JPS5826323A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5826323A JPS5826323A JP56124349A JP12434981A JPS5826323A JP S5826323 A JPS5826323 A JP S5826323A JP 56124349 A JP56124349 A JP 56124349A JP 12434981 A JP12434981 A JP 12434981A JP S5826323 A JPS5826323 A JP S5826323A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum film
- recording medium
- magnetic
- film
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はビデオテープレコーダあるいは電子計算機など
に用いられる磁気記録媒体およびその製造方法に関し、
耐食性を高めることを目的とする。
に用いられる磁気記録媒体およびその製造方法に関し、
耐食性を高めることを目的とする。
磁気記録媒体の一つで、コバルト・ニッケルあるいはそ
れらを主成分とする合金の薄膜を、真空蒸着、スパッタ
リング、イオンブレーティングなどの方法で基板フィル
ム上に形成させた金属薄膜型磁気記録テープは、従来の
酸化鉄を主体とする強磁性粉末を樹脂バインダーで結合
せしめた通常の塗布型テープにくらべて、湿度中、ある
いは腐食性ガス中で磁性層が腐食し易く、記録媒体とし
ての磁気特性、走行特性の劣化をもたらすことがある。
れらを主成分とする合金の薄膜を、真空蒸着、スパッタ
リング、イオンブレーティングなどの方法で基板フィル
ム上に形成させた金属薄膜型磁気記録テープは、従来の
酸化鉄を主体とする強磁性粉末を樹脂バインダーで結合
せしめた通常の塗布型テープにくらべて、湿度中、ある
いは腐食性ガス中で磁性層が腐食し易く、記録媒体とし
ての磁気特性、走行特性の劣化をもたらすことがある。
そのため、従来は保護層として、磁性薄膜の上に高分子
被膜や耐食性をもったＲｈ−Ｃ１ｒ 。
被膜や耐食性をもったＲｈ−Ｃ１ｒ 。
Ｎ１−Ｐなどの金属被膜を形成せしめる方法がとられて
いる。しかしながら、均一でピンホールがない保護被膜
層を形成するためにはミクロン以上の膜厚を要するため
、磁気ヘッドと磁性被膜層との実効距離が長くなり、記
録密度が低下する。捷あるいは、無水クロム酸、重クロ
ム酸塩などを含む有機溶剤で処理することにより、表面
酸化層を形成′し、耐食性を向上させるなどの方法があ
る。
いる。しかしながら、均一でピンホールがない保護被膜
層を形成するためにはミクロン以上の膜厚を要するため
、磁気ヘッドと磁性被膜層との実効距離が長くなり、記
録密度が低下する。捷あるいは、無水クロム酸、重クロ
ム酸塩などを含む有機溶剤で処理することにより、表面
酸化層を形成′し、耐食性を向上させるなどの方法があ
る。
しかし、前者は保護性が高いコバルトの酸化物、ＣＯ２
Ｏ３，ＣＯ３Ｏ４を形成するためには、２５０″Ｃ以−
４−の加熱処理が必要であり、ポリエチレンテレフタレ
ートなどを基板とする場合、プラスチックフィルムの耐
熱性に問題があること、さらに、基体と金属薄膜との熱
ひずみによるカールの問題があり、実用的に満足できる
ものが得られない。又、後者の湿式処理については、浸
漬、乾燥工程が入り、広い面積に対して、均一な酸化被
膜の形成を制御することは極めてむずかしい。また、溶
液中の不純物が表面に付着残跡することにより、耐食性
を低化させる。本発明は従来における以−にのような問
題を解決しようとするもので以下に図面を用いその実施
例を説明する。
Ｏ３，ＣＯ３Ｏ４を形成するためには、２５０″Ｃ以−
４−の加熱処理が必要であり、ポリエチレンテレフタレ
ートなどを基板とする場合、プラスチックフィルムの耐
熱性に問題があること、さらに、基体と金属薄膜との熱
ひずみによるカールの問題があり、実用的に満足できる
ものが得られない。又、後者の湿式処理については、浸
漬、乾燥工程が入り、広い面積に対して、均一な酸化被
膜の形成を制御することは極めてむずかしい。また、溶
液中の不純物が表面に付着残跡することにより、耐食性
を低化させる。本発明は従来における以−にのような問
題を解決しようとするもので以下に図面を用いその実施
例を説明する。
第１図に示すように、ポリエチレンテレフタレートの磁
性層２を真空蒸着で形成させ、さらに、その表面にオー
バコート層として、スパッタリング、あるいは真空蒸着
で６ｏ〜１００へのアルミニウム膜３を形成させアルミ
ニウム膜形成体４を作成する。な訃ここでオーバコート
層としてアルミニウムを用いたのは高純度のものが得ら
れやすく、捷た融点が低いため蒸着しやすく、かつ、そ
の酸化物がち密で極めて安定であるためである。
性層２を真空蒸着で形成させ、さらに、その表面にオー
バコート層として、スパッタリング、あるいは真空蒸着
で６ｏ〜１００へのアルミニウム膜３を形成させアルミ
ニウム膜形成体４を作成する。な訃ここでオーバコート
層としてアルミニウムを用いたのは高純度のものが得ら
れやすく、捷た融点が低いため蒸着しやすく、かつ、そ
の酸化物がち密で極めて安定であるためである。
さて」−述のように磁性層２」−にアルミニウム膜を形
成させた後、図に示すように複数組相対向させた平行電
極５間でグロー放電させ、アルミニウム膜形成体４の表
面部を酸化させる。グロー放電条件として、真空度は０
２ 雰囲気下、ｏ、 １Ｔｏｒｒ程度、電圧は約５０
０Ｖ、電流密度は約０．５ ｍＡΔＪ。
成させた後、図に示すように複数組相対向させた平行電
極５間でグロー放電させ、アルミニウム膜形成体４の表
面部を酸化させる。グロー放電条件として、真空度は０
２ 雰囲気下、ｏ、 １Ｔｏｒｒ程度、電圧は約５０
０Ｖ、電流密度は約０．５ ｍＡΔＪ。
処理時間は１分間である。なお図における６はグロー放
電用電源である。
電用電源である。
このようにグロー放電酸化処理したコバルト・ニッケル
ーアルミニウムの金属薄膜、及び、未処理品、コバルト
・ニッケル金属薄膜について、Ｘ線光電子分光法（ＥＳ
ＣＡ ）及び、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）で表面の
酸化状態、表面付着物、深さ方向の状態分析、元素分析
を行なった。−例トシテ、コバル）（８０係）、ニッケ
ル（２０％）蒸着膜だけの場合、表面は酸化物である（
３ｏＯ，ＮｉＯが形成されているが、深さ方向の分析よ
り、表面酸化層は２０へ・３ｏ八へ度と極めて薄い自然
酸化層であり、耐食性を有する保護膜にはなり得ないも
のとみなされる。また、上記コバルト・ニッケル蒸着膜
上にアルミニウムを蒸着しただけの場合においても、前
記同様、表面は自然酸化層が形成されているが極めて薄
い。これら蒸着膜だけの場合、表面に、蒸着時の真空ポ
ンプ油のミストなどによる汚染とみなされるカーボンの
付着、あるいは、一部水酸化物の形成がみられる。そし
て、このような付着物や水酸化物が多い場合、自然環境
下で結露状態になった時、錆発生がより生じやすく、耐
食性に悪影響を及ぼすことがわかった。これに対して、
前述のよう々酸素ガス雰囲気下でのグロー放電酸化処理
をすると、表面の伺着物はエツチング作用により除去さ
れ、かつ、水酸化物はほとんど減少してなくなり、安定
なＡｌ２Ｏ３が形成される。そして、第２図（ａ）に未
処理品のＡＥＳによる元素分布の分析結果をそれぞれ示
すように、酸化層は６０人程度の深さ捷で形成され捷だ
グロー処理時間と共に増大していることがわかった。
ーアルミニウムの金属薄膜、及び、未処理品、コバルト
・ニッケル金属薄膜について、Ｘ線光電子分光法（ＥＳ
ＣＡ ）及び、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）で表面の
酸化状態、表面付着物、深さ方向の状態分析、元素分析
を行なった。−例トシテ、コバル）（８０係）、ニッケ
ル（２０％）蒸着膜だけの場合、表面は酸化物である（
３ｏＯ，ＮｉＯが形成されているが、深さ方向の分析よ
り、表面酸化層は２０へ・３ｏ八へ度と極めて薄い自然
酸化層であり、耐食性を有する保護膜にはなり得ないも
のとみなされる。また、上記コバルト・ニッケル蒸着膜
上にアルミニウムを蒸着しただけの場合においても、前
記同様、表面は自然酸化層が形成されているが極めて薄
い。これら蒸着膜だけの場合、表面に、蒸着時の真空ポ
ンプ油のミストなどによる汚染とみなされるカーボンの
付着、あるいは、一部水酸化物の形成がみられる。そし
て、このような付着物や水酸化物が多い場合、自然環境
下で結露状態になった時、錆発生がより生じやすく、耐
食性に悪影響を及ぼすことがわかった。これに対して、
前述のよう々酸素ガス雰囲気下でのグロー放電酸化処理
をすると、表面の伺着物はエツチング作用により除去さ
れ、かつ、水酸化物はほとんど減少してなくなり、安定
なＡｌ２Ｏ３が形成される。そして、第２図（ａ）に未
処理品のＡＥＳによる元素分布の分析結果をそれぞれ示
すように、酸化層は６０人程度の深さ捷で形成され捷だ
グロー処理時間と共に増大していることがわかった。
壕だ真空蒸着で数１０人程度の極めて薄い蒸着膜を形成
させた場合、ピンホールが多く、均一な薄膜が得られが
たいが、このような薄膜の場合でも、グロー放電酸化処
理は活性点をより酸化して、安定な酸化被膜を形成する
。そしてコバルトの場合、より安定な酸化コバルトＣＯ
２Ｏ３が形成される。
させた場合、ピンホールが多く、均一な薄膜が得られが
たいが、このような薄膜の場合でも、グロー放電酸化処
理は活性点をより酸化して、安定な酸化被膜を形成する
。そしてコバルトの場合、より安定な酸化コバルトＣＯ
２Ｏ３が形成される。
次に前述のようにして作成した磁気テープについて、４
０’Ｃ，相対湿度９０チ雰囲気中での腐食試験を行々い
、表面層の変色状態、及び、光学顕微鏡で錆発生の観察
を行々っだ。その結果コバルト・ニッケル蒸着膜だけの
ものでは、１週間で全面に錆発生が認められ、黄色に変
色しており、捷だ磁気テープとしての走行性を調べるヘ
ッドによる引っかき試験でも磁性層のはく離が認められ
た。
０’Ｃ，相対湿度９０チ雰囲気中での腐食試験を行々い
、表面層の変色状態、及び、光学顕微鏡で錆発生の観察
を行々っだ。その結果コバルト・ニッケル蒸着膜だけの
ものでは、１週間で全面に錆発生が認められ、黄色に変
色しており、捷だ磁気テープとしての走行性を調べるヘ
ッドによる引っかき試験でも磁性層のはく離が認められ
た。
甘た、コバルト・ニッケル蒸着膜−ににアルミニウム膜
を形成したものでは、１週間の腐食試験で、点状の錆が
認められ、走行試験では部分的々ｄく離が認められた。
を形成したものでは、１週間の腐食試験で、点状の錆が
認められ、走行試験では部分的々ｄく離が認められた。
これに対し１本発明によるものでは、１ケ月の放置試験
でもほとんど変色は認められず、かつ、引っかき試験で
も何ら問題が々いことが確認された。また、磁性層の表
面に厚さ１００人程鹿のアルミニウムを主成分とする非
磁性層で被覆しても電磁変換特性上何ら問題のないこと
が確認された。
でもほとんど変色は認められず、かつ、引っかき試験で
も何ら問題が々いことが確認された。また、磁性層の表
面に厚さ１００人程鹿のアルミニウムを主成分とする非
磁性層で被覆しても電磁変換特性上何ら問題のないこと
が確認された。
以上のように、本発明によると磁気記録媒体の耐食性を
容易に高めることができる。
容易に高めることができる。
第１図は本発明による磁気記録媒体の製造方法を示す図
、第２図（ａ） 、 （ｂ）は磁性層を構成するコバル
ト・ニッケル蒸着膜−］二にアルミニウム膜を形成した
ものについてのオージェ電子分光法による深さ方向の元
素分布の分析結果を示す図で、このう、・ち同図（２Ｌ
）はグロー放電酸化処理がなされていないもの、捷た同
図（ｂ）は本発明によるグロー放電酸化結果を示す。 １・・・・・・基板フィルム、２・・・・・磁性層、３
・・・・・アルミニウム膜、５・・・・・電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名歌
寸 堺嬰質
Ｉ ａ ３ ＋７ 。
、第２図（ａ） 、 （ｂ）は磁性層を構成するコバル
ト・ニッケル蒸着膜−］二にアルミニウム膜を形成した
ものについてのオージェ電子分光法による深さ方向の元
素分布の分析結果を示す図で、このう、・ち同図（２Ｌ
）はグロー放電酸化処理がなされていないもの、捷た同
図（ｂ）は本発明によるグロー放電酸化結果を示す。 １・・・・・・基板フィルム、２・・・・・磁性層、３
・・・・・アルミニウム膜、５・・・・・電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名歌
寸 堺嬰質
Ｉ ａ ３ ＋７ 。
Claims (5)
- （１）金属磁性体から々る磁性層上に少なくとも表面側
が酸化されたアルミニウム膜を有することを特徴とする
磁気記録媒体。 - （２）金属磁性体がコバルト・ニッケル合金であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体
。 - （３）金属磁性体から々る磁性層上にアルミニウム膜を
設けた後、上記アルミニウム膜に酸化処理を施すことを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - （４）厚さ５ｏ〜１００人のアルミニウム膜を設けるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の磁気記録媒
体の製造方法。 - （５）アルミニウム膜にプラズマによる酸化処理を施す
ことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56124349A JPS5826323A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56124349A JPS5826323A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5826323A true JPS5826323A (ja) | 1983-02-16 |
| JPH0125140B2 JPH0125140B2 (ja) | 1989-05-16 |
Family
ID=14883168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56124349A Granted JPS5826323A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5826323A (ja) |
-
1981
- 1981-08-07 JP JP56124349A patent/JPS5826323A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0125140B2 (ja) | 1989-05-16 |
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