JP2548233B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JP2548233B2 JP2548233B2 JP62262134A JP26213487A JP2548233B2 JP 2548233 B2 JP2548233 B2 JP 2548233B2 JP 62262134 A JP62262134 A JP 62262134A JP 26213487 A JP26213487 A JP 26213487A JP 2548233 B2 JP2548233 B2 JP 2548233B2
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- Japan
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- magnetic recording
- recording medium
- thin film
- film
- ferromagnetic metal
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関するもので
ある。
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関するもので
ある。
従来の技術 高分子フィルム上に直接又は下地層を介し電子ビーム
蒸着法でCo−Niを斜め蒸着したいわゆる蒸着テープは、
蒸着時に酸素ガスを導入することで電磁変換特性，耐久
性，耐食性の向上をはかっている〔例えばアイイーイー
イー トランザクションズ オン マグネティクス（IE
EE Transactions on Magnetics）vol、MAG−20,NO−5,
P.P,824−826（1984）参照〕。更に一層の耐久性向上を
はかるひとつの方法は、磁気記録層の微細凹凸化である
〔アイイーイーイー トランザクションズ オン マグ
ネティクス vol、MAG−21,P.P,1524〜1526（198
5）〕。加えて、保護膜、潤滑剤との数多くの組み合わ
せが検討されるなかでダイアモンド上硬質炭素薄膜を含
めてアモルファスカーボン薄膜の保護効果が注目されて
いる〔電子通信学会、磁気記録研究会資料、MR85−56
（1986），特開昭61−142525号公報特開昭61−126627号
公報等〕。
蒸着法でCo−Niを斜め蒸着したいわゆる蒸着テープは、
蒸着時に酸素ガスを導入することで電磁変換特性，耐久
性，耐食性の向上をはかっている〔例えばアイイーイー
イー トランザクションズ オン マグネティクス（IE
EE Transactions on Magnetics）vol、MAG−20,NO−5,
P.P,824−826（1984）参照〕。更に一層の耐久性向上を
はかるひとつの方法は、磁気記録層の微細凹凸化である
〔アイイーイーイー トランザクションズ オン マグ
ネティクス vol、MAG−21,P.P,1524〜1526（198
5）〕。加えて、保護膜、潤滑剤との数多くの組み合わ
せが検討されるなかでダイアモンド上硬質炭素薄膜を含
めてアモルファスカーボン薄膜の保護効果が注目されて
いる〔電子通信学会、磁気記録研究会資料、MR85−56
（1986），特開昭61−142525号公報特開昭61−126627号
公報等〕。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、従来の方法で硬質カーボン膜を形成し
たとき、強磁性金属薄膜が部分酸化膜の場合を含め高密
度記録性能が期待されているCo−Cr,Co−Cr−Nb等の垂
直磁化膜の場合にも、保護効果を高めようとすると、膜
厚が厚くなるため、短波長でのスペーシング損失が問題
となり、改善が望まれていた。
たとき、強磁性金属薄膜が部分酸化膜の場合を含め高密
度記録性能が期待されているCo−Cr,Co−Cr−Nb等の垂
直磁化膜の場合にも、保護効果を高めようとすると、膜
厚が厚くなるため、短波長でのスペーシング損失が問題
となり、改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので耐久性を
確保した上でスペーシング損失の小さな磁気記録媒体を
製造する方法を提供することを目的とするものである。
確保した上でスペーシング損失の小さな磁気記録媒体を
製造する方法を提供することを目的とするものである。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、移動する高分子フィルム等の起板上の強磁性
金属薄膜に近接させて、開孔部をもつ反応管を配し、開
孔部近傍にグラファイト電極、炭火水素系ガス導入部に
加速電極を配し、グラファイト電極に対し加速電極が正
電位になるよう保持した状態でグロー放電を誘起せしめ
炭素被膜を形成するようにしたものである。
造方法は、移動する高分子フィルム等の起板上の強磁性
金属薄膜に近接させて、開孔部をもつ反応管を配し、開
孔部近傍にグラファイト電極、炭火水素系ガス導入部に
加速電極を配し、グラファイト電極に対し加速電極が正
電位になるよう保持した状態でグロー放電を誘起せしめ
炭素被膜を形成するようにしたものである。
作用 上記製造方法により、炭化水素系の放電ガスがグロー
放電によりカーボンと水素に分解され、一部はカーボン
イオンおよび水素イオンとしても存在する。これらのイ
オンは、グラファイト電極に対し、スパッタリング作用
をもち、そのスパッタリング作用で得られる炭素は、強
磁性金属薄膜に近い位置で生成されるので、エネルギー
を失わずに薄膜上に堆積していく。その結果良質の欠陥
の少ない炭素皮膜となることから、膜厚が薄くなっても
十分な保護効果のある炭素皮膜を与えることが出来るよ
うになる。
放電によりカーボンと水素に分解され、一部はカーボン
イオンおよび水素イオンとしても存在する。これらのイ
オンは、グラファイト電極に対し、スパッタリング作用
をもち、そのスパッタリング作用で得られる炭素は、強
磁性金属薄膜に近い位置で生成されるので、エネルギー
を失わずに薄膜上に堆積していく。その結果良質の欠陥
の少ない炭素皮膜となることから、膜厚が薄くなっても
十分な保護効果のある炭素皮膜を与えることが出来るよ
うになる。
実施例 以下、図面を参照しながら、本発明の実施例について
説明する。図は本発明の製造方法を実施するのに用いた
薄膜形成装置の要部構成図である。図において、１は処
理基板で、高分子フィルム上に直接あるいは、微粒子塗
布層を介して、Co−Ni,Co−Ni−O,Co−Cr等の強磁性金
属薄膜を電子ビーム蒸着法、高周波スパッタリッグ法等
で形成したものである。２は巻出し軸、、３は巻取り
軸、４は反応管で、その開孔部は、強磁性金属薄膜に近
接して対向して設けられ、開孔部内の開口端部に内周に
沿ってリング上のグラファイト電極５が配設され、メッ
シュ状加速電極６が、ガス導入部７側に配設されてい
る。メッシュ状加速電極６とグラファイト電極５間には
直流電源８を接続しグラファイト電極５に対し、メッシ
ュ状加速電極６を正電位に保つようにする。９は真空
槽、10は真空排気系、11は炭化水素系ガス導入調節弁、
12は高周波コイルである。
説明する。図は本発明の製造方法を実施するのに用いた
薄膜形成装置の要部構成図である。図において、１は処
理基板で、高分子フィルム上に直接あるいは、微粒子塗
布層を介して、Co−Ni,Co−Ni−O,Co−Cr等の強磁性金
属薄膜を電子ビーム蒸着法、高周波スパッタリッグ法等
で形成したものである。２は巻出し軸、、３は巻取り
軸、４は反応管で、その開孔部は、強磁性金属薄膜に近
接して対向して設けられ、開孔部内の開口端部に内周に
沿ってリング上のグラファイト電極５が配設され、メッ
シュ状加速電極６が、ガス導入部７側に配設されてい
る。メッシュ状加速電極６とグラファイト電極５間には
直流電源８を接続しグラファイト電極５に対し、メッシ
ュ状加速電極６を正電位に保つようにする。９は真空
槽、10は真空排気系、11は炭化水素系ガス導入調節弁、
12は高周波コイルである。
図に示した装置を用いて本発明の製造方法により製造
した磁気記録媒体について以下に比較例との対比しなが
ら説明する。
した磁気記録媒体について以下に比較例との対比しなが
ら説明する。
あらかじめ厚み10μｍのポリエチレンテレフタレート
上に直径100ÅのAl2O3を10/μm2配し、その後、このフ
ィルムを直径1mの円筒キャンに沿わせて、最小入射角44
度、５×10-5Torrの酸素分圧下でCo−Ni（Co:80wt％）
を電子ビーム蒸着し、0.1μｍのCo−Ni−Ｏ膜を配した
処理基板を準備し、真空槽をあらかじめ10-6Torrに排気
したのち、メタンガスを導入し、高周波コイルに13.56M
Hzの高周波を印加し、0.05Torrで高周波グロー放電を誘
起し、グラファイト電５と加速電極６の間に850Vを印加
した状態で、硬質炭素薄膜を100Å形成した。その上に
真空蒸着法によりパーフルオロオクタン酸を50Åを形成
し８ミリ幅の磁気テープとした。一方、比較例として、
グラファイト電極を取り除いた状態で、加速電極に正電
圧850Vを印加し、同じグロー放電条件で、硬質炭素薄膜
を200Å形成し、その上に真空蒸着法によりパーフルオ
ロオクタン酸を50Å形成し、８ミリ幅の磁気テープとし
た。
上に直径100ÅのAl2O3を10/μm2配し、その後、このフ
ィルムを直径1mの円筒キャンに沿わせて、最小入射角44
度、５×10-5Torrの酸素分圧下でCo−Ni（Co:80wt％）
を電子ビーム蒸着し、0.1μｍのCo−Ni−Ｏ膜を配した
処理基板を準備し、真空槽をあらかじめ10-6Torrに排気
したのち、メタンガスを導入し、高周波コイルに13.56M
Hzの高周波を印加し、0.05Torrで高周波グロー放電を誘
起し、グラファイト電５と加速電極６の間に850Vを印加
した状態で、硬質炭素薄膜を100Å形成した。その上に
真空蒸着法によりパーフルオロオクタン酸を50Åを形成
し８ミリ幅の磁気テープとした。一方、比較例として、
グラファイト電極を取り除いた状態で、加速電極に正電
圧850Vを印加し、同じグロー放電条件で、硬質炭素薄膜
を200Å形成し、その上に真空蒸着法によりパーフルオ
ロオクタン酸を50Å形成し、８ミリ幅の磁気テープとし
た。
両者のテープを８ミリビデオデッキを改造し、キャリ
ア周波数を5MHzから7MHzにあげ、C/Nを比較した。
ア周波数を5MHzから7MHzにあげ、C/Nを比較した。
処理のC/Nは比較例に対し、実施例が2.1dB良好で、40
℃５％RHでの繰り返し走行で300回目の再生C/Nは、実施
例が1dB以内の低下であったが比較例は1.5dB C/Nが低
下した。上記した特性低下の傾向は、Co−Cr垂直磁化膜
では更に広がり、実施例の方法によれば、150Åで保護
効果が実用水準といえるが、比較例は350Åと必要厚み
が大きくなる。これはスペーシング損失が大きくなるこ
とに起因したものである。なお本実施例ではグラファイ
ト電極はリング状としたが、反応管内周に複数個の電極
を配設する構成としてもよい。
℃５％RHでの繰り返し走行で300回目の再生C/Nは、実施
例が1dB以内の低下であったが比較例は1.5dB C/Nが低
下した。上記した特性低下の傾向は、Co−Cr垂直磁化膜
では更に広がり、実施例の方法によれば、150Åで保護
効果が実用水準といえるが、比較例は350Åと必要厚み
が大きくなる。これはスペーシング損失が大きくなるこ
とに起因したものである。なお本実施例ではグラファイ
ト電極はリング状としたが、反応管内周に複数個の電極
を配設する構成としてもよい。
発明の効果 以上のように本発明によれば、スペーシング損失の少
い、短波長記録に適した耐久性の良好な磁気記録媒体を
製造できるといったすぐれた効果がある。
い、短波長記録に適した耐久性の良好な磁気記録媒体を
製造できるといったすぐれた効果がある。
図は本発明を実施するのに用いた薄膜形成装置の要部構
成図である。 １……処理基板、４……反応管、５……グラファイト電
極、６……加速電極。
成図である。 １……処理基板、４……反応管、５……グラファイト電
極、６……加速電極。
Claims (1)
- 【請求項１】移動する基板上の強磁性金属薄膜に出力側
開口部を近接対向させた反応管を備え、前記反応管は開
口部の内側端部に配設されたグラファイト電極と、炭化
水素系ガス導入部に配設された加速電極とを有し、前記
グラファイト電極に対して前記加速電極を正電位に保持
した状態でグロー放電を誘起させ、前記強磁性金属薄膜
上に炭素被膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62262134A JP2548233B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62262134A JP2548233B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01105326A JPH01105326A (ja) | 1989-04-21 |
| JP2548233B2 true JP2548233B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=17371527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62262134A Expired - Lifetime JP2548233B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2548233B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6726993B2 (en) * | 1997-12-02 | 2004-04-27 | Teer Coatings Limited | Carbon coatings, method and apparatus for applying them, and articles bearing such coatings |
| JP4567867B2 (ja) * | 2000-10-24 | 2010-10-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 磁気記録ディスク用成膜装置及び磁気記録ディスク製作方法 |
| JP5055857B2 (ja) * | 2006-06-29 | 2012-10-24 | Ｊｆｅスチール株式会社 | Ｃｖｄ装置 |
| JP4857449B2 (ja) * | 2006-07-03 | 2012-01-18 | 発明テクノ株式会社 | 伸縮自在のジョイントボックス |
-
1987
- 1987-10-16 JP JP62262134A patent/JP2548233B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01105326A (ja) | 1989-04-21 |
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