JPH0125139B2 - - Google Patents
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- JPH0125139B2 JPH0125139B2 JP56002798A JP279881A JPH0125139B2 JP H0125139 B2 JPH0125139 B2 JP H0125139B2 JP 56002798 A JP56002798 A JP 56002798A JP 279881 A JP279881 A JP 279881A JP H0125139 B2 JPH0125139 B2 JP H0125139B2
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- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は、ビデオテープレコーダ、電子計算機
等の記録装置として用いられる金属薄膜型磁気記
録体の製造方法に関し、耐蝕性を向上させた磁気
記録体を得んとするものである。 鉄、コバルト、ニツケルあるいはそれらを主成
分とする合金の薄膜を、真空蒸着法、スパツタリ
ング法等により、フイルム基板上に形成させた金
属薄膜型磁気テープにおいて、最大の問題点は使
用実用環境下で磁性層が腐蝕して、記録媒体とし
ての特性が劣化することである。このため、従来
は保護層として、これら磁性薄膜の上に高分子被
膜や耐蝕性が良い金属によるコーテイング処理が
行われている。しかしながら、均一でピンホール
がない保護被膜層を得るためには、0.1μ以上の膜
厚を要するため、磁気ヘツドと磁性薄膜間の間〓
が大きくなつて、磁気記録密度や出力が低下す
る。 また、金属薄膜を酸化雰囲気で熱処理したり、
酸化性溶液中で浸漬処理することにより、保護性
がある酸化被膜を形成させる方法がある。しか
し、このような後処理過程では磁気特性の変化や
形状変化が生じ、また均一な酸化被膜の形成を制
御することは難しい。 本発明は、上記従来技術の欠点をなくし、磁気
特性を変化させることなく、磁性金属薄膜の極表
面層だけに均一な保護被膜を形成させる方法に関
する。 以下、本発明の実施例を第１図の図面とともに
説明する。ポリエチレンテレフタート等のプラス
チツクフイルム上に磁性金属薄膜を真空蒸着法で
形成させた金属薄膜フイルム１の前記磁性金属薄
膜（磁性層）表面に、イオン発生装置２で発生さ
せた荷電粒子（イオンビーム）３を約10KV程度
加速させ衝撃させる。その際、このイオンビーム
３をレンズ系４で適当なビーム径にしぼり、偏向
板５を用いて、前記フイルム１の走行方向Ａに対
して直角方向Ｂに高速掃引させる。その結果、磁
性層表面はこのイオンビーム３によりスパツタさ
れて、〜10Å程度の極表面層がエツチングされ、
ポンプ油等によるミスト付着物が除去されて活性
な清浄面となる。ここで、本工程における真空度
を10-4Torr程度の酸素ガス雰囲気下にしておく
と、飛来酸素ガスによりこの活性面は安定で質が
良い酸化被膜で被覆される。また、イオンビーム
として通常アルゴン等の希ガスが用いられるが、
酸素イオンを用いることにより、金属との酸化力
が強くなり、保護膜の形成法としてすぐれてい
る。 このようにして処理したCoを主体とした磁性
金属薄膜について、オージエ電子分光法で表面層
のＯとCoの濃度分布分析を行つた結果を第２図
に示す。未処理薄膜における表面層のＯは自然放
置で形成されたものであり、極めて薄く、かつ不
安定な酸化層である。本発明による処理をした場
合、数10Åの酸化層を形成していることが判つ
た。また、Ｘ線光電子分光法を用いて、これらの
磁性表面層の化学結合状態を調べたところ、未処
理はCo（OH）2のスペクトルが強く認められたの
に対し、本発明による処理の場合、CoO、Co2O3
等より安定な金属酸化物が認められ、保護性があ
る酸化被膜が形成されていることが確認された。 このようにして本発明により形成させた磁性金
属薄膜を40℃、相対湿度90％の雰囲気下で約２週
間放置させた後、表面層の変色状態および光学顕
微鏡でミクロ観察を行つた。その結果、未処理薄
膜の場合、点状の腐蝕生成物が発生し、金属光沢
が劣化したが、本発明による場合、ほとんど変色
せず、腐蝕生成物も認められなかつた。以下、耐
食性評価（温度40℃、湿度90％）を表−１に、引
つかき試験評価（サンプル上にヘツドを走行させ
走行痕の発生荷重を比較したもの）を表−２に示
す。なお、表−１、表−２において、Ａは磁性金
属範膜の表面を示処理のもの、Ｂは荷電粒子照射
処理を施したもの、ＣはO2イオン照射処理を施
したものであり、
等の記録装置として用いられる金属薄膜型磁気記
録体の製造方法に関し、耐蝕性を向上させた磁気
記録体を得んとするものである。 鉄、コバルト、ニツケルあるいはそれらを主成
分とする合金の薄膜を、真空蒸着法、スパツタリ
ング法等により、フイルム基板上に形成させた金
属薄膜型磁気テープにおいて、最大の問題点は使
用実用環境下で磁性層が腐蝕して、記録媒体とし
ての特性が劣化することである。このため、従来
は保護層として、これら磁性薄膜の上に高分子被
膜や耐蝕性が良い金属によるコーテイング処理が
行われている。しかしながら、均一でピンホール
がない保護被膜層を得るためには、0.1μ以上の膜
厚を要するため、磁気ヘツドと磁性薄膜間の間〓
が大きくなつて、磁気記録密度や出力が低下す
る。 また、金属薄膜を酸化雰囲気で熱処理したり、
酸化性溶液中で浸漬処理することにより、保護性
がある酸化被膜を形成させる方法がある。しか
し、このような後処理過程では磁気特性の変化や
形状変化が生じ、また均一な酸化被膜の形成を制
御することは難しい。 本発明は、上記従来技術の欠点をなくし、磁気
特性を変化させることなく、磁性金属薄膜の極表
面層だけに均一な保護被膜を形成させる方法に関
する。 以下、本発明の実施例を第１図の図面とともに
説明する。ポリエチレンテレフタート等のプラス
チツクフイルム上に磁性金属薄膜を真空蒸着法で
形成させた金属薄膜フイルム１の前記磁性金属薄
膜（磁性層）表面に、イオン発生装置２で発生さ
せた荷電粒子（イオンビーム）３を約10KV程度
加速させ衝撃させる。その際、このイオンビーム
３をレンズ系４で適当なビーム径にしぼり、偏向
板５を用いて、前記フイルム１の走行方向Ａに対
して直角方向Ｂに高速掃引させる。その結果、磁
性層表面はこのイオンビーム３によりスパツタさ
れて、〜10Å程度の極表面層がエツチングされ、
ポンプ油等によるミスト付着物が除去されて活性
な清浄面となる。ここで、本工程における真空度
を10-4Torr程度の酸素ガス雰囲気下にしておく
と、飛来酸素ガスによりこの活性面は安定で質が
良い酸化被膜で被覆される。また、イオンビーム
として通常アルゴン等の希ガスが用いられるが、
酸素イオンを用いることにより、金属との酸化力
が強くなり、保護膜の形成法としてすぐれてい
る。 このようにして処理したCoを主体とした磁性
金属薄膜について、オージエ電子分光法で表面層
のＯとCoの濃度分布分析を行つた結果を第２図
に示す。未処理薄膜における表面層のＯは自然放
置で形成されたものであり、極めて薄く、かつ不
安定な酸化層である。本発明による処理をした場
合、数10Åの酸化層を形成していることが判つ
た。また、Ｘ線光電子分光法を用いて、これらの
磁性表面層の化学結合状態を調べたところ、未処
理はCo（OH）2のスペクトルが強く認められたの
に対し、本発明による処理の場合、CoO、Co2O3
等より安定な金属酸化物が認められ、保護性があ
る酸化被膜が形成されていることが確認された。 このようにして本発明により形成させた磁性金
属薄膜を40℃、相対湿度90％の雰囲気下で約２週
間放置させた後、表面層の変色状態および光学顕
微鏡でミクロ観察を行つた。その結果、未処理薄
膜の場合、点状の腐蝕生成物が発生し、金属光沢
が劣化したが、本発明による場合、ほとんど変色
せず、腐蝕生成物も認められなかつた。以下、耐
食性評価（温度40℃、湿度90％）を表−１に、引
つかき試験評価（サンプル上にヘツドを走行させ
走行痕の発生荷重を比較したもの）を表−２に示
す。なお、表−１、表−２において、Ａは磁性金
属範膜の表面を示処理のもの、Ｂは荷電粒子照射
処理を施したもの、ＣはO2イオン照射処理を施
したものであり、
【表】
【表】
【表】
また、イオンビーム処理は、真空蒸着機内で、蒸
着工程と併行に処理することが可能なため、酸化
被膜形成法としても簡便である。 以上のように本発明の製造方法によれば、耐蝕
性のすぐれた金属薄膜型の磁気記録体を得ること
ができたものであり、この産業性は大なるもので
ある。
着工程と併行に処理することが可能なため、酸化
被膜形成法としても簡便である。 以上のように本発明の製造方法によれば、耐蝕
性のすぐれた金属薄膜型の磁気記録体を得ること
ができたものであり、この産業性は大なるもので
ある。
第１図は本発明の製造方法の概要を示す図、第
２図イ，ロはオージエ電子分光法による従来と本
発明の磁性薄膜表面層のＯとCoの分布分析結果
の一例を示す図である。 １……金属薄膜フイルム、２……イオン発生装
置、３……荷電粒子。
２図イ，ロはオージエ電子分光法による従来と本
発明の磁性薄膜表面層のＯとCoの分布分析結果
の一例を示す図である。 １……金属薄膜フイルム、２……イオン発生装
置、３……荷電粒子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 酸素雰囲気下において磁性金属薄膜の表面に
荷電粒子を衝撃させ、前記磁性金属薄膜の表面に
保護性のある酸化被膜を形成させることを特徴と
する金属薄膜型磁気記録体の製造方法。 ２ 荷電粒子が、酸素イオンであることを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の金属薄膜型磁
気記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56002798A JPS57117126A (en) | 1981-01-12 | 1981-01-12 | Manufacture for metallic thin film type magnetic recording body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56002798A JPS57117126A (en) | 1981-01-12 | 1981-01-12 | Manufacture for metallic thin film type magnetic recording body |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57117126A JPS57117126A (en) | 1982-07-21 |
| JPH0125139B2 true JPH0125139B2 (ja) | 1989-05-16 |
Family
ID=11539388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56002798A Granted JPS57117126A (en) | 1981-01-12 | 1981-01-12 | Manufacture for metallic thin film type magnetic recording body |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57117126A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57179949A (en) * | 1981-04-29 | 1982-11-05 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS59186119A (ja) * | 1983-04-06 | 1984-10-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59191138A (ja) * | 1983-04-14 | 1984-10-30 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1981
- 1981-01-12 JP JP56002798A patent/JPS57117126A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57117126A (en) | 1982-07-21 |
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