JPS634423A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に係り、特に高分子基板上に少な
（とも磁性層をイオンプレーティング法で形成する磁気
記録媒体の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

イオンプレーティング法は単結晶ができ易いこと、耐久
性が向上すること、密着性が向上すること、反応性が高
いことなどの特徴を有し、優れたＥＩ　膜製造法である
。イオンプレーティング法の磁気記録媒体への適用も磁
気特性の向上、耐久性、密着性の向上などを狙い活発に
研究開発が進められている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、高分子基板上に磁性層ならびに保護潤滑層をイ
オンプレーティング法によって形成する場合、高分子基
板が電気絶縁性であるため、基板がイオンによって帯電
し、膜の表面を荒し、改質が不均一になり、そのために
磁気特性や磁気ヘッドとの摺動特性が低下するという欠
点を有している。

本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、
磁気特性、耐久性、信頼性に優れた磁気記録媒体の製造
方法を提供するにある。

〔・問題点を解決するための手段〕

前述の目的を達成するため、本発明は、高分子基板上に
少なくとも磁性層をイオンプレーティング法によって形
成する磁気記録媒体の製造方法において、前記高分子基
板の少なくとも磁性層を形成する側の表面が導電性を有
していることを特徴とするものである。

〔実施例〕

本発明の明細書で述べるイオンプレーティング法とは、
７発原子もしくはガスをイオン化した後、電界によって
イオンもしくはイオンを含んだ蒸気を基板側に吸着させ
る薄膜形成法である。このイオンプレーティング法には
、具体的には直流励起型イオンプレーティング法、高周
波励起型イオンプレーティング法、クラスターイオンビ
ーム法、イオン打ち込み、反応性イオンプレーティング
法などがある。

第１図は、磁気記録媒体製造装置の概略構成図である。

同図に示すように高分子基板４は、供給ロール１から回
転ドラム３を通り、巻き取りロール２に巻き取られる。

電子ビーム加熱により蒸発源５から蒸発した蒸気は、高
周波電極６によってイオン化される。回転ドラム３には
直流定電圧電源９によって負電位が与えられており、前
記イオンが電界加速されて高分子基板４に衝突して付着
し、これによって磁性層や保護潤滑層が形成される。

図中の７はマツチングボックス、８は高周波電源、ｌＯ
はガス導入口である。なお、前述の供給ロール１、巻き
取りロール２ならびに回転ドラム３はアースから絶縁さ
れている。

次に具体的な実施例について説明する。

実施例１ 高分子基板４としてカーボンや金属などのＲ電性微粒子
を内部に分散保持した導電性ポリイミドフイルムを使用
した。

このポリイミドフィルムの表面抵抗は約１０１０Ω／ｓ
ｑ程度、厚さは約５０μｍである。

Ｃ０とＣ，、の二元系合金を藩発源５として用い、第１
図に示す製造装置で高分子基板４上に高周波電力２００
Ｗ、直流電圧５００Ｖ、膜形成速度１００オングストロ
ーム／秒で膜厚０．２　μｍのＣ０Ｃ０５ｏ％−Ｃ，２
０ｗｔ％の磁性層１１を形成して、第４図に示すような
磁気記録媒体を製造した。

実施例２ 前記実施例１と同様にして導電性ポリイミドフィルムか
らなる高分子基板４上に、ｃ、ｓｏｗｔ％−Ｃ，２０ｗ
ｔ％の組成からなる膜厚０．２μｍの磁性層１１を形成
する。その後ｆ註性Ｎ１１上に、酸素ガスを導入しなが
ら高周波電力１００Ｗ、直流電圧８００■、膜形成速度
２０オングストローム／秒でケイ素をイオンプレーティ
ングし、第５図に示すように膜厚が０．０２μｍのＳ、
０□からなる保護層１２を形成して、第５図に示すよう
な磁気記録媒体を製造した。

比較例１ 高分子基板として電気絶縁性のポリイミドフィルムを用
いた以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体を製造し
た。

比較例２ 高分子基板として電気絶縁性のポリイミドフィルムを用
いた以外は実施例２と同様にして磁気記録媒体を製造し
た。

第２図に、前記実施例１ならびに比較例１で製造した磁
気記録媒体のフィルム長さ方向での磁性分布を示す。同
図の縦軸は膜面垂直方向に測定した保磁力、横軸は蒸着
距離を示す。この図から明らかなように、本発明の実施
例に係る磁気記録媒体はイオンプレーティング時に帯電
が起こらず、全体にわたって均質かつ高保磁力の磁性層
が形成される。

第３図に、前記実施例２ならびに比較例２で製造した磁
気記録媒体のフィルム長さ方向での耐久性を示す。同図
の縦軸は球面摺動試験（球面摺動子：フェライト、摺動
速度３００ｒ−ｐ−ｍ）の摺動回数、横軸は薄着距離を
示す。この図から明らかなように、本発明の実施例に係
る磁気記録媒体は、全体にわたって１４００キロバス程
度の優れた耐久性を有していることが分かる。

また実施例１、実施例２の磁気記録媒体はともに膜表面
状態が非常に滑らかであったが、比較例１、比較例２の
磁気記録媒体は膜表面に放電の跡が観測され、表面があ
れでいた。

第６図は、本発明の第３実施例を示す断面図である。こ
の実施例の場合、ポリイミドフィルムなどの電気絶縁性
高分子基板４の表面に例えば化学メツキなどによって電
ｉｆｆ膜１３を形成し、さらにその上に前記第２実施例
と同様にして磁性層１１ならびに保護層１２を、順次イ
オンプレーティング法によって形成して磁気記録媒体を
製造する。

本発明において、高分子基板の少な（とも磁性層が形成
される側の表面抵抗は約ＩＱＩＯΩ／ｓｑ以下にする必
要がある。

本発明において用いられる高分子基板としては、例えば
ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステ
ルなど各種の高分子フィルムがある。

本発明において用いられる磁性体としては、例えばコバ
ルト、鉄、ニッケルなどの遷移金属と種々の元素との合
金があり、特にコバルトを主成分とし、クロム、バナジ
ウム、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、タンタル、
タングステン、レニウム、オスミウムのグループから選
択された少なくとも１種の元素を含む強磁性のコバルト
合金が、優れた磁気異方性を有しているため好適である
。

〔発明の効果〕

本発明は前述のような構成になっており、高分子基板の
帯電防止により磁気特性、耐久性ならびに信頼性に優れ
た磁気記録媒体を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁気記録媒体製造装置の概略構成図、第２図は
各試料の磁気特性図、第３図は各試料の耐久特性図、第
４図、第５図ならびに第６図は本発明の各実施例に係る
磁気記録媒体の拡大断面図である。 ４・・・・・・高分子基板、１１・・・・・・磁性層、
１２・・・・・・第１図 ６：尚向及蔓佐 第２図 烹看距嶌荏（ｍ＋ 第３図 Ｑ　　　　　　２０　　　　　４０　　　　　６０　　
　　　８０魚責距濃ま（ｍｌ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）高分子基板上に少なくとも磁性層をイオンプレー
   ティング法によつて形成する磁気記録媒体の製造方法に
   おいて、前記高分子基板の少なくとも磁性層を形成する
   側の表面が導電性を有していることを特徴とする磁気記
   録媒体の製造方法。
2. （２）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記高
   分子基板が内部に導電性微粒子を分散保持した導電性フ
   ィルムであることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
   。
3. （３）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記高
   分子基板の磁性層を形成する表面に導電性薄膜が形成さ
   れていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。