JPH0335727B2 - - Google Patents
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- JPH0335727B2 JPH0335727B2 JP57166812A JP16681282A JPH0335727B2 JP H0335727 B2 JPH0335727 B2 JP H0335727B2 JP 57166812 A JP57166812 A JP 57166812A JP 16681282 A JP16681282 A JP 16681282A JP H0335727 B2 JPH0335727 B2 JP H0335727B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は例えば真空蒸着、イオンプレーテイン
グ、スパツタリング及び類似の他の方法で形成さ
れ薄膜を磁気記録層として有する磁気記録媒体の
製造方法に関するものである。
グ、スパツタリング及び類似の他の方法で形成さ
れ薄膜を磁気記録層として有する磁気記録媒体の
製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
近年、磁気記録媒体は磁気記録密度の向上に見
られるようにその技術的発展はめざましいものが
ある。従来の磁気記録媒体の代表例としてγ−
Fe2O3粉末、Cro2粉末、純鉄粉末等をバインダー
とともに高分子フイルム上に塗布せしめた、いわ
ゆる塗布型の磁気記録媒体がある。しかし、従来
の塗布型の磁気記録媒体より保磁力、記録密度、
その他の電磁変換特性を高めるために、最近、斜
方入射蒸着法やイオンプレーテイング法により
Fe，Co，Ni等の強磁性体金属を単独もしくは合
金として高分子フイルム上に蒸着する金属薄膜型
磁気記録媒体が検討され、急速に実用化されつつ
あり、例えば、ポリエチレンテレクタレートなど
の高分子フイルム基体上にコバルトを主体とする
合金の磁性層を形成したビデオ用磁気テープが開
発されている。しかしながら、上記方法で形成し
た磁性薄膜層は通常化学的に極めて活性なもので
あり、また、表面性が良いために、摩擦係数が高
い。従つて、シリンダ、磁気ヘツド等との摺接す
ることにより磁性層が摩耗し、長時間使用に対し
ては、磁性層に走行痕が傷が生じ、記録、再生が
まつたく不能となるような実用上致命的な欠陥が
発生する場合がある。
られるようにその技術的発展はめざましいものが
ある。従来の磁気記録媒体の代表例としてγ−
Fe2O3粉末、Cro2粉末、純鉄粉末等をバインダー
とともに高分子フイルム上に塗布せしめた、いわ
ゆる塗布型の磁気記録媒体がある。しかし、従来
の塗布型の磁気記録媒体より保磁力、記録密度、
その他の電磁変換特性を高めるために、最近、斜
方入射蒸着法やイオンプレーテイング法により
Fe，Co，Ni等の強磁性体金属を単独もしくは合
金として高分子フイルム上に蒸着する金属薄膜型
磁気記録媒体が検討され、急速に実用化されつつ
あり、例えば、ポリエチレンテレクタレートなど
の高分子フイルム基体上にコバルトを主体とする
合金の磁性層を形成したビデオ用磁気テープが開
発されている。しかしながら、上記方法で形成し
た磁性薄膜層は通常化学的に極めて活性なもので
あり、また、表面性が良いために、摩擦係数が高
い。従つて、シリンダ、磁気ヘツド等との摺接す
ることにより磁性層が摩耗し、長時間使用に対し
ては、磁性層に走行痕が傷が生じ、記録、再生が
まつたく不能となるような実用上致命的な欠陥が
発生する場合がある。
そこで、従来、このような蒸着薄膜を用いた磁
気記録媒体の走行性や耐摩耗性を改善する方法と
して、磁性体表面に高級脂肪酸、脂肪酸エステ
ル、脂肪酸アミドなどの滑剤を溶媒と共に塗布し
たり、バツクコート面にイソシアネート化合物、
ポリリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体などの結合剤とCaCO3やカーボンなどの
充てん剤を前記滑剤と混合して塗布し、磁性層表
面への滑剤の転写を利用して走行性を向上させる
方法がある。その他、金属薄膜表面をグロー放電
により酸化処理したり、蒸着時に記録ガスを導入
することにより表面層を酸化させ、シリンダやポ
スト等との耐摩耗性を改良する方法がある。しか
し、これらの方法においても連続繰返し走行で
は、滑剤が取り除かれたり高湿下での滑剤の吸湿
性の問題があり、その結果、摩擦係数の上昇、鳴
きの発生、あるいは磁性層の損償などが生じ、実
上用充分解決出来る方策とはいい難いのが現状で
ある。
気記録媒体の走行性や耐摩耗性を改善する方法と
して、磁性体表面に高級脂肪酸、脂肪酸エステ
ル、脂肪酸アミドなどの滑剤を溶媒と共に塗布し
たり、バツクコート面にイソシアネート化合物、
ポリリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体などの結合剤とCaCO3やカーボンなどの
充てん剤を前記滑剤と混合して塗布し、磁性層表
面への滑剤の転写を利用して走行性を向上させる
方法がある。その他、金属薄膜表面をグロー放電
により酸化処理したり、蒸着時に記録ガスを導入
することにより表面層を酸化させ、シリンダやポ
スト等との耐摩耗性を改良する方法がある。しか
し、これらの方法においても連続繰返し走行で
は、滑剤が取り除かれたり高湿下での滑剤の吸湿
性の問題があり、その結果、摩擦係数の上昇、鳴
きの発生、あるいは磁性層の損償などが生じ、実
上用充分解決出来る方策とはいい難いのが現状で
ある。
発明の目的
本発明は磁気特性に影響を及ぼすことなく優れ
た走行性を有し、量産可能な金属薄膜型磁気記録
媒体の製造方法を提供することを目的とする。
た走行性を有し、量産可能な金属薄膜型磁気記録
媒体の製造方法を提供することを目的とする。
発明の構成
本発明はシリコン系有機化合物のガスと酸素ガ
スとの混合ガスを用いたグロー放電雰囲気に磁気
記録層をさらし、その磁気記録層上に含シリコン
膜を形成するものである。
スとの混合ガスを用いたグロー放電雰囲気に磁気
記録層をさらし、その磁気記録層上に含シリコン
膜を形成するものである。
実施例の説明
第１図は本発明の一実施例を示す図であり、１
は被処理物である磁気記録媒体、２，３は相対向
して配置された電極であり、磁気記録媒体１の磁
性層側に設けた電極２は、有機ガス導入口４と接
続されている。放電電極２には有機ガスが電極間
で均一に飛散するように、直径１mm程度の複数個
のピンホールが設けられている。しかし有機ガス
の飛散口は前記電極２とは別個に設けても何らか
まわない。５は反応容器、６は排気口である。７
はモノマー容器、８は酸素ガス導入口、９，９′
は磁気記録媒体の表面処理を連続的に行なうため
のガイドロール、１０，１１は供給ロール及び巻
取りロールであり、ギヤモータ等の駆動装置は略
している。１２は高周波電源である。
は被処理物である磁気記録媒体、２，３は相対向
して配置された電極であり、磁気記録媒体１の磁
性層側に設けた電極２は、有機ガス導入口４と接
続されている。放電電極２には有機ガスが電極間
で均一に飛散するように、直径１mm程度の複数個
のピンホールが設けられている。しかし有機ガス
の飛散口は前記電極２とは別個に設けても何らか
まわない。５は反応容器、６は排気口である。７
はモノマー容器、８は酸素ガス導入口、９，９′
は磁気記録媒体の表面処理を連続的に行なうため
のガイドロール、１０，１１は供給ロール及び巻
取りロールであり、ギヤモータ等の駆動装置は略
している。１２は高周波電源である。
次に具体的に処理例を示す。反応容器５を真空
ポンプで10-3Torr以下に排気し、ガス算入口４
及び、排気口６のバルブを調整することにより、
反応用器５の真空度をグロー放電が長時間にわた
り安定となるようにコントロールする。グロー放
電条件としては、電極間電圧100〜300Vで周波数
13.5MHz、放電電流100〜200mA、真空度0.3〜
1.0Torrの範囲で、検討した。なお、化合物の中
で、融点や沸点が高くて気化し難く、室温で反応
容器５内が適当なガス圧にならない場合、化合物
導入容器７や、導入系を加熱して、前記のような
条件でグロー放電が行なわれる。このようにして
導入されたモノマーガスはプラズマ中に存在する
イオンや電子、これらの粒子から派生したラジカ
ル、励起分子及び光子などの活性粒子との間で付
加反応、再結合反応など様々な反応が生じ、被処
理磁気記録媒体表面に反応生成物が推積される。
しかし、モノマーガスに酸素ガスを混合して導入
すると前記プラズマ重合反応とは若干異なり、モ
ノマーガスの酸化反応が生じ、モノマーガスと酸
素ガスの混合比やグロー放電条件、特に印加電力
の条件によつては無機系の酸化物が生成され、極
微粒子となつて均一に被着する。
ポンプで10-3Torr以下に排気し、ガス算入口４
及び、排気口６のバルブを調整することにより、
反応用器５の真空度をグロー放電が長時間にわた
り安定となるようにコントロールする。グロー放
電条件としては、電極間電圧100〜300Vで周波数
13.5MHz、放電電流100〜200mA、真空度0.3〜
1.0Torrの範囲で、検討した。なお、化合物の中
で、融点や沸点が高くて気化し難く、室温で反応
容器５内が適当なガス圧にならない場合、化合物
導入容器７や、導入系を加熱して、前記のような
条件でグロー放電が行なわれる。このようにして
導入されたモノマーガスはプラズマ中に存在する
イオンや電子、これらの粒子から派生したラジカ
ル、励起分子及び光子などの活性粒子との間で付
加反応、再結合反応など様々な反応が生じ、被処
理磁気記録媒体表面に反応生成物が推積される。
しかし、モノマーガスに酸素ガスを混合して導入
すると前記プラズマ重合反応とは若干異なり、モ
ノマーガスの酸化反応が生じ、モノマーガスと酸
素ガスの混合比やグロー放電条件、特に印加電力
の条件によつては無機系の酸化物が生成され、極
微粒子となつて均一に被着する。
モノマーとしてシランカツプリング剤、例えば
ビニルトリクロシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、などを用いて、モノマーガスと酸素ガスの割
合を１：0.1〜10の割合で種々形成したものにつ
いて、光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡で表面を観
察したところ、100Å〜10μの粒子状の付着物が
認められた。ただし、磁気記録媒体を走行させず
に固定させた場合、粒子状推積物が全面的に広が
り、自色状の皮膜が形成された。このような推積
物を赤外分光分析及び光電子分光分析（ESCA）
で解析した結果、主にシリコンの酸化物である
SiO2であり、ガス導入条件、グロー条件を変え
ることにより、SiO2の他にシリコン系の有機化
合物が共存していることが確認された。
ビニルトリクロシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、などを用いて、モノマーガスと酸素ガスの割
合を１：0.1〜10の割合で種々形成したものにつ
いて、光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡で表面を観
察したところ、100Å〜10μの粒子状の付着物が
認められた。ただし、磁気記録媒体を走行させず
に固定させた場合、粒子状推積物が全面的に広が
り、自色状の皮膜が形成された。このような推積
物を赤外分光分析及び光電子分光分析（ESCA）
で解析した結果、主にシリコンの酸化物である
SiO2であり、ガス導入条件、グロー条件を変え
ることにより、SiO2の他にシリコン系の有機化
合物が共存していることが確認された。
このようにして得られた磁気記録媒体の走行性
を調べるため静摩擦係数を測定したところ、末処
理では0.5〜0.6、処理した場合、0.2〜0.3と向上
していることがわかつた。また、耐摩耗性につい
て、磁気ヘツドによる引つかき試験法で評価した
ところ、末処理の場合、荷重30〜50ｇで引つかき
走行痕が生じるのに対し、50〜70ｇでもほとんど
損傷しないことがわかつた。
を調べるため静摩擦係数を測定したところ、末処
理では0.5〜0.6、処理した場合、0.2〜0.3と向上
していることがわかつた。また、耐摩耗性につい
て、磁気ヘツドによる引つかき試験法で評価した
ところ、末処理の場合、荷重30〜50ｇで引つかき
走行痕が生じるのに対し、50〜70ｇでもほとんど
損傷しないことがわかつた。
発明の効果
本発明は、以上に説明した如く、グロー放電に
より、極微粒子の酸化ケイ素および有機シリコン
化合物等を磁気記録層上均一に被着させて保護膜
とするものであり、走行性、耐摩耗性の向上を図
るだけでなく、金属薄膜表面に比べ化学的に安定
であるため耐食性にも優れたものである。また、
放電処理における被着基板の走行速度を調節する
ことにより、保護膜の厚さは100Å程度、あるい
はそれ以下でも充分可能であり、電磁変換特性に
も全く問題がなく、その実用性は極めて大なるも
のである。
より、極微粒子の酸化ケイ素および有機シリコン
化合物等を磁気記録層上均一に被着させて保護膜
とするものであり、走行性、耐摩耗性の向上を図
るだけでなく、金属薄膜表面に比べ化学的に安定
であるため耐食性にも優れたものである。また、
放電処理における被着基板の走行速度を調節する
ことにより、保護膜の厚さは100Å程度、あるい
はそれ以下でも充分可能であり、電磁変換特性に
も全く問題がなく、その実用性は極めて大なるも
のである。
図は本発明の一実施例を示す図である。
１……磁気記録媒体、２，３……放電電極、４
……ガス導入口、５……反応容器、６……排気
口、７……モノマー容器、８……酸素ガス導入
口、９，９′……ガイドロール、１０……供給ロ
ール、１１……巻取りロール、１２……高周波電
源。
……ガス導入口、５……反応容器、６……排気
口、７……モノマー容器、８……酸素ガス導入
口、９，９′……ガイドロール、１０……供給ロ
ール、１１……巻取りロール、１２……高周波電
源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ シリコン系有機化合物のガスと酸素ガスとの
混合ガスを用いたグロー放電雰囲気中に磁気記録
層をさらし、上記磁気記録層上に含シリコン膜を
形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。 ２ 磁気記録層がコバルト系合金の薄膜からなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57166812A JPS5956227A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57166812A JPS5956227A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5956227A JPS5956227A (ja) | 1984-03-31 |
| JPH0335727B2 true JPH0335727B2 (ja) | 1991-05-29 |
Family
ID=15838119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57166812A Granted JPS5956227A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5956227A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MY143286A (en) | 1996-05-21 | 2011-04-15 | Panasonic Corp | Thin film, method and apparatus for forming the same, and electronic component incorporating the same |
| JP2791655B2 (ja) * | 1996-07-22 | 1998-08-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 磁気記録媒体の作製方法 |
-
1982
- 1982-09-24 JP JP57166812A patent/JPS5956227A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5956227A (ja) | 1984-03-31 |
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