JPS61216124A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記
録媒体の製造方法に関しさらに詳しくは、耐久性および
耐食性に優れた前記の磁気記録媒体の製造方法に関する
。

〔従来の技術〕

強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着等によ
って基体フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に
適した特性を有するが、反面磁気ヘッドとの摩擦係数が
大きくて摩耗や１０傷を受は易く、また空気中で徐々に
酸化を受けて最大磁束密度などの磁気特性が劣化するな
どの難点がある。

このため、従来から強磁性金属薄膜層上に種々の保護膜
層を設けるなどして耐久性および耐食性を改善すること
が行われており、近年、たとえば、フッ素系有機化合物
の千ツマーガスをプラズマ重合して、フッ素系有機化合
物のプラズマ重合保護膜層を強磁性金属薄膜層上に設け
たり（特開昭５８−８８８２８号、特開昭５８−１０２
３３０号）、あるいは、ケイ素系有機化合物のモノマー
ガスをプラズマ重合して、ケイ素系有機化合物のプラズ
マ重合保護膜層を強磁性金属薄膜層」−に設ける（特開
昭５７−８２２２９号、特開昭５８−６０４２７号）こ
とが提案されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、この従来の方法によって得られる有機化合物
のプラズマ重合保護膜層は架橋密度が未だ充分でないた
め、耐久性および耐食性の改善がいまひとつ充分でなく
、特にプラズマ重合時のガス圧を高くしたりして被着速
度を速くすると、架橋密度が低くプラズマ重合されて硬
い保護１１９層が得られず、保護膜層表面にラジカルが
奴存したりして良好な走行性および耐食性が得られない
という難点があった。

〔問題点を解決するだめの手段〕

この発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果な
されたもので、まず、強磁性金属薄膜層：　　　　　　
　の表面に有機化合物のプラズマ重合保護膜層を形成し
たのち、このプラズマ重合保護膜層にイオン流を吹きつ
＆Ｊることによって、プラズマ重合保護■　　　　　　
　膜層表面の架橋密度を高くし、硬くて緻密なプラＩ　
　　　　　　ズマ重合保護股層を形成して、耐摩耗性を
充分に（向」ニさせ、得られる磁気記録媒体の耐久性お
よび耐食性を充分に向上させたものである。

この発明において、強磁性金属薄膜層上へのプラズマ重
合保護膜層の形成は、処理槽内で、炭化１　　　　　　
　水素系化合物、フッ素系有機化合物およびケイ素系有
機化合物等の七ツマーガスを、高周波によりプラズマ重
合させて、強磁性金属薄膜層上に被着することによって
形成される。このプラズマ重合保護膜層を形成するのに
使用するモノマーガスとしては、たとえば、プロパン、
エチレン、プロピレンなどの炭化水素系化合物のモノマ
ーガス、Ｃ２Ｆ４．、Ｃ３Ｆｓなどのフッ素系有機化合
物のモノマーガスおよびテ１〜ラメチルシラン、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン、ヘキザメチルジシラザ
ンなどのケイ素系有機化合物のモノマーガス等が好まし
く使用され、これらの有機化合物の七ツマーガスは、高
周波によりラジカルが生成され、この生成されたラジカ
ルが反応し重合して被膜となる。またこれらのモノマー
ガスをプラズマ重合する際、アルゴンガス、ヘリウムガ
スおよび酸素ガス等のキャリアガスを併存させるとモノ
マーガスを単独でプラズマ重合する場合に比べて３〜５
倍の速度で被着されるため、これらのキャリアガスを併
存させて行うのが好ましい。これらのキャリアガスと併
存させる際、その組成割合はキャＩ　　　　　　　リア
ガス対前記有機化合物の七ツマーガスの比に１　　　　
　　　して１対１〜２０対１の範囲内で併存させるのが
１　　　　　　　好ましく、キャリアガスが少なすぎる
と被着速度１　　　　　　　が低下し、多すぎるとモノ
マーガスが少なくなっ１　　　　　　てプラズマ重合反
応に支障をきたす。なお、炭化水素系化合物のモノマー
ガスを使用するときは、酸素ガスをキャリアガスとして
使用すると酸化度ｉ　　　　　　　応が生しるため、酸
素ガスをキャリアガスとして１　　　　　　　使用する
のは好ましくない。

Ｉ　　　　　　　　プラズマ重合を行う場合のガス圧お
よび高周波の電力は、ガス圧が高くなるほど被着速度が
速く、　　　　　　　　ｆｉ　６　Ｗｍｉ″″″−”７
が目的８橋龍低４７）（ｊ　　　　　　ズマ重合されて
硬い保護膜層が得られず、またガス圧を低くして高周波
電力を高くすると被着速度１　　　　　　が遅くなる反
面架橋密度が比較的高い保護膜層が１　　　　　　得ら
れるが、ガス圧を低くして高周波電力を高く２１シすぎ
ると、モノマーガスが粉末化してしまいプ′１　　　　
、オフ□、１．□４カ、うぇあゎ４いえあ、ヵ、７エｌ
　　　　　　を０．００１〜５トールの範囲内とし、平
方センチあ・ｊ　　　　　　たりの高周波電力を０．０
３〜５　Ｗ　／、ｃｌの範囲内とするのが好ましく、ガ
ス圧を０．００３〜１トールとし、平方センナあたりの
高周波電力を０．０５〜３Ｗ／ｃＪの範囲内とするのが
より好ましい。このようにしてプラズマ重合によって被
着形成される有機化合物のプラズマ重合保護膜層は緻密
で摩擦係数も小さく、従ってこの有機化合物のプラズマ
重合保護膜層が形成されると耐摩耗性および耐食性が向
上される。このような有機化合物のプラズマ重合保護膜
層の膜厚は、２０〜１０００人の範囲内であることが好
ましく、膜厚が薄すぎるとこの保護膜層による耐久性お
よび耐食性の効果が充分に発揮されず、厚すぎるとスペ
ーシングロスが大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影習
を及ぼす。

このようにして形成されたプラズマ重合保護膜層の架橋
密度を高くして、硬くて緻密なプラズマ重合保護膜層を
形成させる際に使用されるイオン流としては、真空放電
、光イオン化、あるいは熱陰極の電子によってイオン化
されたアルゴン、酸素、窒素、フッ素等のイオン流が使
用され、これらを電場により加速してプラズマ重合保護
膜層に吹きつけられる。

強磁性金属薄膜層の形成材料としてば、Ｃｏ、Ｆｅ、、
ＮｉＸＣｏ−Ｎｉ合金、ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｐ合金
、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金などの強磁性相が使用され、これ
らの強磁性材からなる強（ａ性金属薄膜層は、真空蒸着
、イオンブレーティング、スパッタリング、メッキ等の
手段によって基体」二に被着形成される。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤や「ラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。

〔実施例〕

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例１ 厚さ１０μのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に装
填し、ｌＸｌ０−５１−−ルの真空下でコバルトを加熱
蒸発させてポリエステルフィルム」二に厚さ１０００人
のコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。次い
で、第１図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金
属薄膜層を形成したポリエステルフィルムｌを原反ロー
ル２から上下に分離された処理槽３．４に跨って回転す
る円筒状キャン５の周側面に沿って移動させ、巻き取り
ロール６に巻き取るようにセットした。次いで、ポリエ
ステルフィルム１を円筒状キャン５の周側面に沿って０
．５ｍ／ｍｉｎの走行速度で走行させながら、処理槽４
に取りつけたガス導入管７からテトラフルオロエチレン
のモノマーガスを５０ｓｅｃｍの流量で導入し、ガス圧
を０．０５）−ルとして電極８で１３．５６ＭＩＩｚの
高周波を０．５Ｗ／ｃＪの電力密度で印加してプラズマ
重合を行い、プラズマ重合保護膜層を形成した。このと
きのプラズマ重合保護膜層の膜厚は２１０人であった。

次いで、イオン源室９に取りつけたガス導入管１０から
アルゴンガスを５０ｓｅｃ＋ｎの流量で導入し、電極１
１．１２にそれぞれ＋ＩＫＶ、−２ＫＶの電圧を印加し
てＤＣ放電を発生させ、生成したアルゴン陽イオンを電
極１１から電極１２の方向に加速し、イオンレンズ１３
により収束してプラズマ重合保護膜層に吹きつけた。し
かる後、所定のｒｌＪに裁断して第２図に示すようなポ
リエステルフィルム１−にに強磁性金属薄膜層１８、プ
ラズマ重合保護膜層１９を順次に積層形成した磁気テー
プ八をつくった。

なお、図中１４および１５はそれぞれ処理槽４およびイ
オン源室９を減圧するための１ノ１気系であり、１６は
電極８に高周波を印加するだめの高周波電源、１７は電
極１１．１２およびイオンレンズ１３に電圧を印加する
ための直流電源である。

実施例２ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラフルオロエチレンの七ツマーガスに代えて、テ
トラメチルシランの七ツマーガスを３０ｓｅｃｍの流Ｍ
で導入してガス圧を、０．０３１−−ルに変更した以外
は実施例１と同様にしてプラズマ重合保護膜層を形成し
、磁気テープ八をつくった。このときのプラズマ重合保
護膜層の層厚は２５０人であった。

実施例３ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラフルオロエチレンのモノマーガスに代えて、プ
ロパンのモノマーガスを１０１００５ｅの流量で導入し
てガス圧を０．０７１−−ルとし、印加する高周波の電
力密度を０．５Ｗ／ｃＪから０．７Ｗ／　ｃＪに変更し
た以外は実施例１と同様にしてプラズマ重合保護膜層を
形成し、磁気テープＡをつくった。このときのプラズマ
重合保護膜層の層厚は３００人であった。

実施例４ 実施例１において、ガス導入管１０からアルゴンガスを
５０ｓｅｃｍ導入するかわりに、酸素ガスを５０ｓｅｃ
ｍ導入した以外は実施例１と同様にしてプラズマ重合保
護膜層を形成し、磁気テープ八をつくった。このときの
プラズマ重合保護膜層の層厚は２２０人であった。

比較例１ 実施例１において、プラズマ重合保護膜層９層−・のア
ルゴンイオンの吹きつけを省いた以外は、実施例１と同
様にして磁気テープをつくった。

比較例２ 実施例２において、プラズマ重合保護１１！ｔｉＷＡへ
のアルゴンイオンの吹きつけを省いた以外は、実施例２
と同様にして磁気テープをつくった。

比較例３ 実施例３において、プラズマ重合保護膜層−・のアルゴ
ンイオンの吹きつけを省いた以外は、実施例３と同様に
して磁気テープをつくった。

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
耐久性および耐食性を試験した。耐久性試験はスチル試
験を行い、強磁性金属薄膜層が削り取られるなどして出
力が急激に低下するまでの時間を測定して評価した。ま
た耐食性試験は得ら１　　　　　　　れた磁気テープを
６０℃、９０％Ｒ１１の条件下に：　　　　　　　７日
間放置して最大磁束密度を測定し、放置前の□ 磁気テープの最大磁束密度を１００％とし、これと比較
した値でその劣化率を調べて行った。

下表はその結果である。

〔発明の効果〕

上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ（実施例１ないし４）は、いずれも比較例１ないし３
で得られた磁気テープに比し、耐スヂル時間が長くて、
劣化率が小さく、このことからこの発明の製造方法によ
れば、耐久性およびｉ　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１３イ 目 耐食性が一段と向上された磁気記録媒体が得られ１　　
　　　　　ることかわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図はプラズマ重合保護膜層を形成する際に使用する
プラズマ処理装置の１例を示す概略断面図、第２図はこ
の発明の製造方法によって得られた磁気テープの部分拡
大断面図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
   金属薄膜層を形成し、この強磁性金属薄膜層上に有機化
   合物のプラズマ重合保護膜層を形成したのち、このプラ
   ズマ重合保護膜層にイオン流を吹きつけることを特徴と
   する磁気記録媒体の製造方法