JPH07225934A - 金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体Info
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- JPH07225934A JPH07225934A JP1827894A JP1827894A JPH07225934A JP H07225934 A JPH07225934 A JP H07225934A JP 1827894 A JP1827894 A JP 1827894A JP 1827894 A JP1827894 A JP 1827894A JP H07225934 A JPH07225934 A JP H07225934A
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- JP
- Japan
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- layer
- thin film
- magnetic recording
- recording medium
- particles
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は高記録密度の磁気記録媒体に関する
もので、特にドロップアウトの少ない媒体を８０％の高
歩留まりでポリエチレンテレフタレートだけのフイルム
と同等のコストで成膜速度だけ２倍で生産可能となる。 【構成】 ポリエチレンテレフタレートフイルム５上に
０．１μｍから０．２μｍのポリエチレンナフタレート
形状層４を設けることでオリゴマーの発生と帯電を抑え
ている。
もので、特にドロップアウトの少ない媒体を８０％の高
歩留まりでポリエチレンテレフタレートだけのフイルム
と同等のコストで成膜速度だけ２倍で生産可能となる。 【構成】 ポリエチレンテレフタレートフイルム５上に
０．１μｍから０．２μｍのポリエチレンナフタレート
形状層４を設けることでオリゴマーの発生と帯電を抑え
ている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は強磁性金属薄膜を磁気記
録層とする磁気記録媒体に関し、特にデジタル記録ビデ
オテープレコーダや高精細度ビデオテープレコーダに最
適な磁気テープに関する。
録層とする磁気記録媒体に関し、特にデジタル記録ビデ
オテープレコーダや高精細度ビデオテープレコーダに最
適な磁気テープに関する。
【０００２】
【従来の技術】強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気
記録媒体においては、様々な方法によりドロップアウト
の低減や走行耐久性を向上する試みが続けられてきた。
たとえば、特開昭５９−３０２３１号公報、特開昭５９
−４２６３７号公報、特開昭５９−９２４２７号公報で
は、ポリエチレンテレフタレートフイルム上に有機物や
各種アルコラートによる形状層を設けて走行性を確保す
ることが開示されている。しかし、これだけでは初期の
摩擦係数は低下するが耐久性が不十分なため、最近で
は、特開昭６１ー１４２５２５号公報、特開昭６１ー２
０８６２２号公報のようにカーボン系の保護膜を設けた
り、特開昭６２ー２１９３１４号公報、特開昭６１ー２
１０５１８号公報のようにダイヤモンド状炭素膜を保護
膜として用いることが検討されている。ダイヤモンド状
炭素膜とは、炭素膜の中でも硬度の高いものをさし、マ
イクロビッカ−ス硬度が２０００から７０００程度、膜
の抵抗値が１０8から１０13程度の炭素膜を意味してい
る。
記録媒体においては、様々な方法によりドロップアウト
の低減や走行耐久性を向上する試みが続けられてきた。
たとえば、特開昭５９−３０２３１号公報、特開昭５９
−４２６３７号公報、特開昭５９−９２４２７号公報で
は、ポリエチレンテレフタレートフイルム上に有機物や
各種アルコラートによる形状層を設けて走行性を確保す
ることが開示されている。しかし、これだけでは初期の
摩擦係数は低下するが耐久性が不十分なため、最近で
は、特開昭６１ー１４２５２５号公報、特開昭６１ー２
０８６２２号公報のようにカーボン系の保護膜を設けた
り、特開昭６２ー２１９３１４号公報、特開昭６１ー２
１０５１８号公報のようにダイヤモンド状炭素膜を保護
膜として用いることが検討されている。ダイヤモンド状
炭素膜とは、炭素膜の中でも硬度の高いものをさし、マ
イクロビッカ−ス硬度が２０００から７０００程度、膜
の抵抗値が１０8から１０13程度の炭素膜を意味してい
る。
【０００３】この保護膜と形状層の組み合わせで走行性
と耐久性は飛躍的に向上したが、ベースフイルム中のオ
リゴマーや製造工程にもとずくドロップアウトが残され
た課題であった。そこで、ベースフイルムとしてオリゴ
マーの少ない、耐熱性のポリエチレンナフタレートを用
い、ポリエチレンテレフタレート表面と同様な形状を用
いることが特願平４−３５７９８２号に示されている。
この対策でドロップアウトは相当減少したがベースフイ
ルムのコスト増と製造工程中での帯電によるシワ発生が
商品化を考えた場合の残された課題であった。この課題
に対して鋭意取り組んだ結果本発明に達した。
と耐久性は飛躍的に向上したが、ベースフイルム中のオ
リゴマーや製造工程にもとずくドロップアウトが残され
た課題であった。そこで、ベースフイルムとしてオリゴ
マーの少ない、耐熱性のポリエチレンナフタレートを用
い、ポリエチレンテレフタレート表面と同様な形状を用
いることが特願平４−３５７９８２号に示されている。
この対策でドロップアウトは相当減少したがベースフイ
ルムのコスト増と製造工程中での帯電によるシワ発生が
商品化を考えた場合の残された課題であった。この課題
に対して鋭意取り組んだ結果本発明に達した。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】強磁性金属薄膜型磁気
記録媒体のスチル耐久性、走行耐久性を著しく向上する
表面形状と硬質炭素膜を用い、かつドロップアウトが少
なく、また製造工程中での帯電によるシワの発生もない
低コストの金属薄膜型磁気記録媒体を提供することを目
的としている。
記録媒体のスチル耐久性、走行耐久性を著しく向上する
表面形状と硬質炭素膜を用い、かつドロップアウトが少
なく、また製造工程中での帯電によるシワの発生もない
低コストの金属薄膜型磁気記録媒体を提供することを目
的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、ポリエチレンテレフタレートを非磁性基板の母材と
し、この一方の表面にのみポリエチレンナフタレート中
に分散させたシリカ、アルミナ等の無機粒子またはアク
リル、ポリスルホンのような有機高分子で突起層を形成
することでベースフイルムのコストアップを最低限にお
さえながら、帯電の比較的少ないポリエチレンテレフタ
レートの特徴を生かす構成としている。
に、ポリエチレンテレフタレートを非磁性基板の母材と
し、この一方の表面にのみポリエチレンナフタレート中
に分散させたシリカ、アルミナ等の無機粒子またはアク
リル、ポリスルホンのような有機高分子で突起層を形成
することでベースフイルムのコストアップを最低限にお
さえながら、帯電の比較的少ないポリエチレンテレフタ
レートの特徴を生かす構成としている。
【０００６】そのため、ポリエチレンナフタレート表面
形状層の厚みを０．１μｍから２．０μｍに管理してい
る。こうすることで、製造工程中での帯電によるシワの
発生もなくなる。またオリゴマーの少ない表面材料であ
ることと、この表面のポリエチレンナフタレートがポリ
エチレンテレフタレート中のオリゴマーの成長を抑える
ので、この構成はダブルのメリットが存在する。
形状層の厚みを０．１μｍから２．０μｍに管理してい
る。こうすることで、製造工程中での帯電によるシワの
発生もなくなる。またオリゴマーの少ない表面材料であ
ることと、この表面のポリエチレンナフタレートがポリ
エチレンテレフタレート中のオリゴマーの成長を抑える
ので、この構成はダブルのメリットが存在する。
【０００７】
【作用】ポリエチレンテレフタレートだけのベースフイ
ルムと比較すると、オリゴマーにもとずくドロップアウ
トが磁気記録媒体として約１／１０に低下し、また蒸着
時の熱負荷が増えても熱負けやオリゴマーの成長が少な
く、蒸着の生産性を高めることができる。また、ポリエ
チレンナフタレートだけのベースフイルムと比較する
と、同等のドロップアウト品質を維持して、シワの発生
もなく、低コスト、高歩留まりで磁気記録媒体を得るこ
とができる。その結果、デジタルＶＴＲや高精細度デジ
タルＶＴＲ用に適した磁気記録媒体を低コストで得るこ
とが可能となる。
ルムと比較すると、オリゴマーにもとずくドロップアウ
トが磁気記録媒体として約１／１０に低下し、また蒸着
時の熱負荷が増えても熱負けやオリゴマーの成長が少な
く、蒸着の生産性を高めることができる。また、ポリエ
チレンナフタレートだけのベースフイルムと比較する
と、同等のドロップアウト品質を維持して、シワの発生
もなく、低コスト、高歩留まりで磁気記録媒体を得るこ
とができる。その結果、デジタルＶＴＲや高精細度デジ
タルＶＴＲ用に適した磁気記録媒体を低コストで得るこ
とが可能となる。
【０００８】
【実施例】図１は金属薄膜型磁気テープの断面略図であ
り、この構成について説明する。１は含フッソカルボン
酸を主とする潤滑剤層であり、厚みは３０Åから５０Å
である。含フッソカルボン酸だけ、あるいは含フッソカ
ルボン酸エステルとの混合でもよい。例としてはＣ5Ｆ1
1（ＣＨ2）10ＣＯＯＨやＣ5Ｆ11（ＣＨ2）10ＣＯＯＣ8
Ｈ17があげられる。
り、この構成について説明する。１は含フッソカルボン
酸を主とする潤滑剤層であり、厚みは３０Åから５０Å
である。含フッソカルボン酸だけ、あるいは含フッソカ
ルボン酸エステルとの混合でもよい。例としてはＣ5Ｆ1
1（ＣＨ2）10ＣＯＯＨやＣ5Ｆ11（ＣＨ2）10ＣＯＯＣ8
Ｈ17があげられる。
【０００９】２は硬質炭素膜で、膜のビッカース硬度が
約３０００と高く、磁気テープのダメージを潤滑剤層１
と共に防いでいる。厚みは６０Åから２００Åが信頼性
と出力とのバランス上最適である。
約３０００と高く、磁気テープのダメージを潤滑剤層１
と共に防いでいる。厚みは６０Åから２００Åが信頼性
と出力とのバランス上最適である。
【００１０】３は強磁性金属薄膜であり、材料的にはＣ
ｏ−Ｎｉ−Ｏ，Ｃｏ−Ｏ，Ｃｏ−Ｃｒ等が使用可能であ
る。その厚みは５００Åから２０００Åが一般的であ
る。
ｏ−Ｎｉ−Ｏ，Ｃｏ−Ｏ，Ｃｏ−Ｃｒ等が使用可能であ
る。その厚みは５００Åから２０００Åが一般的であ
る。
【００１１】４はポリエチレンナフタレートを中心とし
た表面形状層で、無機粒子や他の有機高分子による粒子
を含む。その厚みは０．１μｍから２．０μｍである。
表面粗さや突起の密度に最適値が存在する。
た表面形状層で、無機粒子や他の有機高分子による粒子
を含む。その厚みは０．１μｍから２．０μｍである。
表面粗さや突起の密度に最適値が存在する。
【００１２】５は中心となるフイルムであり、ポリエチ
レンテレフタレートである。厚みは４．０μｍから１５
μｍが最適である。
レンテレフタレートである。厚みは４．０μｍから１５
μｍが最適である。
【００１３】６はバックコート層で、材料的にはポリウ
レタン、ニトロセルロース、ポリエステルとカーボン、
炭酸カルシュウム等を含んでいる。厚みは５０００Åで
ある。
レタン、ニトロセルロース、ポリエステルとカーボン、
炭酸カルシュウム等を含んでいる。厚みは５０００Åで
ある。
【００１４】図２は本発明の磁気記録媒体の製造装置の
一例である。７は真空槽であり１０ー4Torrから１０ー3To
rrに管理されている。これは１０の排気口からポンプで
排気して管理する。８はダイヤモンド状炭素膜を製造す
る放電管であり、交流と直流が電極に印加される。ガス
はプロパン等の炭化水素とアルゴン等の不活性ガスを使
用する。９は金属薄膜型磁気テープのバックコート層が
沿って走行する冷却用のキャンである。１０はポンプが
接続されている排気口である。
一例である。７は真空槽であり１０ー4Torrから１０ー3To
rrに管理されている。これは１０の排気口からポンプで
排気して管理する。８はダイヤモンド状炭素膜を製造す
る放電管であり、交流と直流が電極に印加される。ガス
はプロパン等の炭化水素とアルゴン等の不活性ガスを使
用する。９は金属薄膜型磁気テープのバックコート層が
沿って走行する冷却用のキャンである。１０はポンプが
接続されている排気口である。
【００１５】図３はポリエチレンナフタレート形状層の
代表例である。図３（ａ）（ｂ）は接着タイプであり、
主としてポリエチレンナフタレート形状層の厚みが０．
１μｍから０．５μｍと薄いときに形成されることが多
かった。図３（ｃ）（ｄ）は埋め込みタイプであり、主
としてポリエチレンナフタレート形状層の厚みが０．５
μｍ以上ある時に形成されることが多かった。なお、図
３（ａ）（ｃ）は突起粒子材料１１として無機粒子を用
いた場合、図３（ｂ）（ｄ）は有機高分子による粒子を
用いた場合を示している。
代表例である。図３（ａ）（ｂ）は接着タイプであり、
主としてポリエチレンナフタレート形状層の厚みが０．
１μｍから０．５μｍと薄いときに形成されることが多
かった。図３（ｃ）（ｄ）は埋め込みタイプであり、主
としてポリエチレンナフタレート形状層の厚みが０．５
μｍ以上ある時に形成されることが多かった。なお、図
３（ａ）（ｃ）は突起粒子材料１１として無機粒子を用
いた場合、図３（ｂ）（ｄ）は有機高分子による粒子を
用いた場合を示している。
【００１６】以下製造条件も含めて詳しく説明する。５
００mm幅のポリエチレンテレフタレート５表面に、ポリ
エチレンナフタレートと一次粒子径が２００Åから１０
００Åのシリカ粒子を含む表面形状層４を設けた。その
表面粗さは５０Åから３００Åが出力と走行性のバラン
スから最適であった。また、その密度はｍｍ2あたり１
０5から１０8が耐久性の観点から最適であった。これら
をサンプル１から９として（表１）に示した。さらに、
表面粗さと密度を同じとしたポリエチレンナフタレート
とアクリル樹脂の粒子を含む表面形状層４を設けたもの
をサンプル１０から１２として（表１）に示した。
００mm幅のポリエチレンテレフタレート５表面に、ポリ
エチレンナフタレートと一次粒子径が２００Åから１０
００Åのシリカ粒子を含む表面形状層４を設けた。その
表面粗さは５０Åから３００Åが出力と走行性のバラン
スから最適であった。また、その密度はｍｍ2あたり１
０5から１０8が耐久性の観点から最適であった。これら
をサンプル１から９として（表１）に示した。さらに、
表面粗さと密度を同じとしたポリエチレンナフタレート
とアクリル樹脂の粒子を含む表面形状層４を設けたもの
をサンプル１０から１２として（表１）に示した。
【００１７】また、無機粒子として一次粒子径が５００
Åから１０００Åのアルミナを用いた場合をサンプル１
３、１４とし、ポリスルホンの粒子を用いた場合をサン
プル１５、１６とした。これらサンプル１３から１６の
表面粗さと突起の密度もサンプル１から１２と同じとし
た。ここで、有機高分子による形状層の形成法は、ポリ
エチレンナプタレートが良く溶けて形状をつくる樹脂が
溶けにくい溶媒を選んでコーテイング法で形成した。そ
の形状層の表面状態の例を図３に示した。
Åから１０００Åのアルミナを用いた場合をサンプル１
３、１４とし、ポリスルホンの粒子を用いた場合をサン
プル１５、１６とした。これらサンプル１３から１６の
表面粗さと突起の密度もサンプル１から１２と同じとし
た。ここで、有機高分子による形状層の形成法は、ポリ
エチレンナプタレートが良く溶けて形状をつくる樹脂が
溶けにくい溶媒を選んでコーテイング法で形成した。そ
の形状層の表面状態の例を図３に示した。
【００１８】
【表１】
【００１９】これらのサンプル１から１６上に斜方真空
蒸着法により酸素を導入しながら、Ｃｏからなる強磁性
金属薄膜３を１８００Åの厚みで形成する。その後リバ
ースロールコータによりポリウレタン、ニトロセルロー
ス、カーボンブラックより構成された固形分３０％のメ
チルエチルケトン／トルエン／アノン溶液を乾燥後のバ
ックコート層６の厚みが５０００Åになるように塗布す
る。
蒸着法により酸素を導入しながら、Ｃｏからなる強磁性
金属薄膜３を１８００Åの厚みで形成する。その後リバ
ースロールコータによりポリウレタン、ニトロセルロー
ス、カーボンブラックより構成された固形分３０％のメ
チルエチルケトン／トルエン／アノン溶液を乾燥後のバ
ックコート層６の厚みが５０００Åになるように塗布す
る。
【００２０】この強磁性金属薄膜３上にアルゴンガスと
プロパンガスを１：４の比で混合し、放電管８内のトー
タルガス圧を０．３Ｔｏｒｒに保って、周波数２０ＫＨ
ｚ、電圧１５００Ｖの交流と１０００Ｖの直流を放電管
８内の電極に重畳印加し、プラズマＣＶＤ法により硬質
炭素膜２を１００Åの厚みで形成した。その後一般的な
コ−タで含フッソカルボン酸、Ｃ5Ｆ11（ＣＨ2）10ＣＯ
ＯＨを溶媒に溶かして乾燥後の厚みが３０Åになるよう
に潤滑剤層１を設けた。これらのサンプルを８ｍｍ幅に
スリットして測定サンプルとした。それぞれのサンプル
の製造工程中での帯電状態とシワの発生状況および磁気
テープのドロップアウトの数および製造工程中での最終
歩留まりを（表２）に示した。なお、ドロップアウトは
１５μｓ、１６ｄＢ以上のものを測定した。
プロパンガスを１：４の比で混合し、放電管８内のトー
タルガス圧を０．３Ｔｏｒｒに保って、周波数２０ＫＨ
ｚ、電圧１５００Ｖの交流と１０００Ｖの直流を放電管
８内の電極に重畳印加し、プラズマＣＶＤ法により硬質
炭素膜２を１００Åの厚みで形成した。その後一般的な
コ−タで含フッソカルボン酸、Ｃ5Ｆ11（ＣＨ2）10ＣＯ
ＯＨを溶媒に溶かして乾燥後の厚みが３０Åになるよう
に潤滑剤層１を設けた。これらのサンプルを８ｍｍ幅に
スリットして測定サンプルとした。それぞれのサンプル
の製造工程中での帯電状態とシワの発生状況および磁気
テープのドロップアウトの数および製造工程中での最終
歩留まりを（表２）に示した。なお、ドロップアウトは
１５μｓ、１６ｄＢ以上のものを測定した。
【００２１】
【表２】
【００２２】また、製造工程中での磁性膜の蒸着速度と
硬質炭素膜の成膜速度を（表３）に示した。
硬質炭素膜の成膜速度を（表３）に示した。
【００２３】
【表３】
【００２４】（表２）、（表３）からわかるように、耐
熱性でオリゴマーの少ないポリエチレンナフタレートを
中心とした形状層を０．２μｍから２．０μｍと最適な
厚み形成することにより、ドロップアウトが少ない金属
薄膜型磁気記録媒体を８０％の歩留まりで製造すること
ができる。ポリエチレンテレフタレートだけでは製造工
程中のシワ発生はないがドロップアウト（Ｄ．Ｏ．）で
歩留まりが低下し、またポリエチレンナフタレートだけ
の場合は製造工程中のシワのために、歩留まりが低下す
る。また、その製造のための速度もフイルム表面の耐熱
性が向上しているために約２倍に改善することができ
る。しかし、媒体のコストはポリエチレンテレフタレー
トを使用した場合と同等に抑えることが可能である。
熱性でオリゴマーの少ないポリエチレンナフタレートを
中心とした形状層を０．２μｍから２．０μｍと最適な
厚み形成することにより、ドロップアウトが少ない金属
薄膜型磁気記録媒体を８０％の歩留まりで製造すること
ができる。ポリエチレンテレフタレートだけでは製造工
程中のシワ発生はないがドロップアウト（Ｄ．Ｏ．）で
歩留まりが低下し、またポリエチレンナフタレートだけ
の場合は製造工程中のシワのために、歩留まりが低下す
る。また、その製造のための速度もフイルム表面の耐熱
性が向上しているために約２倍に改善することができ
る。しかし、媒体のコストはポリエチレンテレフタレー
トを使用した場合と同等に抑えることが可能である。
【００２５】以上、実施例ではシリカ粒子を用いた場合
のみ最適幅以外のデータを記載し、アルミナ粒子やアク
リル樹脂、ポリスルホンを用いた場合のポリエチレンナ
フタレート形状層の厚みは最適幅のみとしたが、アルミ
ナ粒子やアクリル樹脂、ポリスルホンを用いた場合も
０．１μｍ以下の厚みではドロップアウト低減効果がな
く、２．０μｍ以上では帯電によるシワ発生で歩留まり
が低下した。その結果、やはり、歩留まりが高く、生産
性も向上するのは上記記述の厚み範囲であった。
のみ最適幅以外のデータを記載し、アルミナ粒子やアク
リル樹脂、ポリスルホンを用いた場合のポリエチレンナ
フタレート形状層の厚みは最適幅のみとしたが、アルミ
ナ粒子やアクリル樹脂、ポリスルホンを用いた場合も
０．１μｍ以下の厚みではドロップアウト低減効果がな
く、２．０μｍ以上では帯電によるシワ発生で歩留まり
が低下した。その結果、やはり、歩留まりが高く、生産
性も向上するのは上記記述の厚み範囲であった。
【００２６】
【発明の効果】以上のように本発明はドロップアウトの
少ない金属薄膜型磁気記録媒体を８０％の高歩留まり
で、しかもポリエチレンテレフタレートだけのフイルム
と同等のコストで、しかし成膜速度は２倍の速度で成膜
することが可能となる。
少ない金属薄膜型磁気記録媒体を８０％の高歩留まり
で、しかもポリエチレンテレフタレートだけのフイルム
と同等のコストで、しかし成膜速度は２倍の速度で成膜
することが可能となる。
【図１】本発明の実施例である金属薄膜型磁気テープの
断面略図
断面略図
【図２】本発明の磁気テープの製造に用いる成膜装置の
略図
略図
【図３】本発明のポリエチレンナフタレート形状層の表
面状態を示す図であり、 （ａ）は無機粒子を用いたときの接着タイプ （ｂ）は有機高分子による粒子を用いたときの接着タイ
プ （ｃ）は無機粒子を用いたときの埋め込みタイプ （ｄ）は有機高分子による粒子を用いたときの埋め込み
タイプ
面状態を示す図であり、 （ａ）は無機粒子を用いたときの接着タイプ （ｂ）は有機高分子による粒子を用いたときの接着タイ
プ （ｃ）は無機粒子を用いたときの埋め込みタイプ （ｄ）は有機高分子による粒子を用いたときの埋め込み
タイプ
１ 潤滑剤層 ２ 硬質炭素膜 ３ 強磁性金属薄膜 ４ ポリエチレンナフタレート形状層 ５ ポリエチレンテレフタレート ６ バックコート層 ７ 真空槽 ８ 硬質炭素膜用放電管 ９ 冷却キャン １０ 排気口 １１ 突起粒子材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑原 賢次 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 関 博司 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 高橋 喜代司 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 植田 英之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】非磁性基板であるポリエチレンテレフタレ
ート上にポリエチレンナフタレートからなる形状層を設
け、この上へ強磁性金属薄膜、硬質炭素膜、潤滑剤層を
この順に形成したことを特徴とする金属薄膜型磁気記録
媒体。 - 【請求項２】ポリエチレンナフタレートを中心とする形
状層がシリカ粒子を含み、その厚みが０．１μｍから
２．０μｍであることを特徴とする請求項１記載の金属
薄膜型磁気記録媒体。 - 【請求項３】ポリエチレンナフタレートを中心とする形
状層がアルミナ粒子を含み、その厚みが０．１μｍから
２．０μｍであることを特徴とする請求項１記載の金属
薄膜型磁気記録媒体。 - 【請求項４】ポリエチレンナフタレートを中心とする形
状層がアクリル樹脂粒子を含み、その厚みが０．１μｍ
から２．０μｍであることを特徴とする請求項１記載の
金属薄膜型磁気記録媒体。 - 【請求項５】ポリエチレンナフタレートを中心とする形
状層がポリスルホン粒子を含み、その厚みが０．１μｍ
から２．０μｍであることを特徴とする請求項１記載の
金属薄膜型磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1827894A JPH07225934A (ja) | 1994-02-15 | 1994-02-15 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1827894A JPH07225934A (ja) | 1994-02-15 | 1994-02-15 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07225934A true JPH07225934A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=11967180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1827894A Pending JPH07225934A (ja) | 1994-02-15 | 1994-02-15 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07225934A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6911272B2 (en) | 2002-04-02 | 2005-06-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1994
- 1994-02-15 JP JP1827894A patent/JPH07225934A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6911272B2 (en) | 2002-04-02 | 2005-06-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
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