JPS61133030A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS61133030A JPS61133030A JP25365384A JP25365384A JPS61133030A JP S61133030 A JPS61133030 A JP S61133030A JP 25365384 A JP25365384 A JP 25365384A JP 25365384 A JP25365384 A JP 25365384A JP S61133030 A JPS61133030 A JP S61133030A
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- magnetic recording
- recording medium
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高密度磁気記録媒体として利用される金属薄
膜型磁気記録媒体の製造方法に関するものであり、詳細
には金属ｉ膜により形成される磁性層の表面処理方法の
改良に関するものである。
膜型磁気記録媒体の製造方法に関するものであり、詳細
には金属ｉ膜により形成される磁性層の表面処理方法の
改良に関するものである。
（従来の技術）
磁気記録の分野においては、記録信号の高密度記録化や
記録波長の短波長化が進められているが、これに対応し
て抗磁力Ｈｃや残留磁束密度Ｂｒの大きな磁気記録媒体
が要望されている。
記録波長の短波長化が進められているが、これに対応し
て抗磁力Ｈｃや残留磁束密度Ｂｒの大きな磁気記録媒体
が要望されている。
そこで従来、例えば、ポリエステルフィルム等の非磁性
支持体上にＣｏ−Ｎｉ合金等の強磁性金属材料を真空蒸
着法やスパッタ法等の手段を用いて強磁性金属ｉ膜を直
接被着形成し、これを磁性層とした強磁性金属薄膜型磁
気記録媒体が提案されている。この強磁性金属薄膜型の
磁気記録媒体は、抗磁力Ｈｃや残留磁束密度Ｂｒが大き
いばかりでなく、磁性層の厚みを極めて薄くすることが
できるため記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さい
こと、強磁性材料の充填密度を高めることができること
等、磁気特性の点で数々の利点を有している。
支持体上にＣｏ−Ｎｉ合金等の強磁性金属材料を真空蒸
着法やスパッタ法等の手段を用いて強磁性金属ｉ膜を直
接被着形成し、これを磁性層とした強磁性金属薄膜型磁
気記録媒体が提案されている。この強磁性金属薄膜型の
磁気記録媒体は、抗磁力Ｈｃや残留磁束密度Ｂｒが大き
いばかりでなく、磁性層の厚みを極めて薄くすることが
できるため記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さい
こと、強磁性材料の充填密度を高めることができること
等、磁気特性の点で数々の利点を有している。
あるいは、高分子フィルム等の非磁性支持体上に、Ｃｏ
−Ｃｒ合金を真空蒸着法を用いて直接被着形成して磁
性層を形成し、この磁性層の厚さ方向の磁化により記録
を行う垂直磁化記録方式の磁気記録媒体も提案されてい
る。この垂直磁化記録方式の磁気記録媒体においては、
記録波長が短波長になるにしたがい、減磁界が小さくな
ることから、記録密度を飛Ｉ■的に高めることができ、
特に短波長記録、高密度記録に非常に有利であることが
知られている。
−Ｃｒ合金を真空蒸着法を用いて直接被着形成して磁
性層を形成し、この磁性層の厚さ方向の磁化により記録
を行う垂直磁化記録方式の磁気記録媒体も提案されてい
る。この垂直磁化記録方式の磁気記録媒体においては、
記録波長が短波長になるにしたがい、減磁界が小さくな
ることから、記録密度を飛Ｉ■的に高めることができ、
特に短波長記録、高密度記録に非常に有利であることが
知られている。
ところで、上述のように真空蒸着法により被着形成され
る金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体においては、ス
ペーシングロス等の点からその表面の平滑化が進められ
ているが、そのために上記磁気記録媒体の耐久性や走行
性等に問題が生じ、その改善が大きな課題となっている
。
る金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体においては、ス
ペーシングロス等の点からその表面の平滑化が進められ
ているが、そのために上記磁気記録媒体の耐久性や走行
性等に問題が生じ、その改善が大きな課題となっている
。
例えば、上記磁気記録媒体の磁性層、すなわち金属薄膜
の表面に潤滑剤等を塗布して保護膜を形成することによ
って上記耐久性や走行性等を改善することが試みられて
いる。しかしながら、この場合には、最初のうちは摩擦
係数が低減して走行性が良くなるが、上記潤滑剤の金属
薄膜に対する付着力が弱いので、次第にこの潤滑剤が磁
気ヘッド等で削り取られてしまい、急激に効果が減じて
しまうというように、耐久性の点や均一性、膜厚の点等
で問題が多い。
の表面に潤滑剤等を塗布して保護膜を形成することによ
って上記耐久性や走行性等を改善することが試みられて
いる。しかしながら、この場合には、最初のうちは摩擦
係数が低減して走行性が良くなるが、上記潤滑剤の金属
薄膜に対する付着力が弱いので、次第にこの潤滑剤が磁
気ヘッド等で削り取られてしまい、急激に効果が減じて
しまうというように、耐久性の点や均一性、膜厚の点等
で問題が多い。
一方、上記金属薄膜表面をプラズマ酸化により酸化させ
、この金属Ｗ／＃膜表面に極めて薄い酸化層を形成させ
ることにより、上記磁気記録媒体のスペーシングロスを
抑えたままで耐久性を向上する方法が提案されている。
、この金属Ｗ／＃膜表面に極めて薄い酸化層を形成させ
ることにより、上記磁気記録媒体のスペーシングロスを
抑えたままで耐久性を向上する方法が提案されている。
ところで、上記プラズマ酸化では、酸化と同時に金属薄
膜のエツチングが進行する。したがって、この方法で耐
久性を充分に向上させるためには、プラズマの条件を充
分に制御することが重要である。しかしながら、このプ
ラズマ酸化の制御は難しく、効果的な表−処理を行うに
は、制御性に問題がある。
膜のエツチングが進行する。したがって、この方法で耐
久性を充分に向上させるためには、プラズマの条件を充
分に制御することが重要である。しかしながら、このプ
ラズマ酸化の制御は難しく、効果的な表−処理を行うに
は、制御性に問題がある。
このように、従来の表面処理方法では、膜厚や制御性等
に問題が多く、効果的な表面処理を行うことができなか
った。
に問題が多く、効果的な表面処理を行うことができなか
った。
そこで本発明は、上述の従来の方法の有する欠点を解消
するために提案されたものであって、膜厚の増加やスペ
ーシングロスの増大を伴わず、制御性良く耐久性を向上
することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
するために提案されたものであって、膜厚の増加やスペ
ーシングロスの増大を伴わず、制御性良く耐久性を向上
することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
本発明者等は、このような目的を達成せんものと鋭意研
究の結果、中性粒子ビームが有効であることを見出し本
発明を完成するに至ったものであって、非磁性支持体上
に強磁性金属ｖｓＩＩＩよりなる磁性層を形成し、この
磁性層に中性粒子ビームを照射することを特徴とするも
のである。
究の結果、中性粒子ビームが有効であることを見出し本
発明を完成するに至ったものであって、非磁性支持体上
に強磁性金属ｖｓＩＩＩよりなる磁性層を形成し、この
磁性層に中性粒子ビームを照射することを特徴とするも
のである。
したがって本発明によれば、金属薄膜により形成される
磁性層に対し、中性粒子ビームを照射しているので、中
性粒子（中性原子）が磁性層表面に衝突、注入され、効
果的な表面処理がなされる。
磁性層に対し、中性粒子ビームを照射しているので、中
性粒子（中性原子）が磁性層表面に衝突、注入され、効
果的な表面処理がなされる。
また、中性粒子ビームを発生させる装置は、真空装置の
構造等とは独立に制御できるので、制御性良く表面処理
を行うことが可能である。
構造等とは独立に制御できるので、制御性良く表面処理
を行うことが可能である。
以下、本発明の製造方法について、詳細に説明する。
本発明が通用される磁気記録媒体は、非磁性支持体上に
強磁性金属材料を直接被着し、金属薄膜を磁性層として
形成してなる磁気記録媒体であれば、如何なるものであ
ってもよい。したがって、例えば垂直磁気記録用磁気記
録媒体や、いわゆる強磁性金属ｉ膜型磁気記録媒体等に
通用可能である。
強磁性金属材料を直接被着し、金属薄膜を磁性層として
形成してなる磁気記録媒体であれば、如何なるものであ
ってもよい。したがって、例えば垂直磁気記録用磁気記
録媒体や、いわゆる強磁性金属ｉ膜型磁気記録媒体等に
通用可能である。
上記垂直磁気記録用磁気記録媒体の磁性層を構成する強
磁性金属材料としては、例えばＧｏ −Ｃｒ合金が使用
される０例えば、Ｃｒを１０〜２５原子％含み残部Ｃｏ
からなるＣｏ −Ｃｒ合金をスパッタ法や真空蒸着法で
被着することにより、垂直方向の配向に優れた磁性層が
形成される。
磁性金属材料としては、例えばＧｏ −Ｃｒ合金が使用
される０例えば、Ｃｒを１０〜２５原子％含み残部Ｃｏ
からなるＣｏ −Ｃｒ合金をスパッタ法や真空蒸着法で
被着することにより、垂直方向の配向に優れた磁性層が
形成される。
一方、上記強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の磁性層に使
用される強磁性金属材料としては、鉄Ｆｅ、コバルトＣ
Ｏ、ニッケルＮｉ等の金属あるいはＣｏ−Ｎｉ合金、Ｆ
ｅ −Ｇｏ金合金Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−
８合金等の合金が挙げられる。これら強磁性金属材料の
被着手段としては、真空蒸着法、イオンプレ ′−テ
ィング法、スパッタ法等が挙げられる。上記真空蒸着法
は、１６４〜１０′ａＴｏｒｒの真空下で上記強磁性金
属材料を、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等に
より蒸発させ、非磁性支持体上に蒸発金属（強磁性金属
材料）を沈着するというものであり、斜方蒸着法及び垂
直蒸着法に大別される。
用される強磁性金属材料としては、鉄Ｆｅ、コバルトＣ
Ｏ、ニッケルＮｉ等の金属あるいはＣｏ−Ｎｉ合金、Ｆ
ｅ −Ｇｏ金合金Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−
８合金等の合金が挙げられる。これら強磁性金属材料の
被着手段としては、真空蒸着法、イオンプレ ′−テ
ィング法、スパッタ法等が挙げられる。上記真空蒸着法
は、１６４〜１０′ａＴｏｒｒの真空下で上記強磁性金
属材料を、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等に
より蒸発させ、非磁性支持体上に蒸発金属（強磁性金属
材料）を沈着するというものであり、斜方蒸着法及び垂
直蒸着法に大別される。
上記斜方蒸着法ｔよ、高い抗磁力を得るために非磁性支
持体に対して上記強磁性金属材料を斜め方向から蒸着す
るものであって、より高い抗磁力を得るために酸素雰囲
気中で蒸着を行うものも含まれる。上記垂直蒸着法は、
蒸着効率や生産性を向上し、かつ高い抗磁力を得るため
に、非磁性支持体上にあらかじめ旧、 Ｔｊｌ、 Ｓｂ
、 Ｇａ、 Ｇｅ等の下地金属層を形成しておき、この
下地金属層上に上記強磁性金属材料を垂直方間から蒸着
するというものである。上記イオンブレーティング法も
真空蒸着−４−う 法の一種であり、１０〜１ＱＴｏｒｒの不活性ガス雰囲
気中でＤＣグロー放電、ＲＦグロー放電を起こし、放電
中で上記強磁性金属を蒸発させるというものである。上
記スパッタ法は、１０〜１ＱＴｏｒｒのアルゴンガスを
主成分とする雰囲気中でグロー放電を起こし、生じたア
ルゴンイオンでターゲット表面の原子をたたき出すとい
うもので、グロー放電の方法により、直流２極、３極ス
パツタ法や、高周波スパッタ法、またマグネトロン放電
を利用したマグネトロンスパッタ法等がある。
持体に対して上記強磁性金属材料を斜め方向から蒸着す
るものであって、より高い抗磁力を得るために酸素雰囲
気中で蒸着を行うものも含まれる。上記垂直蒸着法は、
蒸着効率や生産性を向上し、かつ高い抗磁力を得るため
に、非磁性支持体上にあらかじめ旧、 Ｔｊｌ、 Ｓｂ
、 Ｇａ、 Ｇｅ等の下地金属層を形成しておき、この
下地金属層上に上記強磁性金属材料を垂直方間から蒸着
するというものである。上記イオンブレーティング法も
真空蒸着−４−う 法の一種であり、１０〜１ＱＴｏｒｒの不活性ガス雰囲
気中でＤＣグロー放電、ＲＦグロー放電を起こし、放電
中で上記強磁性金属を蒸発させるというものである。上
記スパッタ法は、１０〜１ＱＴｏｒｒのアルゴンガスを
主成分とする雰囲気中でグロー放電を起こし、生じたア
ルゴンイオンでターゲット表面の原子をたたき出すとい
うもので、グロー放電の方法により、直流２極、３極ス
パツタ法や、高周波スパッタ法、またマグネトロン放電
を利用したマグネトロンスパッタ法等がある。
このような磁気記録媒体の磁性層に対し、中性粒子ビー
ムガンを用いて中性粒子ビームを照射し、中性粒子を磁
性層の表面に衝突、注入させ、表面処理を行う。
ムガンを用いて中性粒子ビームを照射し、中性粒子を磁
性層の表面に衝突、注入させ、表面処理を行う。
上記中性粒子ビームガンより照射される中性粒子として
は、 １）酸素中性粒子、オゾン中性粒子、またはその混合粒
子 ２）窒素中性粒子、アンモニア中性粒子、またはその混
合粒子 等が挙げられ、耐久性向上に効果が高い。
は、 １）酸素中性粒子、オゾン中性粒子、またはその混合粒
子 ２）窒素中性粒子、アンモニア中性粒子、またはその混
合粒子 等が挙げられ、耐久性向上に効果が高い。
次に、本発明の実施例をより具体的に説明する。
先ス、１２μの厚さのベースフィルムに対し、Ｇｏ −
Ｃｒ合金をスパッタ法で被着し、深さ０．５μの磁性層
を形成した。
Ｃｒ合金をスパッタ法で被着し、深さ０．５μの磁性層
を形成した。
次いで、これを第１図に示す処理装置内に装着し、酸素
中性粒子の中性粒子ビームを用いて表面改良を施し、磁
気記録媒体を作製した。
中性粒子の中性粒子ビームを用いて表面改良を施し、磁
気記録媒体を作製した。
上記処理装置は、第１図に示すように、中性粒子ビーム
処理のために真空ポンプ等により所定の真空度に保たれ
る真空室１と、酸素ガス源２に接続され冷却水によって
冷却される中性粒子ビーム発生装置３とから構成される
。そして、この真空室１内に、上記磁性層４を形成した
ベースフィルム５を、この磁性層４と上記中性粒子ビー
ム発生装置３とが対向するように配置し、上記中性粒子
ビーム発生装置３から発生する酸素中性粒子ビームを上
記磁性層４に照射して、この磁性層４の表面処理を行う
ように構成されている。また、上記中性粒子ビーム発生
装置３は、第２図に示すように、定電流電源６、真空室
７、電極８とからなり、この電極４で形成されるサドル
型の電場已によってプラズマが発生し、加速された酸素
イオン９が、アパーチャ一部１０で電子を受は取り、酸
素中性粒子（中性原子）１１となって外へ出されるとい
う原理のものである。
処理のために真空ポンプ等により所定の真空度に保たれ
る真空室１と、酸素ガス源２に接続され冷却水によって
冷却される中性粒子ビーム発生装置３とから構成される
。そして、この真空室１内に、上記磁性層４を形成した
ベースフィルム５を、この磁性層４と上記中性粒子ビー
ム発生装置３とが対向するように配置し、上記中性粒子
ビーム発生装置３から発生する酸素中性粒子ビームを上
記磁性層４に照射して、この磁性層４の表面処理を行う
ように構成されている。また、上記中性粒子ビーム発生
装置３は、第２図に示すように、定電流電源６、真空室
７、電極８とからなり、この電極４で形成されるサドル
型の電場已によってプラズマが発生し、加速された酸素
イオン９が、アパーチャ一部１０で電子を受は取り、酸
素中性粒子（中性原子）１１となって外へ出されるとい
う原理のものである。
なお、上記中性粒子ビーム発生装置３における中性粒子
ビーム発生の条件としては、下記の条件を採用した。
ビーム発生の条件としては、下記の条件を採用した。
発生電圧 ２．４ Ｋ Ｖ
電流 ２Ａ
酸素圧 ２．２ Ｘ Ｌ ＯＴｏｒｒ得られた磁
気記録媒体の耐久性の目安として、ひっかき強度を測定
した。第３図に、酸素中性粒子ビームの照射量（酸素中
性粒子ビーム照射時間×放電時間）とひっかき強度の関
係を示す。
気記録媒体の耐久性の目安として、ひっかき強度を測定
した。第３図に、酸素中性粒子ビームの照射量（酸素中
性粒子ビーム照射時間×放電時間）とひっかき強度の関
係を示す。
なお、上記ひっかき強度は、０．５ ｍ Ｈのダイヤモ
ンド奸を用いて磁性層４の表面をひっかき、ひっかき傷
がつき始めた荷重で表した。
ンド奸を用いて磁性層４の表面をひっかき、ひっかき傷
がつき始めた荷重で表した。
この第２図から、酸素中性粒子ビームの照射量（酸素中
性粒子ビーム照射時間×放電時間）を、７０ （ＫＶ
−５ｅｃ ） 〜１５０ （ＫＶ−ｓｅｃ）とすれ
ば、ひっかき強度が未処理のものに比べて２０倍近く向
上することが分かる。
性粒子ビーム照射時間×放電時間）を、７０ （ＫＶ
−５ｅｃ ） 〜１５０ （ＫＶ−ｓｅｃ）とすれ
ば、ひっかき強度が未処理のものに比べて２０倍近く向
上することが分かる。
上述の説明からも明らかなように、本発明においては、
真空ｉｙ！形成技術によって形成される磁性層の表面に
対し、中性粒子ビームを照射してその表面処理を行って
いるので、膜厚の増加やスペーシングロスの増大、耐久
性を劣化させるような表面エツチング等を伴わず、効果
的に磁性層を表面処理することが可能となる。この結果
、スバフタ法や蒸着法等の手法により金属薄膜が磁性層
として形成される、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体（例
えば、蒸着テープや蒸着ディスク）や垂直磁気記録用磁
気記録媒体の実用化に重要な、耐久性を大幅に向上する
ことができる。
真空ｉｙ！形成技術によって形成される磁性層の表面に
対し、中性粒子ビームを照射してその表面処理を行って
いるので、膜厚の増加やスペーシングロスの増大、耐久
性を劣化させるような表面エツチング等を伴わず、効果
的に磁性層を表面処理することが可能となる。この結果
、スバフタ法や蒸着法等の手法により金属薄膜が磁性層
として形成される、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体（例
えば、蒸着テープや蒸着ディスク）や垂直磁気記録用磁
気記録媒体の実用化に重要な、耐久性を大幅に向上する
ことができる。
さらに本発明によれば、中性粒子ビーム発生装置を、設
置する真空装置の構造等とは独立に制御できるため、制
御性の良い表面処理が可能となる。
置する真空装置の構造等とは独立に制御できるため、制
御性の良い表面処理が可能となる。
第１図は本発明で使用される処理装置の一例の構成を示
す概略図であり、第２ＦＭは中性粒子ビーム発生装置に
おける中性粒子発生原理を説明するための説明図である
。 第３ＦＭは本発明の実施例で作製される磁気記録媒体表
面のひっかき強度と酸素中性粒子ビームの照射量（酸素
中性粒子ビームの照射時間Ｘ放電電圧）の関係を示す特
性図である。 ■・・・真空室 ３・・・中性粒子ビーム発生装置 ４・・・磁性層 １１・・・中性粒子
す概略図であり、第２ＦＭは中性粒子ビーム発生装置に
おける中性粒子発生原理を説明するための説明図である
。 第３ＦＭは本発明の実施例で作製される磁気記録媒体表
面のひっかき強度と酸素中性粒子ビームの照射量（酸素
中性粒子ビームの照射時間Ｘ放電電圧）の関係を示す特
性図である。 ■・・・真空室 ３・・・中性粒子ビーム発生装置 ４・・・磁性層 １１・・・中性粒子
Claims (1)
- 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層を形成
し、この磁性層に中性粒子ビームを照射することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25365384A JPS61133030A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25365384A JPS61133030A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61133030A true JPS61133030A (ja) | 1986-06-20 |
Family
ID=17254314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25365384A Pending JPS61133030A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61133030A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7425353B2 (en) | 2004-01-29 | 2008-09-16 | International Business Machines Corporation | Enhancement of magnetic media recording performance using ion irradiation to tailor exchange coupling |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57189340A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-20 | Sekisui Chem Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
-
1984
- 1984-11-30 JP JP25365384A patent/JPS61133030A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57189340A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-20 | Sekisui Chem Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7425353B2 (en) | 2004-01-29 | 2008-09-16 | International Business Machines Corporation | Enhancement of magnetic media recording performance using ion irradiation to tailor exchange coupling |
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