JPH038117A - 磁気記録テープの製造方法 - Google Patents

磁気記録テープの製造方法

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JPH038117A
JPH038117A JP14259589A JP14259589A JPH038117A JP H038117 A JPH038117 A JP H038117A JP 14259589 A JP14259589 A JP 14259589A JP 14259589 A JP14259589 A JP 14259589A JP H038117 A JPH038117 A JP H038117A
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JP
Japan
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magnetic recording
coat layer
back coat
recording tape
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP14259589A
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English (en)
Inventor
Minoru Ichijo
稔 一條
Kunio Wakai
若居 邦夫
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Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Publication of JPH038117A publication Critical patent/JPH038117A/ja
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は磁気記録テープに関する。更に詳細には、本発
明は耐久性が向上された磁気記録テープの製造方法に関
する。
〔従来の技術] 磁気記録テープは磁気ヘッドやガイドビン等と常に摺接
するため、高度な走行耐久性が要求される。オーディオ
テープの場合はベースフィルム面を荒らすことにより対
応しているが、スタンダードビデオテープ、ハイグレー
ドビデオテープ、8m m V T R用メタルビデオ
テープとテープのグレードが上がるにつれて高S/N1
高記録密度のためにベースフィルムの平滑性が要求され
、走行耐久性の向上には磁気記録層の反対の面にカーボ
ンや種々のフィラーおよびバインダよりなるバック。
コート層を設けることにより対応している。
特に強磁性金属薄膜を磁気記録層とする高記録密度磁気
テープにおいては走行性の劣る超平滑なベースフィルム
を使用するため、バックコート層の形成は不可欠となっ
ている。
[発明が解決しようとする課題] ところがバインダの架橋が不完全でバックコート層の強
度が部分でないため走行中にバックコート層が傷ついた
り、また固形分がこぼれ落ちる、いわゆる「粉落ち」現
象がヘッド目詰まりの原因となるなどの問題がある。
本発明は上記従来品のバックコート層の欠陥を改善し、
以て走行性、耐久性に優れた磁気記録テープの製造方法
を提供することを目的とする。
[課通を解決するための手段] 前記目的を達成するために、本発明では、少なくとも、
非磁性基体の表面に磁気記録層を形成し、裏面にバック
コート層を形成してなる磁気記録テープの製造方法にお
いて、バックコート層形成後に真空槽中でバックコート
層表面をプラズマに曝してプラズマ処理する。
[作用] 非磁性基体の裏面にバックコート層を有する磁気記録媒
体において、真空槽中でバックコート層の表面をプラズ
マに曝してプラズマ処理することにより、バックコート
層表面の低分子量成分をエツチングし、同時に表面のラ
ジカルの架橋を促進してバックコート層の強度を向−ヒ
させ、傷付、粉落ち等を抑制し、磁気記録媒体の耐久性
を改善させることができる。
プラズマ処理時には、希ガス、酸素、窒素、弗素、四弗
化炭素、一酸化炭素、水蒸気等の非汀機化合物ガスを単
独あるいは混合物として真空槽内に導入することが好ま
しい。
真空槽内のこれらのガスがプラズマ中で活性化され、処
理面(バックコート層表面)上の低分子量成分(例えば
、未乾燥の溶剤や架橋の不十分なバインダ等)をエツチ
ングする。同時に処理熱によりバックコート層表面の運
動が活発になり、エツチングで生成したラジカル同士が
結合してバックコート層表面の架橋密度が上昇する。そ
の結果、バックコート層表面付近に緻密で高架橋度の部
分が形成される。この緻密で高架橋度部分の形成により
磁気記録媒体の耐久性が向ヒされる。
プラズマ処理時のガス流量とガス圧力は小さすぎるとエ
ツチング効果が強くなりすぎて磁気記録層にダメージを
与え、大きすぎると所定の処理効果が得られないために
、それぞれ5〜3000scCm1o、01〜50To
rrの範囲内であることが好ましい。印加電力密度は小
さすぎると所定の処理効果が得られず、大きすぎるとエ
ツチング効果が強(なりすぎて磁気記録層にダメージを
与えるために、0.02〜IW/c/の範囲内であるこ
とが好ましい。
基体上に形成される磁気記録層は、γ−Fe203粉末
、Fe304粉末、Co含有y−Fe203粉末、Co
含有Fe3O4粉末、Fe粉末、Co粉末、Fe−Ni
粉末などの磁性粉末を結合剤成分および有機溶剤等と共
に基体上に塗布、乾燥するなどの方法で形成される。別
法として、Co1Fe1Ni1Co−Ni合金、Co−
Cr合金、Co−P合金、Go−Ni−P合金などの強
磁性金属や合金をペーパーデポジション法により非磁性
基体ヒに被着させることによっても形成することができ
る。′ベーパー・デポジション法”とは気体または真空
空間中で、析出させようとする物質あるいは化合物等を
蒸気またはイオン化蒸気として基体上に析出させる方法
を意味する。この方法には、真空蒸着法、イオン拳ブレ
ーティング法、高周波イオン・ブレーティング法、イオ
ン・クラスタービーム法、イオンビームデポジション法
、スパッタリング法、CVD法などがある。
本発明の磁気記録テープにおけるバックコート層の厚さ
自体は本発明の必須認件ではない。−膜内には2000
人〜20000人の範囲内である。
同様に、バックフート層の形成方法も本発明の必須要件
ではない。塗布または転写などの慣用手段により形成す
ることができる。
磁気記録テープとしてはポリエステルフィルム、ポリイ
ミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とするオー
ディオテープ、VTRテープ、DATテープ、ストリー
マテープ等、磁気ヘッドと摺接する構造の種々の形態を
包含する。
[実施例コ 実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実1m 厚さ10μmのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
装填し、1xLO−5Torrの真空下でCoaoNi
2o合金を加熱蒸発させてポリエステルフィルム表面上
に厚さ1500人の強磁性金属薄膜層を形成した。次い
で強磁性金属薄膜層を形成したポリエステルフィルムを
グラビア塗布装置に装填し、ポリエステルフィルム裏面
上にt<ツクコート塗料を塗布し、厚さ1μmのバンク
コート層を形成した。
次いで第1図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性
金属薄膜層とバックコート層を形成したポリエステルフ
ィルム1を処理槽2内の原反ロール3から円筒上キャン
ロール4の周側面に沿って移動させ、巻取りロール5に
も取るようにセットした。続いてポリエステルフィルム
1を5m/分の速度で走行させながら処理槽2に取り付
けたガス導入管6から酸素ガスを50 s e cmの
流量で導入し、ガス圧を0.02TorrとしてRF電
極7に13.56MHzの高周波を0.2W/cm2の
゛心力密度で印加し、バックコート層表面をプラズマ処
理した。なお、第1図中の符号8はRF電極7に高周波
を印加する面周?Il電源を示し、符号9は処理槽2を
排気するための排気系を示す。
その後、処理槽2からポリエステルフィルム1を取り出
し、所定の幅に裁断して第2図に示すような磁気記録層
10、バックコート層11および緻密高架橋部分12を
aする磁気記録テープ13を作製した。
夫五匠λ 実施例1において、酸素ガスを使用する代わりに酸素と
ベンゼンの[1比10対l混合ガスを使用し、高周波電
力密度を0.2W/cr/に代えて0.35W/c♂と
した他は実施例1と同様の操作によりバックコート層表
面をプラズマ処理し磁気記録テープを作製した。
L五阻止 実施例1において、酸素ガスを使用する代わりにアルゴ
ンガスを使用し、高周波電力密度を0゜2W/cjに代
えて0.1W/C−/とじた他は実施例1と同様にして
バンクコート層表面をプラズマ処理し磁気記録テープを
作製した。
実JE例」。
実施例りにおいて、酸素ガスを使用する代わりにアルゴ
ンとテトラメチルシランの重量比5対1混合ガスを使用
した他は実施例1と同様にしてバックコート層表面をプ
ラズマ処理し磁気記録テープを作製した。
比較1 実施例1において、プラズマ処理を省いた他は実施例1
と同様にして磁気記録テープを作製した。
前記の実施例1〜4および比較例1で得られた各磁気記
録テープについて耐久性とバックコート層面の強度を調
べた。耐久性は90分記録用テープを用いて実機で10
0回の連続走行試験を行い、出力の劣化型(試験開始時
と終了時の再生出力の比)と「粉落ち」の程度により評
価した。またバンクコート層面を固定ビンに巻き付けて
50g荷重で摺動させ、バックコート層面に傷が付き始
める(目視)摺動回数によりバックコート層面の強度を
評価した。結果を下記の表1に示す。
及1 表1に示された結果から明らかなように、実施例1〜4
の磁気記録テープは比較例1の磁気記録テープに比べ走
行耐久性に優れ、またバックコート層自体の強度も優れ
ている。
[発明の効果コ 以上説明したように、非磁性基体の裏面にバックコート
層を形成してなる磁気記録媒体において、バックコート
層表面をプラズマに曝し、プラズマ処理することにより
、バックコート層最表面の低分子量成分をエツチングし
、同時に表面のラジカルの架橋を促進してバックコート
層の強度を向上させ、傷付、粉落ち等を抑制し、磁気記
録媒体の耐久性を著しく改善することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の磁気記録媒体の製造に使用されるプラ
ズマ処理装置の一例を示す概略図であり、第2図は実施
例1で得られた本発明の磁気記録テープの部分拡大断面
図である。 1・・・非磁性基体(ポリエステルフィルム)10・・
・磁気記録層 11・・・バックコート層 12・・・緻密高架橋部分 13・・・本発明の磁気記録テープ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)少なくとも、非磁性基体の表面に磁気記録層を形
    成し、裏面にバックコート層を形成してなる磁気記録テ
    ープにおいて、バックコート層形成後に真空槽中でバッ
    クコート層表面をプラズマに曝してプラズマ処理するこ
    とを特徴とする磁気記録テープの製造方法。(2)真空
    槽中に希ガス、酸素、窒素、弗素、四弗化炭素、一酸化
    炭素または水蒸気等の非有機化合物ガスを単独あるいは
    混合物として導入し、該非有機化合物ガスの存在下でプ
    ラズマ処理を行うことを特徴とする請求項1記載の磁気
    記録テープの製造方法。 (3)磁気記録層が強磁性金属薄膜層であることを特徴
    とする請求項1記載の磁気記録テープの製造方法。
JP14259589A 1989-06-05 1989-06-05 磁気記録テープの製造方法 Pending JPH038117A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005135929A (ja) * 2001-02-19 2005-05-26 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置の作製方法
US7485478B2 (en) 2001-02-19 2009-02-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and method of manufacturing the same

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