜層の磁気特性や耐摩耗性が劣化するという
問題がある。
この発明はかかる現状に鑑み種々検討を行った結果なさ
れたもので、基体上に、少なくともBaまたはSrを含
む強磁性金属薄膜層を設けることによって、高温多湿下
における耐食性を充分に向上させ、耐久性も充分に向上
させたものである。
れたもので、基体上に、少なくともBaまたはSrを含
む強磁性金属薄膜層を設けることによって、高温多湿下
における耐食性を充分に向上させ、耐久性も充分に向上
させたものである。
また、この種の少なくともBaまたはSrを含むCoを
主成分とする強磁性金属薄膜層上にCo不働態膜層を設
けることによって、耐食性をさらに一段と向上させたも
のである。
主成分とする強磁性金属薄膜層上にCo不働態膜層を設
けることによって、耐食性をさらに一段と向上させたも
のである。
この発明において、基体上に形成される強磁性金属薄膜
層は、少なくともBaまたはSrを含有した強磁性金属
を、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
などの方法で物理蒸着するか、あるいは強磁性材蒸発源
内に強磁性金属とともにBaO粉末またはSrO粉末な
どを添加して物理蒸着するなどの方法で形成され、こC
)ような物理蒸着が行われると、BaまたはSrが強磁
性金属薄膜層中の磁性粒子の粒界にBaOまたはSrO
として析出する。
層は、少なくともBaまたはSrを含有した強磁性金属
を、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
などの方法で物理蒸着するか、あるいは強磁性材蒸発源
内に強磁性金属とともにBaO粉末またはSrO粉末な
どを添加して物理蒸着するなどの方法で形成され、こC
)ような物理蒸着が行われると、BaまたはSrが強磁
性金属薄膜層中の磁性粒子の粒界にBaOまたはSrO
として析出する。
しかして、Co、Ni、Feまたはこれらの合金からな
る強磁性金属薄膜層が、一般に腐食されにくい中性ない
し弱アルカリ性の範囲の電気化学的に安定な不働態化域
から、腐食性ガスなどにより酸性化されて腐食の著しい
腐食域に入っても、強磁性金属薄膜層中の磁性粒子の粒
界に析出したBaOまたはSrOが塩基性物質であり、
強磁性金属薄膜層の表面で加水分解して、表面を弱アル
カリ性に保つため、強磁性金属薄膜層の表面の腐食性ガ
スによる酸性化を抑制し、不働態膜層の優れた耐食性を
維持する。また、腐食環境下では、しばしば亜硫酸が酸
化されて硫酸化し、この硫酸によって強磁性金属薄膜層
が腐食されるが、BaOやSrOは硫酸と反応して難溶
性のBa5OaやSrSO4を生成するため、この難溶
性塩の析出によっても耐食性が向上される。
る強磁性金属薄膜層が、一般に腐食されにくい中性ない
し弱アルカリ性の範囲の電気化学的に安定な不働態化域
から、腐食性ガスなどにより酸性化されて腐食の著しい
腐食域に入っても、強磁性金属薄膜層中の磁性粒子の粒
界に析出したBaOまたはSrOが塩基性物質であり、
強磁性金属薄膜層の表面で加水分解して、表面を弱アル
カリ性に保つため、強磁性金属薄膜層の表面の腐食性ガ
スによる酸性化を抑制し、不働態膜層の優れた耐食性を
維持する。また、腐食環境下では、しばしば亜硫酸が酸
化されて硫酸化し、この硫酸によって強磁性金属薄膜層
が腐食されるが、BaOやSrOは硫酸と反応して難溶
性のBa5OaやSrSO4を生成するため、この難溶
性塩の析出によっても耐食性が向上される。
このようにして形成される強磁性金属薄膜層は、少なく
ともBaまたはSrを強磁性金属薄膜層中の金属原子に
対して5X10−’〜5X10−’原子%の範囲内で含
有させたものであることが好ましく、5X10−″原子
%より少なくては、磁性粒子の粒界にBaOまたはSr
Oを良好に析出して、腐食性ガスによる強磁性金属薄膜
層の表面の酸性化を良好に防止することができず、耐食
性を充分に向上することができない。また、5X10−
’原子%より多くするにしたがって顕著な効果が得られ
るが、5 X 10−’原子%より多くすると磁性粒子
の界面にBaOやSrOが多量に析出しすぎて強磁性金
属薄膜層を脆化し、磁気ヘッドの摺接により破壊されや
すくなって、スチル寿命が短くなり耐久性が劣化する。
ともBaまたはSrを強磁性金属薄膜層中の金属原子に
対して5X10−’〜5X10−’原子%の範囲内で含
有させたものであることが好ましく、5X10−″原子
%より少なくては、磁性粒子の粒界にBaOまたはSr
Oを良好に析出して、腐食性ガスによる強磁性金属薄膜
層の表面の酸性化を良好に防止することができず、耐食
性を充分に向上することができない。また、5X10−
’原子%より多くするにしたがって顕著な効果が得られ
るが、5 X 10−’原子%より多くすると磁性粒子
の界面にBaOやSrOが多量に析出しすぎて強磁性金
属薄膜層を脆化し、磁気ヘッドの摺接により破壊されや
すくなって、スチル寿命が短くなり耐久性が劣化する。
なお、強磁性金属薄膜層中には、BaまたはSrととも
に、同じアルカリ土類金属であるMgやCaを添加して
もよく、これらMgやCaを併用した場合も同じ効果が
得られる。
に、同じアルカリ土類金属であるMgやCaを添加して
もよく、これらMgやCaを併用した場合も同じ効果が
得られる。
このような、少なくともBaまたはSrを含有する強磁
性金属薄膜層を形成する強磁性材料としては、Co、F
e、Niまたはこれらの合金など、従来から磁気記録媒
体用として使用される強磁性材が、いずれも好適なもの
として使用されるが、特に、Co、Ni、さらにGoを
主成分とするCo−Cr合金、Go−Ni合金、Co−
P合金、Co−Fe合金、G o−F e−Cr合金な
どが好ましく使用される。
性金属薄膜層を形成する強磁性材料としては、Co、F
e、Niまたはこれらの合金など、従来から磁気記録媒
体用として使用される強磁性材が、いずれも好適なもの
として使用されるが、特に、Co、Ni、さらにGoを
主成分とするCo−Cr合金、Go−Ni合金、Co−
P合金、Co−Fe合金、G o−F e−Cr合金な
どが好ましく使用される。
このように、少なくともBaまたはSrを所定の割合で
含有させた強磁性金属薄膜層は、耐食性および耐久性が
充分に向上されるが、特に、C。
含有させた強磁性金属薄膜層は、耐食性および耐久性が
充分に向上されるが、特に、C。
を主成分とする強磁性金属薄膜層にこれらのBaまたは
Srを所定の割合で含有させ、この上にさらにCo不働
態膜層を形成すると、たとえ亜硫酸ガスのような腐食性
ガスがCo不働態膜層に吸着されて酸性化されても、強
磁性金属薄膜層中にBaまたはSrが所定の割合で含有
されているため、Co不働態膜層の破壊が抑制され、中
性ないし弱アルカリ性領域での高温多湿下におけるCo
不働態膜層の防食効果が、酸性化された腐食環境下にお
いても持続できて、耐食性が一段と向上される。
Srを所定の割合で含有させ、この上にさらにCo不働
態膜層を形成すると、たとえ亜硫酸ガスのような腐食性
ガスがCo不働態膜層に吸着されて酸性化されても、強
磁性金属薄膜層中にBaまたはSrが所定の割合で含有
されているため、Co不働態膜層の破壊が抑制され、中
性ないし弱アルカリ性領域での高温多湿下におけるCo
不働態膜層の防食効果が、酸性化された腐食環境下にお
いても持続できて、耐食性が一段と向上される。
このように、強磁性金属薄膜層上に形成するCo不働態
膜層は、Coを主成分とする強磁性金属薄膜層の表面に
、水分の吸湿付着処理と、脱水酸化処理とを、同時また
は分離して処理することによって形成され、これらの水
分の吸湿付着処理と脱水酸化処理とを同時に行う場合は
、水分の吸湿と脱水との矛盾する工程を同時に行う必要
から、50%RH以下の低湿度下で、40°C以上に加
熱することが望ましい。水分の吸湿付着処理と脱水酸化
処理とを同時に行う場合は、不働態化速度の制御が困難
なきらいがあり、この点、水分の吸湿付着処理と脱水酸
化処理とを別個に分離して行う場合は、制御が容易かつ
確実に行える。
膜層は、Coを主成分とする強磁性金属薄膜層の表面に
、水分の吸湿付着処理と、脱水酸化処理とを、同時また
は分離して処理することによって形成され、これらの水
分の吸湿付着処理と脱水酸化処理とを同時に行う場合は
、水分の吸湿と脱水との矛盾する工程を同時に行う必要
から、50%RH以下の低湿度下で、40°C以上に加
熱することが望ましい。水分の吸湿付着処理と脱水酸化
処理とを同時に行う場合は、不働態化速度の制御が困難
なきらいがあり、この点、水分の吸湿付着処理と脱水酸
化処理とを別個に分離して行う場合は、制御が容易かつ
確実に行える。
このような水分の吸湿付着処理は、水蒸気圧が10−3
ト一ル以上の雰囲気内に強磁性金属薄膜層を曝せばよく
、強磁性金属薄膜層を飽和水蒸気圧下に曝した場合は、
のちの脱水乾燥時に水分量を制御すればよい。しかしな
がら、通常の作業性などを考慮すれば室温にて30〜8
0%RHの湿度で0.1〜24時間放置するのが好まし
い。
ト一ル以上の雰囲気内に強磁性金属薄膜層を曝せばよく
、強磁性金属薄膜層を飽和水蒸気圧下に曝した場合は、
のちの脱水乾燥時に水分量を制御すればよい。しかしな
がら、通常の作業性などを考慮すれば室温にて30〜8
0%RHの湿度で0.1〜24時間放置するのが好まし
い。
また脱水酸化処理は、適切な酸化反応を行わせるために
、酸化反応の反応系外に水分を除去する必要があり、そ
のため強磁性金属薄膜層を形成した磁気記録媒体を閉じ
た系内で乾燥した状態で酸化反応させるのが好ましい。
、酸化反応の反応系外に水分を除去する必要があり、そ
のため強磁性金属薄膜層を形成した磁気記録媒体を閉じ
た系内で乾燥した状態で酸化反応させるのが好ましい。
この乾燥した状態で酸化反応をさせる方法としては、減
圧した後、純酸素ガスなどの酸素が主成分となる雰囲気
下で酸化反応させる以外に、乾燥剤の存在下で酸化反応
させてもよく、加熱酸素ガスを流通させるなどの方法で
もよい。また、密閉缶などを使用して閉じた系内で行う
場合は、この缶内を一旦100)−ル以下、好ましくは
50トール以下に減圧し、その後酸素ガスを分圧で50
%以上含有する雰囲気で、好ましくは加圧下で反応させ
るのが好ましい。なお、酸化反応時には、100%酸素
の純酸素ガスである必要はなく、酸素ガスを分圧で50
%以上含有させ、残りをArガス、N2ガスなどの不活
性ガスで占めるように混合したものを使用してもよい。
圧した後、純酸素ガスなどの酸素が主成分となる雰囲気
下で酸化反応させる以外に、乾燥剤の存在下で酸化反応
させてもよく、加熱酸素ガスを流通させるなどの方法で
もよい。また、密閉缶などを使用して閉じた系内で行う
場合は、この缶内を一旦100)−ル以下、好ましくは
50トール以下に減圧し、その後酸素ガスを分圧で50
%以上含有する雰囲気で、好ましくは加圧下で反応させ
るのが好ましい。なお、酸化反応時には、100%酸素
の純酸素ガスである必要はなく、酸素ガスを分圧で50
%以上含有させ、残りをArガス、N2ガスなどの不活
性ガスで占めるように混合したものを使用してもよい。
このような、水分の吸湿付着処理と、脱水酸化処理とが
行われると、化学式Co、O,・nH。
行われると、化学式Co、O,・nH。
OないしCo、O,・nH2Oで表されるような、主に
3価以上の高次のCoイオンを含むオキシ水酸化物層か
らなるCo不働態膜層が強磁性金属薄膜層上に形成され
、強磁性金属薄膜層の腐食が良好に防止されて、耐食性
および耐久性が充分に向上される。
3価以上の高次のCoイオンを含むオキシ水酸化物層か
らなるCo不働態膜層が強磁性金属薄膜層上に形成され
、強磁性金属薄膜層の腐食が良好に防止されて、耐食性
および耐久性が充分に向上される。
このようにして形成される磁気記録媒体としては、ポリ
エステルフィルム、ポリイミドフィルムなどの合成樹脂
フィルムを基体とする磁気テープや磁気ディスク、合成
樹脂フィルム、アルミニウム板およびガラス板等からな
る円盤やドラムを基体とする磁気ディスクや磁気ドラム
、さらに磁気カードなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。
エステルフィルム、ポリイミドフィルムなどの合成樹脂
フィルムを基体とする磁気テープや磁気ディスク、合成
樹脂フィルム、アルミニウム板およびガラス板等からな
る円盤やドラムを基体とする磁気ディスクや磁気ドラム
、さらに磁気カードなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
第1図に示す真空蒸着装置を使用し、厚さ12μmのポ
リエステルフィルム1を、真空槽2内で、供給ロール3
から円筒状キャン4の周側面に沿って移動させ、巻き取
りロール5に巻き取るようにセットした。次いで、真空
槽2の下部に配設した磁性材蒸発源6にBaまたはSr
を種々の割合で含有するCo−Ni合金(原子比80:
20)7をそれぞれセットし、排気系8で真空槽2内を
2X10−’)−ルまで真空排気した後、円筒状キャン
4とその直下に配設した防着板9との間に導入した酸素
ガス導入管10から酸素ガスを導入して、酸素ガス分圧
を2X10−’トールとした。そして、強磁性材蒸発源
6内のCo−Ni合金7を加熱蒸発させて、最低入射角
50度、蒸着速度8OOλ/secで斜め入射蒸着し、
厚さ1500人のBaまたはSrを種々の割合で含有し
たCo−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層を形成した
。
リエステルフィルム1を、真空槽2内で、供給ロール3
から円筒状キャン4の周側面に沿って移動させ、巻き取
りロール5に巻き取るようにセットした。次いで、真空
槽2の下部に配設した磁性材蒸発源6にBaまたはSr
を種々の割合で含有するCo−Ni合金(原子比80:
20)7をそれぞれセットし、排気系8で真空槽2内を
2X10−’)−ルまで真空排気した後、円筒状キャン
4とその直下に配設した防着板9との間に導入した酸素
ガス導入管10から酸素ガスを導入して、酸素ガス分圧
を2X10−’トールとした。そして、強磁性材蒸発源
6内のCo−Ni合金7を加熱蒸発させて、最低入射角
50度、蒸着速度8OOλ/secで斜め入射蒸着し、
厚さ1500人のBaまたはSrを種々の割合で含有し
たCo−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層を形成した
。
次に、このCo−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層を
形成したポリエステルフィルム1を、真空槽2から取り
出し、25“c160%RHの条件下で24時間静置し
て吸湿処理を行った。次いで、密閉容器に移し、15ト
ールまで減圧して脱湿した後、乾燥酸素ガスを容器内に
導入し、器内の酸素圧力を3.0kg/cnjとなるよ
うに加圧した。そしてこのまま7日間静置し、緩酸化反
応をすすめて強磁性金属薄膜層の表面にCo不働態膜層
を形成した。このCo不働態膜層をXPS分析したとこ
ろ、僅かに2価のCoイオンを含むが、はとんど3価以
上のCoイオンからなるcOオキシ水酸化物であった。
形成したポリエステルフィルム1を、真空槽2から取り
出し、25“c160%RHの条件下で24時間静置し
て吸湿処理を行った。次いで、密閉容器に移し、15ト
ールまで減圧して脱湿した後、乾燥酸素ガスを容器内に
導入し、器内の酸素圧力を3.0kg/cnjとなるよ
うに加圧した。そしてこのまま7日間静置し、緩酸化反
応をすすめて強磁性金属薄膜層の表面にCo不働態膜層
を形成した。このCo不働態膜層をXPS分析したとこ
ろ、僅かに2価のCoイオンを含むが、はとんど3価以
上のCoイオンからなるcOオキシ水酸化物であった。
しかる後、所定の幅に裁断して、第2図に示すようにポ
リエステルフィルム1上に、BaまたはSrを種々の割
合で含有したCo−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層
11およびCo不働態膜層12を順次に積層形成した多
数の磁気テープAをつくった。
リエステルフィルム1上に、BaまたはSrを種々の割
合で含有したCo−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層
11およびCo不働態膜層12を順次に積層形成した多
数の磁気テープAをつくった。
実施例2
実施例1において、Co不働態膜層の形成を省いた以外
は実施例1と同様にして、第3図に示すようなポリエス
テルフィルム1上に、BaまたはSrを種々の割合で含
有したCo−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層11を
形成し、多数の磁気テープBをつくった。
は実施例1と同様にして、第3図に示すようなポリエス
テルフィルム1上に、BaまたはSrを種々の割合で含
有したCo−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層11を
形成し、多数の磁気テープBをつくった。
比較例1
実施例1における強磁性金属薄膜層の形成において、B
aまたはSrを種々の割合で含有するco−Ni合金(
原子比80:20)に代えて、Ba、Srを含有しない
Co −N i合金(原子比80:20)を使用した以
外は、実施例1と同様にして、強磁性金属薄膜層を形成
し、さらにCo不働態膜層を形成して磁気テープをつく
った。
aまたはSrを種々の割合で含有するco−Ni合金(
原子比80:20)に代えて、Ba、Srを含有しない
Co −N i合金(原子比80:20)を使用した以
外は、実施例1と同様にして、強磁性金属薄膜層を形成
し、さらにCo不働態膜層を形成して磁気テープをつく
った。
比較例2
比較例1において、Co不働態膜層の形成を省いた以外
は比較例1と同様にして、Ba、Srを含有しないCo
−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テ
ープをつくった。
は比較例1と同様にして、Ba、Srを含有しないCo
−Ni合金からなる強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テ
ープをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
耐食性を調べた。耐食性は、SO□ 0.lppm 、
H2SO,O5ppm 、 NO20,lppmを
含有する環境下で、湿度75%RH1温度35°Cの雰
囲気下に、得られた磁気テープを7日間放置し、放置後
の飽和磁化を測定して、放置前の飽和磁化からの劣化率
を算出して調べた。
耐食性を調べた。耐食性は、SO□ 0.lppm 、
H2SO,O5ppm 、 NO20,lppmを
含有する環境下で、湿度75%RH1温度35°Cの雰
囲気下に、得られた磁気テープを7日間放置し、放置後
の飽和磁化を測定して、放置前の飽和磁化からの劣化率
を算出して調べた。
第4図は、耐食性の試験結果を、飽和磁化劣化率とBa
含有率との関係を示すグラフで表したものであり、にれ
らのグラフから明らかなように、実施例1および2で得
られた磁気テープは、いずれも比較例1および2で得ら
れた磁気テープに比し、飽和磁化の劣化率が小さい。
含有率との関係を示すグラフで表したものであり、にれ
らのグラフから明らかなように、実施例1および2で得
られた磁気テープは、いずれも比較例1および2で得ら
れた磁気テープに比し、飽和磁化の劣化率が小さい。
また、ME含有率と飽和磁化劣化率との関係を測定した
結果、第4図のB’a含有率との関係と同様の傾向が得
られた。
結果、第4図のB’a含有率との関係と同様の傾向が得
られた。
〔発明の効果]
第4図の耐食性の試験結果を示すグラフから明らかなよ
うに、この発明で得られた磁気テープ(実施例1および
2)は、いずれも比較例1および2で得られた磁気テー
プに比し、飽和磁化の劣化率が小さく、このことからこ
の発明によって得られる磁気記録媒体は耐食性に優れて
いることがわかる。
うに、この発明で得られた磁気テープ(実施例1および
2)は、いずれも比較例1および2で得られた磁気テー
プに比し、飽和磁化の劣化率が小さく、このことからこ
の発明によって得られる磁気記録媒体は耐食性に優れて
いることがわかる。
第1図はこの発明で使用する真空蒸着装置の概略断面図
、第2図および第3図はこの発明によって得られた磁気
テープの部分拡大断面図、第4図はこの発明によって得
られた磁気テープの飽和磁化劣化率と強磁性金属薄膜層
中におけるBa含有率との関係図である。 l・・・ポリエステルフィルム(基体)、11・・・強
磁性金属薄膜層、12・・・コバルト不働態膜層、AB
・・・磁気テープ(磁気記録媒体) 特許出願人 日立マクセル株式会社 第 図 第 図 A磁気テープ 駕 3 臣 B磁気テ プ
、第2図および第3図はこの発明によって得られた磁気
テープの部分拡大断面図、第4図はこの発明によって得
られた磁気テープの飽和磁化劣化率と強磁性金属薄膜層
中におけるBa含有率との関係図である。 l・・・ポリエステルフィルム(基体)、11・・・強
磁性金属薄膜層、12・・・コバルト不働態膜層、AB
・・・磁気テープ(磁気記録媒体) 特許出願人 日立マクセル株式会社 第 図 第 図 A磁気テープ 駕 3 臣 B磁気テ プ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体上に、少なくともBaまたはSrを含む強磁性
金属薄膜層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体 2、BaまたはSrの含有量が、強磁性金属薄膜層中の
金属原子に対し5×10^−^3〜5×10^−^1原
子%である請求項1記載の磁気記録媒体 3、強磁性金属薄膜層がCoを主成分とする強磁性金属
薄膜層である請求項1および2記載の磁気記録媒体 4、基体上に、Coを主成分とし、少なくともBaまた
はSrを含む強磁性金属薄膜層を設け、この強磁性金属
薄膜層上に、さらにCo不働態膜層を設けたことを特徴
とする磁気記録媒体 5、BaまたはSrの含有量が、強磁性金属薄膜層中の
金属原子に対し5×10^−^3〜5×10^−^1原
子%である請求項4記載の磁気記録媒体 6、Co不働態膜層が主に3価以上の高次のCoイオン
を含むオキシ水酸化物層である請求項4および5記載の
磁気記録媒体
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26217088A JPH02108224A (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26217088A JPH02108224A (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02108224A true JPH02108224A (ja) | 1990-04-20 |
Family
ID=17372036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26217088A Pending JPH02108224A (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02108224A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008226469A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-25 | Nippon Seiki Co Ltd | 押圧操作装置 |
-
1988
- 1988-10-17 JP JP26217088A patent/JPH02108224A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008226469A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-25 | Nippon Seiki Co Ltd | 押圧操作装置 |
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