JPH0125140B2 - - Google Patents
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- JPH0125140B2 JPH0125140B2 JP56124349A JP12434981A JPH0125140B2 JP H0125140 B2 JPH0125140 B2 JP H0125140B2 JP 56124349 A JP56124349 A JP 56124349A JP 12434981 A JP12434981 A JP 12434981A JP H0125140 B2 JPH0125140 B2 JP H0125140B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はビデオテープレコーダあるいは電子計
算機などに用いられる磁気記録媒体およびその製
造方法に関し、耐食性を高めることを目的とす
る。
算機などに用いられる磁気記録媒体およびその製
造方法に関し、耐食性を高めることを目的とす
る。
磁気記録媒体の一つで、コバルト・ニツケルあ
るいはそれらを主成分とする合金の薄膜を、真空
蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイングな
どの方法で基板フイルム上に形成させた金属薄膜
型磁気記録テープは、従来の酸化鉄を主体とする
強磁性粉末を樹脂バインダーで結合せしめた通常
の塗布型テープにくらべて、湿度中、あるいは腐
食性ガス中で磁性層が腐食し易く、記録媒体とし
ての磁気特性、走行特性の劣化をもたらすことが
ある。そのため、従来は保護層として、磁性薄膜
の上に高分子被膜や耐食性もつたRh−Cr、Ni−
Ｐなどの金属被膜を形成せしめる方法がとられて
いる。しかしながら、均一でピンホールがない保
護被膜層を形成するためにはミクロン以上の膜厚
を要するため、磁気ヘツドと磁性被膜層との実効
距離が長くなり、記録密度が低下する。また、金
属磁性薄膜を酸化雰囲気中で加熱処理したり、酸
化性溶液である過マンガン酸塩の水溶液中に浸
漬、あるいは、無水クロム酸、重クロム酸塩など
を含む有機溶剤で処理することにより、表面酸化
層を形成し、耐食性を向上させるなどの方法があ
る。しかし、前者は保護性が高いコバルトの酸化
物、Co2O3、Co3O4を形成するためには、250℃
以上の加熱処理が必要であり、ポリエチレンテレ
フタレートなどを基板とする場合、プラスチツク
フイルムの耐熱性に問題があること、さらに、基
体と金属薄膜との熱ひずみによるカールの問題が
あり、実用的に満足できるものが得られない。
又、後者の湿式処理については、浸漬、乾燥工程
が入り、広い面積に対して、均一な酸化被膜の形
成を制御することは極めてむずかしい。また、溶
液中の不純物が表面に付着残跡することにより、
耐食性を低下させる。本発明は従来における以上
のような門題を解決しようとするもので以下に図
面を用いその実施例を説明する。
るいはそれらを主成分とする合金の薄膜を、真空
蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイングな
どの方法で基板フイルム上に形成させた金属薄膜
型磁気記録テープは、従来の酸化鉄を主体とする
強磁性粉末を樹脂バインダーで結合せしめた通常
の塗布型テープにくらべて、湿度中、あるいは腐
食性ガス中で磁性層が腐食し易く、記録媒体とし
ての磁気特性、走行特性の劣化をもたらすことが
ある。そのため、従来は保護層として、磁性薄膜
の上に高分子被膜や耐食性もつたRh−Cr、Ni−
Ｐなどの金属被膜を形成せしめる方法がとられて
いる。しかしながら、均一でピンホールがない保
護被膜層を形成するためにはミクロン以上の膜厚
を要するため、磁気ヘツドと磁性被膜層との実効
距離が長くなり、記録密度が低下する。また、金
属磁性薄膜を酸化雰囲気中で加熱処理したり、酸
化性溶液である過マンガン酸塩の水溶液中に浸
漬、あるいは、無水クロム酸、重クロム酸塩など
を含む有機溶剤で処理することにより、表面酸化
層を形成し、耐食性を向上させるなどの方法があ
る。しかし、前者は保護性が高いコバルトの酸化
物、Co2O3、Co3O4を形成するためには、250℃
以上の加熱処理が必要であり、ポリエチレンテレ
フタレートなどを基板とする場合、プラスチツク
フイルムの耐熱性に問題があること、さらに、基
体と金属薄膜との熱ひずみによるカールの問題が
あり、実用的に満足できるものが得られない。
又、後者の湿式処理については、浸漬、乾燥工程
が入り、広い面積に対して、均一な酸化被膜の形
成を制御することは極めてむずかしい。また、溶
液中の不純物が表面に付着残跡することにより、
耐食性を低下させる。本発明は従来における以上
のような門題を解決しようとするもので以下に図
面を用いその実施例を説明する。
第１図に示すように、ポリエチレンテレフタレ
ートなどの基板フイルム１上にコバルト・ニツケ
ル系の磁性層２を真空蒸着で形成させ、さらに、
その表面にオーバコート層として、スパツタリン
グ、あるいは真空蒸着で50〜100Åのアルミニウ
ム膜３を形成させアルミニウム膜形成体４を作成
する。なおここでオーバコート層としてアルミニ
ウムを用いたのは高純度のものが得られやすく、
また融点が低いため蒸着しやすく、かつ、その酸
化物がち密で極めて安定であるためである。
ートなどの基板フイルム１上にコバルト・ニツケ
ル系の磁性層２を真空蒸着で形成させ、さらに、
その表面にオーバコート層として、スパツタリン
グ、あるいは真空蒸着で50〜100Åのアルミニウ
ム膜３を形成させアルミニウム膜形成体４を作成
する。なおここでオーバコート層としてアルミニ
ウムを用いたのは高純度のものが得られやすく、
また融点が低いため蒸着しやすく、かつ、その酸
化物がち密で極めて安定であるためである。
さて上述のように磁性層２上にアルミニウム膜
を形成させた後、図に示すように複数組相対向さ
せた平行電極５間でグロー放電させ、アルミニウ
ム膜形成体４の表面部を酸化させる。グロー放電
条件として、真空度はO2雰囲気下、0.1Torr程
度、電圧は約500V、電流密度は約0.5mA／cm2、
処理時間は１分間である。なお図における６はグ
ロー放電用電源である。
を形成させた後、図に示すように複数組相対向さ
せた平行電極５間でグロー放電させ、アルミニウ
ム膜形成体４の表面部を酸化させる。グロー放電
条件として、真空度はO2雰囲気下、0.1Torr程
度、電圧は約500V、電流密度は約0.5mA／cm2、
処理時間は１分間である。なお図における６はグ
ロー放電用電源である。
このようにグロー放電酸化処理したコバルト・
ニツケル−アルミニウムの金属薄膜、及び、未処
理品、コバルト・ニツケル金属薄膜について、Ｘ
線光電子分光法（ESCA）及び、オージエ電子分
光法（AES）で表面の酸化状態、表面付着物、
深さ方向の状態分析、元素分析を行なつた。一例
として、コバルト（80％）、ニツケル（20％）蒸
着膜だけの場合、表面は酸化物であるCoO、NiO
が形成されているが、深さ方向の分析より、表面
酸化層は20〜30Å程度と極めて薄い自然酸化層で
あり、耐食性を有する保護膜にはなり得ないもの
とみなされる。また、上記コバルト・ニツケル蒸
着膜上にアルミニウムを蒸着しただけの場合にお
いても、前記同様、表面は自然酸化層が形成され
ているが極めて薄い。これら蒸着膜だけの場合、
表面に、蒸着時の真空ポンプ油のミストなどによ
る汚染とみなされるカーボンの付着、あるいは、
一部水酸化物の形成がみられる。そして、このよ
うな付着物や水酸化物が多い場合、自然環境下で
結露状態になつた時、錆発生がより生じやすく、
耐食性に悪影響を及ぼすことがわかつた。これに
対して、前述のような酸素ガス雰囲気下でのグロ
ー放電酸化処理をすると、表面の付着物はエツチ
ング作用により除去され、かつ、水酸化物はほと
んど減少してなくなり、安定なAl2O3が形成され
る。そして、第２図ａに未処理品のAESによる
元素分布の分析結果をそれぞれ示すように、酸化
層は50Å程度の深さまで形成されまたグロー処理
時間と共に増大していることがわかつた。また真
空蒸着で数10Å程度の極めて薄い蒸着膜を形成さ
せた場合、ピンホールが多く、均一な薄膜が得ら
れがたいが、このような薄膜の場合でも、グロー
放電酸化処理は活性点をより酸化して、安定な酸
化被膜を形成する。そしてコバルトの場合、より
安定な酸化コバルトCo2O3が形成される。
ニツケル−アルミニウムの金属薄膜、及び、未処
理品、コバルト・ニツケル金属薄膜について、Ｘ
線光電子分光法（ESCA）及び、オージエ電子分
光法（AES）で表面の酸化状態、表面付着物、
深さ方向の状態分析、元素分析を行なつた。一例
として、コバルト（80％）、ニツケル（20％）蒸
着膜だけの場合、表面は酸化物であるCoO、NiO
が形成されているが、深さ方向の分析より、表面
酸化層は20〜30Å程度と極めて薄い自然酸化層で
あり、耐食性を有する保護膜にはなり得ないもの
とみなされる。また、上記コバルト・ニツケル蒸
着膜上にアルミニウムを蒸着しただけの場合にお
いても、前記同様、表面は自然酸化層が形成され
ているが極めて薄い。これら蒸着膜だけの場合、
表面に、蒸着時の真空ポンプ油のミストなどによ
る汚染とみなされるカーボンの付着、あるいは、
一部水酸化物の形成がみられる。そして、このよ
うな付着物や水酸化物が多い場合、自然環境下で
結露状態になつた時、錆発生がより生じやすく、
耐食性に悪影響を及ぼすことがわかつた。これに
対して、前述のような酸素ガス雰囲気下でのグロ
ー放電酸化処理をすると、表面の付着物はエツチ
ング作用により除去され、かつ、水酸化物はほと
んど減少してなくなり、安定なAl2O3が形成され
る。そして、第２図ａに未処理品のAESによる
元素分布の分析結果をそれぞれ示すように、酸化
層は50Å程度の深さまで形成されまたグロー処理
時間と共に増大していることがわかつた。また真
空蒸着で数10Å程度の極めて薄い蒸着膜を形成さ
せた場合、ピンホールが多く、均一な薄膜が得ら
れがたいが、このような薄膜の場合でも、グロー
放電酸化処理は活性点をより酸化して、安定な酸
化被膜を形成する。そしてコバルトの場合、より
安定な酸化コバルトCo2O3が形成される。
次に前述のようにして作成した磁気テープにつ
いて、40℃、相対湿度90％雰囲気中での腐食試験
を行ない、表面層の変色状態、及び、光学顕微鏡
で錆発生の観察を行なつた。その結果コバルト・
ニツケル蒸着膜だけのものでは、１週間で全面に
錆発生が認められ、黄色に変色しており、また磁
気テープとしての走行性を調べるヘツドによる引
つかき試験でも磁性層のはく離が認められた。ま
た、コバルト・ニツケル蒸着膜上にアルミニウム
膜を形成したものでは、１週間の腐食試験で、点
状の錆が認められ、走行試験では部分的なはく離
が認められた。これに対し、本発明によるもので
は、１ケ月の放置試験でもほとんど変色は認めら
れず、かつ、引つかき試験でも何ら問題がないこ
とが確認された。また、磁性層の表面に厚さ100
Å程度のアルミニウムを主成分とする非磁性層で
被覆しても電磁変換特性上何ら問題のないことが
確認された。
いて、40℃、相対湿度90％雰囲気中での腐食試験
を行ない、表面層の変色状態、及び、光学顕微鏡
で錆発生の観察を行なつた。その結果コバルト・
ニツケル蒸着膜だけのものでは、１週間で全面に
錆発生が認められ、黄色に変色しており、また磁
気テープとしての走行性を調べるヘツドによる引
つかき試験でも磁性層のはく離が認められた。ま
た、コバルト・ニツケル蒸着膜上にアルミニウム
膜を形成したものでは、１週間の腐食試験で、点
状の錆が認められ、走行試験では部分的なはく離
が認められた。これに対し、本発明によるもので
は、１ケ月の放置試験でもほとんど変色は認めら
れず、かつ、引つかき試験でも何ら問題がないこ
とが確認された。また、磁性層の表面に厚さ100
Å程度のアルミニウムを主成分とする非磁性層で
被覆しても電磁変換特性上何ら問題のないことが
確認された。
以上のように、本発明によると磁気記録媒体の
耐食性を容易に高めることができる。
耐食性を容易に高めることができる。
第１図は本発明による磁気記録媒体の製造方法
を示す図、第２図ａ，ｂは磁性層を構成するコバ
ルト・ニツケル蒸着膜上にアルミニウム膜を形成
したものについてのオージエ電子分光法による深
さ方向の元素分布の分析結果を示す図で、このう
ち同図ａはグロー放電酸化処理がなされていない
もの、また同図ｂは本発明によるグロー放電酸化
処理がなされたもの、のそれぞれについての分析
結果を示す。 １……基板フイルム、２……磁性層、３……ア
ルミニウム膜、５……電極。
を示す図、第２図ａ，ｂは磁性層を構成するコバ
ルト・ニツケル蒸着膜上にアルミニウム膜を形成
したものについてのオージエ電子分光法による深
さ方向の元素分布の分析結果を示す図で、このう
ち同図ａはグロー放電酸化処理がなされていない
もの、また同図ｂは本発明によるグロー放電酸化
処理がなされたもの、のそれぞれについての分析
結果を示す。 １……基板フイルム、２……磁性層、３……ア
ルミニウム膜、５……電極。
Claims (1)
- １ 金属磁性体からなる磁性層上にアルミニウム
膜を設けた後、前記アルミニウム膜にプラズマに
よる酸化処理を施すことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56124349A JPS5826323A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56124349A JPS5826323A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5826323A JPS5826323A (ja) | 1983-02-16 |
| JPH0125140B2 true JPH0125140B2 (ja) | 1989-05-16 |
Family
ID=14883168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56124349A Granted JPS5826323A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5826323A (ja) |
-
1981
- 1981-08-07 JP JP56124349A patent/JPS5826323A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5826323A (ja) | 1983-02-16 |
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