JPS6390032A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6390032A JPS6390032A JP23594786A JP23594786A JPS6390032A JP S6390032 A JPS6390032 A JP S6390032A JP 23594786 A JP23594786 A JP 23594786A JP 23594786 A JP23594786 A JP 23594786A JP S6390032 A JPS6390032 A JP S6390032A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 claims abstract description 27
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 27
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 16
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 15
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 10
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 8
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 11
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 7
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 5
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 abstract description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 4
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- NVIVJPRCKQTWLY-UHFFFAOYSA-N cobalt nickel Chemical compound [Co][Ni][Co] NVIVJPRCKQTWLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- 229910020598 Co Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002519 Co-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021503 Cobalt(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017060 Fe Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002544 Fe-Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 cobalt cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- UPWOEMHINGJHOB-UHFFFAOYSA-N oxo(oxocobaltiooxy)cobalt Chemical compound O=[Co]O[Co]=O UPWOEMHINGJHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020676 Co—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018106 Ni—C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 1
- ASKVAEGIVYSGNY-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Co+2] ASKVAEGIVYSGNY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜層
を磁気記録層とした磁気記録媒体の製造方法に関し、さ
らに詳しくは、耐食性に優れかつ摩擦係数が小さくて走
行安定性および耐久性に優れた前記の磁気記録媒体の製
造方法に関する。
を磁気記録層とした磁気記録媒体の製造方法に関し、さ
らに詳しくは、耐食性に優れかつ摩擦係数が小さくて走
行安定性および耐久性に優れた前記の磁気記録媒体の製
造方法に関する。
〔従来の技術ゴ
コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜層を磁気記録層
とした磁気記録媒体は、通常、コバルトもしくはコバル
ト合金などを真空蒸着、スパッタリング等によって基体
フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に適した特
性を有するが、反面表面に金属が露出しているため空気
中の酸素によって酸化されやすく、磁気特性が低下した
り、また腐食生成物の成長によって磁気記録媒体の走行
不良を生じるなどの欠点がある。また磁気ヘッドとの摩
擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、走行安定性や
耐久性に劣るという難点がある。
とした磁気記録媒体は、通常、コバルトもしくはコバル
ト合金などを真空蒸着、スパッタリング等によって基体
フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に適した特
性を有するが、反面表面に金属が露出しているため空気
中の酸素によって酸化されやすく、磁気特性が低下した
り、また腐食生成物の成長によって磁気記録媒体の走行
不良を生じるなどの欠点がある。また磁気ヘッドとの摩
擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、走行安定性や
耐久性に劣るという難点がある。
このため、従来からこの種のコバルトを主成分とする強
磁性金属薄膜層の表面に、レーザーによる熱酸化(特開
昭58−130428号)、酸素ガスによるグロー放電
処理(特開昭58−41439号)、高温水蒸気処理(
特開昭57−123533号)、オゾン処理(特開昭5
9−63031号)などによって、少なくともスピネル
CO3O4またはCo2O3・H2Oで表される結晶性
の高次酸化物を形成し、耐食性、走行安定性および耐久
性を改善することが提案されている。
磁性金属薄膜層の表面に、レーザーによる熱酸化(特開
昭58−130428号)、酸素ガスによるグロー放電
処理(特開昭58−41439号)、高温水蒸気処理(
特開昭57−123533号)、オゾン処理(特開昭5
9−63031号)などによって、少なくともスピネル
CO3O4またはCo2O3・H2Oで表される結晶性
の高次酸化物を形成し、耐食性、走行安定性および耐久
性を改善することが提案されている。
ところが、これら従来の処理方法では設備が複雑になる
ものが多く、しかもスピネルCo30’4への酸化過程
が緩慢で効率が低く、処理時間が長時間化するという難
点がある。またこれらの方法で形成されたスピネルCo
3O4等のCO不働態膜は、いまひとつ耐食性を充分に
改善することができず、走行安定性および耐久性を充分
に向上させることが困難である。
ものが多く、しかもスピネルCo30’4への酸化過程
が緩慢で効率が低く、処理時間が長時間化するという難
点がある。またこれらの方法で形成されたスピネルCo
3O4等のCO不働態膜は、いまひとつ耐食性を充分に
改善することができず、走行安定性および耐久性を充分
に向上させることが困難である。
この発明はかかる現状に鑑み、鋭意研究を重ねた結果な
されたもので、基体上にコバルトを主成分とする強磁性
金属薄膜層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層を
酸素ガス存在下でグロー放電処理した後、水分付着処理
と脱水酸化処理とを同時または順次に分離して行うこと
によって、耐食性に優れたコバルト不働態膜を短時間で
効率よく形成し、強磁性金属薄膜層の耐食性、走行安定
性および耐久性を充分に向上させたものである。
されたもので、基体上にコバルトを主成分とする強磁性
金属薄膜層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層を
酸素ガス存在下でグロー放電処理した後、水分付着処理
と脱水酸化処理とを同時または順次に分離して行うこと
によって、耐食性に優れたコバルト不働態膜を短時間で
効率よく形成し、強磁性金属薄膜層の耐食性、走行安定
性および耐久性を充分に向上させたものである。
この発明において、基体上に形成されたコバルトを主成
分とする強磁性金属薄膜層のグロー放電処理は、酸素ガ
スの存在下で行われ、このようなグロー放電処理が行わ
れると、強磁性金属薄膜層の表面に、酸化膜はできない
までも酸素やより活性なオゾンが強固に吸着する。しか
して、このようなグロー放電処理を行った後、水分付着
処理と脱水酸化処理とを同時または順次に分離して行う
と、コバルトのコバルト不働態膜への移行が比較的容易
に進行し、強磁性金属薄膜層の表面に非晶質のコバルト
化合物からなるコバルト不働態膜が、短時間で効率よく
形成される。そして、このコバルト不働態膜によって、
腐食のメカニズムであるコバルトカチオンの拡散が阻止
され、腐食が良好に防止されて、強磁性金属薄膜層の耐
食性が充分に向上される。また、高温多湿下に放置した
場合に、水酸化コバル)Co (OH)2などの腐食生
成物によって生じる走行性の劣化も防止され、摩擦係数
が充分に低減されて走行安定性および耐久性が充分に向
上される。
分とする強磁性金属薄膜層のグロー放電処理は、酸素ガ
スの存在下で行われ、このようなグロー放電処理が行わ
れると、強磁性金属薄膜層の表面に、酸化膜はできない
までも酸素やより活性なオゾンが強固に吸着する。しか
して、このようなグロー放電処理を行った後、水分付着
処理と脱水酸化処理とを同時または順次に分離して行う
と、コバルトのコバルト不働態膜への移行が比較的容易
に進行し、強磁性金属薄膜層の表面に非晶質のコバルト
化合物からなるコバルト不働態膜が、短時間で効率よく
形成される。そして、このコバルト不働態膜によって、
腐食のメカニズムであるコバルトカチオンの拡散が阻止
され、腐食が良好に防止されて、強磁性金属薄膜層の耐
食性が充分に向上される。また、高温多湿下に放置した
場合に、水酸化コバル)Co (OH)2などの腐食生
成物によって生じる走行性の劣化も防止され、摩擦係数
が充分に低減されて走行安定性および耐久性が充分に向
上される。
このような酸素ガス存在下でのグロー放電処理は、酸素
ガス圧を104〜1トールとし、直流電圧を400〜1
ooovにするか、あるいは高周波電力を50〜300
Wにして行うのが好ましく、酸素ガス圧が低すぎては所
期の効果が得られず、また高すぎると安定したグロー放
電が保てず、やはり効果的でない。また、このグロー放
電処理は100%酸素の純酸素ガス存在下で行う必要は
なく、酸素ガスを分圧で50%以上含有させ、これにA
rガス、N2ガスなどの不活性ガスを混合して残りをこ
れらの不活性ガスにした混合ガス存在下で行ってもよい
。
ガス圧を104〜1トールとし、直流電圧を400〜1
ooovにするか、あるいは高周波電力を50〜300
Wにして行うのが好ましく、酸素ガス圧が低すぎては所
期の効果が得られず、また高すぎると安定したグロー放
電が保てず、やはり効果的でない。また、このグロー放
電処理は100%酸素の純酸素ガス存在下で行う必要は
なく、酸素ガスを分圧で50%以上含有させ、これにA
rガス、N2ガスなどの不活性ガスを混合して残りをこ
れらの不活性ガスにした混合ガス存在下で行ってもよい
。
このようにして酸素ガス存在下でグロー放電処理された
強磁性金属薄膜層は、次いで、水分付着処理と脱水酸化
処理が同時または順次に分離して行われ、非晶質のコバ
ルト化合物からなるコバルト不働態膜が形成される。
強磁性金属薄膜層は、次いで、水分付着処理と脱水酸化
処理が同時または順次に分離して行われ、非晶質のコバ
ルト化合物からなるコバルト不働態膜が形成される。
水分付着処理と脱水酸化処理との同時処理は、グロー放
電処理された強磁性金属薄膜層を、酸素ガスと水分の存
在下で加熱処理するなどして行われ、この際の熱処理温
度は、約140℃以下、特に約35〜100℃の範囲内
とするのが好ましく、さらに約40〜90℃の範囲内に
するのがより好ましい。また、熱処理時における湿度は
70%RH以下が好ましく、湿度がこれ以上高くなると
、強磁性金属薄膜層の表面側部分にアモルファス状のC
o (OH)2が生成しやすくなるため好ましくない。
電処理された強磁性金属薄膜層を、酸素ガスと水分の存
在下で加熱処理するなどして行われ、この際の熱処理温
度は、約140℃以下、特に約35〜100℃の範囲内
とするのが好ましく、さらに約40〜90℃の範囲内に
するのがより好ましい。また、熱処理時における湿度は
70%RH以下が好ましく、湿度がこれ以上高くなると
、強磁性金属薄膜層の表面側部分にアモルファス状のC
o (OH)2が生成しやすくなるため好ましくない。
また、水分付着処理と脱水酸化処理とを順次に分離して
行う場合は、グロー放電処理された強磁性金属薄膜層を
、水蒸気にさらして水分を吸湿させ、しかる後、乾燥し
、さらに酸化して行われる。この水分付着処理は、10
−51−−ル以上の水蒸気圧を有する雰囲気にさらして
水分を吸湿させるのが好ましく、作業性などを考慮すれ
ば、室温下、10〜70%RHの湿度で0.1〜24時
間、好ましくは0.1〜6時間放置するのが好ましい。
行う場合は、グロー放電処理された強磁性金属薄膜層を
、水蒸気にさらして水分を吸湿させ、しかる後、乾燥し
、さらに酸化して行われる。この水分付着処理は、10
−51−−ル以上の水蒸気圧を有する雰囲気にさらして
水分を吸湿させるのが好ましく、作業性などを考慮すれ
ば、室温下、10〜70%RHの湿度で0.1〜24時
間、好ましくは0.1〜6時間放置するのが好ましい。
また脱水酸化処理は、適切な酸化反応を行わせるために
、酸化反応の反応系外に水分を除去する必要があり、そ
のため、水分が吸着された強磁性金属薄膜層を閉じた系
内で乾燥した状態で酸化反応させることが好ましい。し
かして、水分が吸着された強磁性金属薄膜層を、100
トール以下の減圧下で乾燥し、その後2気圧以下の酸素
分圧が主成分となる雰囲気下で酸化反応させるなどして
行われ、この他、乾燥剤の存在下で酸化反応させる方法
や、加熱酸素ガスの流通などの方法も採用し得る。さら
に、酸化反応時には、100%酸素の純酸素ガスである
必要はなく、酸素ガスを分圧で50%以上含有させ、残
りをArガス、N2ガスなどの不活性ガスを混合したも
のでも使用し得る。
、酸化反応の反応系外に水分を除去する必要があり、そ
のため、水分が吸着された強磁性金属薄膜層を閉じた系
内で乾燥した状態で酸化反応させることが好ましい。し
かして、水分が吸着された強磁性金属薄膜層を、100
トール以下の減圧下で乾燥し、その後2気圧以下の酸素
分圧が主成分となる雰囲気下で酸化反応させるなどして
行われ、この他、乾燥剤の存在下で酸化反応させる方法
や、加熱酸素ガスの流通などの方法も採用し得る。さら
に、酸化反応時には、100%酸素の純酸素ガスである
必要はなく、酸素ガスを分圧で50%以上含有させ、残
りをArガス、N2ガスなどの不活性ガスを混合したも
のでも使用し得る。
強磁性金属薄膜層の形成材料としては、CO単体の他、
coを主成分として含むCo−Ni合金、Co−Cr合
金、Co−P合金、Co−Fe合金、Co−N1−P合
金、Co−Fe−Cr合金、Co−Ni−Cr合金等の
Co合金が好適なものとして使用され、これらの強磁性
材は、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体フィルム上に被着され
、coを主成分とした金属からなる強磁性金属薄膜層が
形成される。なお、強磁性材として、前記のCo −N
i合金ならびにCo−N1−P合金、Go−Ni−C
r合金を使用する場合は、Niの含有率が40重量%以
下であることが好ましく、Co−Cr合金、Co−’P
金合金Co−Fe合金ならびにCo−Fe−Cr合金を
使用する場合は、Cr、PならびにFeの含有率が30
重量%以下であることが好ましい。また強磁性金属薄膜
層の形成手段としては、真空蒸着、イオンブレーティン
グおよびスパッタリングによると、高保磁力が得られ、
耐食性および走行性の向上も良好であるため、特に好ま
しい。
coを主成分として含むCo−Ni合金、Co−Cr合
金、Co−P合金、Co−Fe合金、Co−N1−P合
金、Co−Fe−Cr合金、Co−Ni−Cr合金等の
Co合金が好適なものとして使用され、これらの強磁性
材は、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体フィルム上に被着され
、coを主成分とした金属からなる強磁性金属薄膜層が
形成される。なお、強磁性材として、前記のCo −N
i合金ならびにCo−N1−P合金、Go−Ni−C
r合金を使用する場合は、Niの含有率が40重量%以
下であることが好ましく、Co−Cr合金、Co−’P
金合金Co−Fe合金ならびにCo−Fe−Cr合金を
使用する場合は、Cr、PならびにFeの含有率が30
重量%以下であることが好ましい。また強磁性金属薄膜
層の形成手段としては、真空蒸着、イオンブレーティン
グおよびスパッタリングによると、高保磁力が得られ、
耐食性および走行性の向上も良好であるため、特に好ま
しい。
また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルム、およびこ
れらの合成樹脂フィルム中に炭素繊維あるいは銅などの
無機物を混入した複合材料フィルムなどを基体とする磁
気テープ、合成樹脂フィルム、前記複合材料フィルム、
アルミニウム板およびガラス板等からなる円盤やドラム
を基体とする磁気ディスクや磁気ドラム、さらに磁気カ
ードなど、磁気ヘッドと摺接する構造の種々の形態を包
含する。
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルム、およびこ
れらの合成樹脂フィルム中に炭素繊維あるいは銅などの
無機物を混入した複合材料フィルムなどを基体とする磁
気テープ、合成樹脂フィルム、前記複合材料フィルム、
アルミニウム板およびガラス板等からなる円盤やドラム
を基体とする磁気ディスクや磁気ドラム、さらに磁気カ
ードなど、磁気ヘッドと摺接する構造の種々の形態を包
含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
第1図に示すように、真空槽1内を隔壁2で区画して、
真空蒸着室3と巻き取り室4を設け、さらに隔壁5で区
画してグロー放電処理室6を設けた真空蒸着装置を使用
し、厚さ12μmのポリエステルフィルム7を、巻き取
り室4内の原反ロール8から、真空蒸着室3、巻き取り
室4およびグロー放電処理室6に跨って配設された円筒
状キャン9の周側面に沿って走行させ、巻取りロール1
0に巻き取るようにセントした。同時に真空蒸着室3内
下部に配置した強磁性材蒸発源11内に、コバルト−ニ
ッケル合金(重it比80 : 20 ) 12をセ
ットした。次いで、真空蒸着室3に連結した排気系13
で真空蒸着室3内を5X10−5iルまで減圧し、巻き
取り室4に連結した排気系14でグロー放電処理室6内
をlXl0−’トールまで減圧したのち、真空蒸着室3
に連結したガス導入管15から酸素ガスをO,i/分の
流量で導入し、強磁性材蒸発源11内のコバルト−ニッ
ケル合金12を加熱蒸発して真空蒸着を行い、ポリエス
テルフィルム7上に厚さ1500人のコバルト−ニッケ
ル合金からなる強磁性金属薄膜層を形成した。引き続い
て、グロー放電処理室6に連結したガス導入管16から
酸素ガスを0.51!/分の流量で導入し、グロー放電
処理室6内に配設した電極17に、直流□電圧を500
V印加してグロー放電処理を行った。なお、第1図中1
8は直流電極17に直流電圧を印加する直流電源である
。
真空蒸着室3と巻き取り室4を設け、さらに隔壁5で区
画してグロー放電処理室6を設けた真空蒸着装置を使用
し、厚さ12μmのポリエステルフィルム7を、巻き取
り室4内の原反ロール8から、真空蒸着室3、巻き取り
室4およびグロー放電処理室6に跨って配設された円筒
状キャン9の周側面に沿って走行させ、巻取りロール1
0に巻き取るようにセントした。同時に真空蒸着室3内
下部に配置した強磁性材蒸発源11内に、コバルト−ニ
ッケル合金(重it比80 : 20 ) 12をセ
ットした。次いで、真空蒸着室3に連結した排気系13
で真空蒸着室3内を5X10−5iルまで減圧し、巻き
取り室4に連結した排気系14でグロー放電処理室6内
をlXl0−’トールまで減圧したのち、真空蒸着室3
に連結したガス導入管15から酸素ガスをO,i/分の
流量で導入し、強磁性材蒸発源11内のコバルト−ニッ
ケル合金12を加熱蒸発して真空蒸着を行い、ポリエス
テルフィルム7上に厚さ1500人のコバルト−ニッケ
ル合金からなる強磁性金属薄膜層を形成した。引き続い
て、グロー放電処理室6に連結したガス導入管16から
酸素ガスを0.51!/分の流量で導入し、グロー放電
処理室6内に配設した電極17に、直流□電圧を500
V印加してグロー放電処理を行った。なお、第1図中1
8は直流電極17に直流電圧を印加する直流電源である
。
次いで、このコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金
属薄膜層を形成し、グロー放電処理を施したポリエステ
ルフィルム7を、真空槽1がら取11L、60℃、20
%RHの大気圧下で3日間処理した。しかる後、所定の
幅に裁断して磁気テープをつくった。
属薄膜層を形成し、グロー放電処理を施したポリエステ
ルフィルム7を、真空槽1がら取11L、60℃、20
%RHの大気圧下で3日間処理した。しかる後、所定の
幅に裁断して磁気テープをつくった。
実施例2
実施例1と同様にして強磁性金属薄膜層を形成し、さら
にグロー放電処理した後、真空蒸着装置3およびグロー
放電処理室6内の真空度を約30分かけて25℃、40
%RHの大気圧に戻し、この状態で約3時間放置した。
にグロー放電処理した後、真空蒸着装置3およびグロー
放電処理室6内の真空度を約30分かけて25℃、40
%RHの大気圧に戻し、この状態で約3時間放置した。
次いで、この磁気記録媒体巻回体を密閉缶に封入し、密
閉缶内を約10トールまで減圧後、酸素ガスを圧入して
1.3気圧とし、室温(25℃)で約70時間密閉缶内
で磁気記録媒体巻回体の酸化処理を行った。しかる後、
所定の幅に裁断して磁気テープをつくった。
閉缶内を約10トールまで減圧後、酸素ガスを圧入して
1.3気圧とし、室温(25℃)で約70時間密閉缶内
で磁気記録媒体巻回体の酸化処理を行った。しかる後、
所定の幅に裁断して磁気テープをつくった。
比較例1
実施例1において、グロー放電処理を省いた以外は、実
施例1と同様にして磁気テープをつくった。
施例1と同様にして磁気テープをつくった。
比較例2
実施例2において、グロー放電処理を省いた以外は、実
施例2と同様にして磁気テープをつくった。
施例2と同様にして磁気テープをつくった。
比較例3
実施例1において、グロー放電処理、水分付着処理なら
びに脱水酸化処理を省いた以外は実施例1と同様にして
磁気テープをつくった。
びに脱水酸化処理を省いた以外は実施例1と同様にして
磁気テープをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
摩擦係数を測定した。摩擦係数は、摺動式動摩擦係数測
定機を用い、各磁気テープを60℃、90%RHの環境
下に8週間静置したときの摩擦係数を経時的に測定した
。
摩擦係数を測定した。摩擦係数は、摺動式動摩擦係数測
定機を用い、各磁気テープを60℃、90%RHの環境
下に8週間静置したときの摩擦係数を経時的に測定した
。
第2図はこのようにして測定した摩擦係数の経時的変化
を示したものである。
を示したものである。
第2図のグラフから明らかなように、比較例1ないし3
で得られた磁気テープは、高温高湿の雰囲気下に長時間
放置すると、摩擦係数が増大する傾向にあるが、この発
明で得られた磁気テープ(実施例1および2)は、いず
れも摩擦係数の経時変化が殆どな(、常に安定した低い
摩擦係数を有し、このことからこの発明の製造方法によ
れば、耐食性に優れ、摩擦係数が小さくて走行安定性お
よび耐久性に優れた磁気記録媒体が得られることがわか
る。
で得られた磁気テープは、高温高湿の雰囲気下に長時間
放置すると、摩擦係数が増大する傾向にあるが、この発
明で得られた磁気テープ(実施例1および2)は、いず
れも摩擦係数の経時変化が殆どな(、常に安定した低い
摩擦係数を有し、このことからこの発明の製造方法によ
れば、耐食性に優れ、摩擦係数が小さくて走行安定性お
よび耐久性に優れた磁気記録媒体が得られることがわか
る。
第1図はこの発明で使用する真空蒸着装置の概略断面図
、第2図は摩擦係数特性図である。
、第2図は摩擦係数特性図である。
Claims (1)
- 1、基体上に、コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜
層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層を酸素ガス
存在下でグロー放電処理した後、水分付着処理と脱水酸
化処理とを同時または順次に分離して行い、強磁性金属
薄膜層の表面にコバルト不働態膜を形成することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23594786A JPS6390032A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23594786A JPS6390032A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6390032A true JPS6390032A (ja) | 1988-04-20 |
Family
ID=16993574
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23594786A Pending JPS6390032A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6390032A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03201217A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-09-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-10-02 JP JP23594786A patent/JPS6390032A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03201217A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-09-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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