JPS639022A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS639022A JPS639022A JP15221286A JP15221286A JPS639022A JP S639022 A JPS639022 A JP S639022A JP 15221286 A JP15221286 A JP 15221286A JP 15221286 A JP15221286 A JP 15221286A JP S639022 A JPS639022 A JP S639022A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜層
を磁気記録層とした磁気記録媒体の製造方法に関し、さ
らに詳しくは、耐食性および走行性に優れた前記の磁気
記録媒体の製造方法に関する。
を磁気記録層とした磁気記録媒体の製造方法に関し、さ
らに詳しくは、耐食性および走行性に優れた前記の磁気
記録媒体の製造方法に関する。
コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜層を磁気記録層
とする磁気記録媒体は、通常、コバルトもしくはコバル
ト合金などを真空蒸着、スパッタリング等によって基体
フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に適した特
性を有するが、反面磁気ヘッドとの摩擦係数が大きくて
走行性に劣り、また空気中で除々に酸化を受けて最大磁
束密度などの磁気特性が劣化するなどの難点がある。
とする磁気記録媒体は、通常、コバルトもしくはコバル
ト合金などを真空蒸着、スパッタリング等によって基体
フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に適した特
性を有するが、反面磁気ヘッドとの摩擦係数が大きくて
走行性に劣り、また空気中で除々に酸化を受けて最大磁
束密度などの磁気特性が劣化するなどの難点がある。
このため、この種のコバルトを主成分とする強磁性金属
薄膜層の表面をグロー放電により酸化して強磁性材の酸
化物層を形成したり、あるいは有機化合物からなる保護
膜層を設けたりして走行性および耐食性を改善すること
が行われている。(特開昭58−41439号、特開昭
60−219634号) 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、この種のコバルトを主成分とする強磁性金属
薄膜層の表面に強磁性材の酸化物層を設けたり、あるい
は有機化合物からなる保護膜層を設けたものは、耐食性
および走行性を改善することはできるものの未だ充分で
はなく、特に高温多湿の条件下では、未だ走行性および
耐食性を充分に改善することができない。
薄膜層の表面をグロー放電により酸化して強磁性材の酸
化物層を形成したり、あるいは有機化合物からなる保護
膜層を設けたりして走行性および耐食性を改善すること
が行われている。(特開昭58−41439号、特開昭
60−219634号) 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、この種のコバルトを主成分とする強磁性金属
薄膜層の表面に強磁性材の酸化物層を設けたり、あるい
は有機化合物からなる保護膜層を設けたものは、耐食性
および走行性を改善することはできるものの未だ充分で
はなく、特に高温多湿の条件下では、未だ走行性および
耐食性を充分に改善することができない。
この発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果な
されたもので、コバルトを主成分とする金属からなる強
磁性金属薄膜層の表面を過酸化水素を含む水溶液で処理
することによって、強磁性金運薄膜層の表面に緻密なコ
バルトの酸化水和物層を形成し、この緻密なコバルトの
酸化水和物層でもって、耐食性および走行性を充分に向
上させたものである。
されたもので、コバルトを主成分とする金属からなる強
磁性金属薄膜層の表面を過酸化水素を含む水溶液で処理
することによって、強磁性金運薄膜層の表面に緻密なコ
バルトの酸化水和物層を形成し、この緻密なコバルトの
酸化水和物層でもって、耐食性および走行性を充分に向
上させたものである。
この発明において、コバルトを主成分とする強磁性金属
薄膜層表面の過酸化水素を含む水溶液での処理は、強磁
性金属薄膜層を、過酸化水素を含む水溶液中に浸漬する
などの方法で行われ、このような過酸化水素処理が行わ
れると、強磁性金属薄膜層の表面に緻密なコバルトの酸
化水和物が生じて、強磁性金属薄膜層の表面がこの緻密
なコバルトの酸化水和物によって被覆される。従って、
強磁性金属薄膜層上に強固に被覆された緻密なコバルト
の酸化水和物によって、走行性および耐食性が充分に向
上される。
薄膜層表面の過酸化水素を含む水溶液での処理は、強磁
性金属薄膜層を、過酸化水素を含む水溶液中に浸漬する
などの方法で行われ、このような過酸化水素処理が行わ
れると、強磁性金属薄膜層の表面に緻密なコバルトの酸
化水和物が生じて、強磁性金属薄膜層の表面がこの緻密
なコバルトの酸化水和物によって被覆される。従って、
強磁性金属薄膜層上に強固に被覆された緻密なコバルト
の酸化水和物によって、走行性および耐食性が充分に向
上される。
このような過酸化水素を含む水溶液の処理は、過酸化水
素の濃度を0.1〜10重量%の範囲内とし、さらに好
ましくは1〜5重量%の範囲内にして行うのが好ましく
、過酸化水素の濃度が0.1ii量%より低すぎては、
充分に緻密なコバルトの酸化水和物層を形成することが
できず、10重量%より高すぎるとコバルト水酸化物C
o(OH)2が形成され腐食してしまう。また処理温度
は15〜60℃の範囲内とし、さらに好ましくは20〜
40℃の範囲内にするのが好ましく、温度が15℃より
低くては緻密なコバルトの酸化水和物層を良好に形成す
ることができず、60℃より高くすると過酸化水素処理
剤の安定性が劣化し均一な処理が行えない。さらに、処
理時間は、前記の過酸化水素の濃度および処理温度で異
なるが、1秒間より短いと所期の効果が得られず、60
秒間より長くすると初期の磁性層表面の形状が損なわれ
、走行性劣化の原因となるため、1〜60秒間の範囲内
にするのが好ましい。
素の濃度を0.1〜10重量%の範囲内とし、さらに好
ましくは1〜5重量%の範囲内にして行うのが好ましく
、過酸化水素の濃度が0.1ii量%より低すぎては、
充分に緻密なコバルトの酸化水和物層を形成することが
できず、10重量%より高すぎるとコバルト水酸化物C
o(OH)2が形成され腐食してしまう。また処理温度
は15〜60℃の範囲内とし、さらに好ましくは20〜
40℃の範囲内にするのが好ましく、温度が15℃より
低くては緻密なコバルトの酸化水和物層を良好に形成す
ることができず、60℃より高くすると過酸化水素処理
剤の安定性が劣化し均一な処理が行えない。さらに、処
理時間は、前記の過酸化水素の濃度および処理温度で異
なるが、1秒間より短いと所期の効果が得られず、60
秒間より長くすると初期の磁性層表面の形状が損なわれ
、走行性劣化の原因となるため、1〜60秒間の範囲内
にするのが好ましい。
このような過酸化水素を含む水溶液での処理を終えた強
磁性金属薄膜層は、熱風で乾燥するか、あるいはイオン
交換水、蒸留水などで充分に洗浄した後、熱風乾燥して
処理が完了される。
磁性金属薄膜層は、熱風で乾燥するか、あるいはイオン
交換水、蒸留水などで充分に洗浄した後、熱風乾燥して
処理が完了される。
強磁性金gvr#膜屡の形成材料としては、CO単体の
他、COを主成分として含むCo−Cr合金、Co−N
i合金、Co−P合金、Co−N1−P合金、Co−F
e合金、Co−Fe−Cr合金、Co−Ni−Cr合金
などのCo合金が好適なものとして使用され、これらの
強磁性材は、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッ
タリング、メッキ等の手段によって基体上に被着され、
C。
他、COを主成分として含むCo−Cr合金、Co−N
i合金、Co−P合金、Co−N1−P合金、Co−F
e合金、Co−Fe−Cr合金、Co−Ni−Cr合金
などのCo合金が好適なものとして使用され、これらの
強磁性材は、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッ
タリング、メッキ等の手段によって基体上に被着され、
C。
を主成分とした金属からなる強磁性金属薄膜層が形成さ
れる。
れる。
また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラム、さらに磁気カードなど、磁気ヘッ
ドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラム、さらに磁気カードなど、磁気ヘッ
ドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
第1図に示す真空蒸着装置を使用し、厚さ12μmのポ
リエステルフィルム1を、真空槽2内の原反ロール3か
らガイドロール4を介して円筒状キャン5の周側面に沿
って移動させ、ガイドロール6を介して巻き取りロール
7に巻き取るようにセットした。同時に真空槽2内下部
に配置した強磁性材蒸発源8内に、コバルト−ニッケル
合金(重量比80:20)9をセットした。次いで、真
空槽2に連結した排気系10で真空槽2内を5×10−
’)−ルまで減圧した後、酸素ガス導入管11から酸素
ガスを0.41 /分の流量で導入し、強磁性材蒸発源
8内のコバルト−ニッケル合金9を加熱蒸発して真空蒸
着を行い、ポリエステルフィルム1上にJlc1500
人のコバルト−ニー/ ケル合金からなる強磁性金属薄
膜層を形成した。
リエステルフィルム1を、真空槽2内の原反ロール3か
らガイドロール4を介して円筒状キャン5の周側面に沿
って移動させ、ガイドロール6を介して巻き取りロール
7に巻き取るようにセットした。同時に真空槽2内下部
に配置した強磁性材蒸発源8内に、コバルト−ニッケル
合金(重量比80:20)9をセットした。次いで、真
空槽2に連結した排気系10で真空槽2内を5×10−
’)−ルまで減圧した後、酸素ガス導入管11から酸素
ガスを0.41 /分の流量で導入し、強磁性材蒸発源
8内のコバルト−ニッケル合金9を加熱蒸発して真空蒸
着を行い、ポリエステルフィルム1上にJlc1500
人のコバルト−ニー/ ケル合金からなる強磁性金属薄
膜層を形成した。
次いで、このコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金
属薄膜層を形成したポリエステルフィルム1を、真空槽
2から取り出し、過酸化水素の1重量%水溶液に、25
℃の温度で45秒間浸漬して処理し、熱風乾燥を行った
。しかる後、所定の幅に裁断して磁気テープをつくった
。
属薄膜層を形成したポリエステルフィルム1を、真空槽
2から取り出し、過酸化水素の1重量%水溶液に、25
℃の温度で45秒間浸漬して処理し、熱風乾燥を行った
。しかる後、所定の幅に裁断して磁気テープをつくった
。
実施例2
実施例1における過酸化水素処理において、過酸化水素
の濃度を1重量%から5重量%に変更し、処理時間を4
5秒から10秒に変更した以外は実施例1と同様にして
過酸化水素処理を行い、磁気テープをつくった。
の濃度を1重量%から5重量%に変更し、処理時間を4
5秒から10秒に変更した以外は実施例1と同様にして
過酸化水素処理を行い、磁気テープをつくった。
比較例1
実施例1において、過酸化水素処理に代えて、25℃の
水に45秒浸漬して水処理を行った以外は実施例1と同
様にして磁気テープをつくった。
水に45秒浸漬して水処理を行った以外は実施例1と同
様にして磁気テープをつくった。
比較例2
実施例1において、過酸化水素処理を省き、強磁性金属
薄膜層上に、ステアリン酸の0.1重量%メチルイソブ
チルケトン溶液を塗布し、乾燥してステアリン酸からな
る保護膜を形成した以外は、実施例1と同様にして磁気
テープをつくった。
薄膜層上に、ステアリン酸の0.1重量%メチルイソブ
チルケトン溶液を塗布し、乾燥してステアリン酸からな
る保護膜を形成した以外は、実施例1と同様にして磁気
テープをつくった。
比較例3
実施例1において、過酸化水素処理を省いた以外は、実
施例1と同様にして磁気テープをつくった。
施例1と同様にして磁気テープをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
摩擦係数を測定し、耐食性を試験した。
摩擦係数を測定し、耐食性を試験した。
摩擦係数は、得られた磁気テープを60℃、90%RH
の条件下に7日間静置して静置前と静置後の摩擦係数を
測定した。また耐食性試験は、得られた磁気テープを6
0℃、90%RHの条件下に7日間静置して、静置前後
の腐食の様子を光学顕微鏡で観察して行い、腐食が認め
られず良好な場合を(◎)、全面に腐食が認められる場
合を(×)として評価した。
の条件下に7日間静置して静置前と静置後の摩擦係数を
測定した。また耐食性試験は、得られた磁気テープを6
0℃、90%RHの条件下に7日間静置して、静置前後
の腐食の様子を光学顕微鏡で観察して行い、腐食が認め
られず良好な場合を(◎)、全面に腐食が認められる場
合を(×)として評価した。
下表はその結果である。
表
〔発明の効果〕
上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ(実施例1および2)は、いずれも比較例1ないし3
で得られた磁気テープに比し、耐食性が良好で摩擦係数
が小さく、このことからこの発明によって得られる磁気
記録媒体は、耐食性および走行性が一段と向上されてい
ることがわかる。
プ(実施例1および2)は、いずれも比較例1ないし3
で得られた磁気テープに比し、耐食性が良好で摩擦係数
が小さく、このことからこの発明によって得られる磁気
記録媒体は、耐食性および走行性が一段と向上されてい
ることがわかる。
第1図はこの発明の磁気記録媒体を製造するのに使用す
る真空蒸着装置の1例を示す概略断面図である。
る真空蒸着装置の1例を示す概略断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体上にコバルトを主成分とする金属からなる強磁
性金属薄膜層を形成し、この強磁性金属薄膜層の表面を
過酸化水素を含む水溶液で処理することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法 2、過酸化水素を含む水溶液の過酸化水素の濃度を0.
1〜10重量%の範囲内にした特許請求の範囲第1項記
載の磁気記録媒体の製造方法 3、過酸化水素を含む水溶液で処理する温度を15〜6
0℃の範囲内にした特許請求の範囲第1項および第2項
記載の磁気記録媒体の製造方法 4、過酸化水素を含む水溶液で処理する処理時間を1〜
60秒の範囲内にした特許請求の範囲第1項ないし第3
項記載の磁気記録媒体の製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15221286A JPS639022A (ja) | 1986-06-28 | 1986-06-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15221286A JPS639022A (ja) | 1986-06-28 | 1986-06-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS639022A true JPS639022A (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=15535520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15221286A Pending JPS639022A (ja) | 1986-06-28 | 1986-06-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS639022A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH038292U (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-25 |
-
1986
- 1986-06-28 JP JP15221286A patent/JPS639022A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH038292U (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-25 |
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