JPS62293507A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 この発明は磁気記録媒体およびその製造方法に係わり、
さらに詳しくはその表面保護膜の改良に関する。

〔従来の技術〕

非磁性基板上に強磁性金属層を形成した磁気記録媒体は
、真空蒸着やスパッタリング等で強磁性金属層を形成す
るが、強磁性金属層ｃ層に腐蝕が生じ易く、その結果磁
気特性や走行性の劣化が問題となっている。このため、
強磁性金属層の表面に塗布、蒸着、スパッタリング等に
より表面保護膜を形成することが行なわれているが、確
実な効果は得られていない。その点、コバルトの不働態
層はスペーシングロス、機械的対摺動強度から見て理想
的な表面保護膜であることから、酸化性のガスを用いて
グロー放電を発生させることにより、強磁性金属層のコ
バルトを不働態化すること（特開昭５８−１７５４４号
）、レーザー光を用いて強磁性金属層のコバルトを不働
態化すること（特開昭５８−１３０４２８号）等が行な
われているが、再現性ある結果が得られていない。

そこで、本発明者らは非磁性基板上に強磁性金属層を形
成したのち、強磁性金属層の表面に吸着水層を設け、熱
処理することにより、強磁性金属層の表面にコバルトの
不働態層を設けることを提案した。しかしながら、強磁
性金属層の表面に不働態層を形成するのに長時間を要し
てしまうという問題が残されていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

この発明は上述の問題点を解決するためになされたもの
で、再現性よく表面保護膜を形成することができ、かつ
磁気特性に優れ、短時間で表面保護膜を形成することが
できる磁気記録媒体およびその製造方法を提供すること
を目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この目的を達成するため、この発明においては、強磁性
金属層上にコバルトを主成分としかつ該強磁性金属層よ
り酸素を多く含有する薄層を設けたのち、薄層の表面を
不働態化することによって、短時間にコバルトの不働態
層を形成することができるようにするものである。

〔実施例〕

第１図はこの発明に係る磁気記録媒体を示す断面図であ
る０図において、１は非磁性基板、２は非磁性基板１上
に設けられた酸素を含むｃｏ−Ｎｉからなる強磁性金属
層、３は強磁性金属層２上に形成されたより高濃度のＭ
素を含むＣｏ−Ｎｉ金属の薄層で、薄層３の厚さは２０
〜３００人である。４は薄層３上に設けられたコバルト
の不＠態層である。

第２図はこの発明に係る他の磁気記録媒体の断面図で、
この磁気記録媒体においては１強磁性金属層２と薄層３
との間にＡ１等からなる中間層５が設けられている。

つぎに、この発明に係る磁気記録媒体の製造方法の実施
例を説明する。

実施例１ 非磁性基板１として厚さ１２．のポリエチレンテレフタ
レート（Ｐ　Ｅ　Ｔ）フィルムを用い、Ｃｏ−Ｎ１（重
量比８０　：　２０）合金を圧力５　Ｘ　１０−’Ｔｏ
ｒｒで電子ビーム溶解により斜方蒸着し、１５００人の
強磁性金属層２を形成した。このとき、酸素ガスを吹き
込み、酸素含有量の強磁性金属層２全体の平均を約１５
ａｔ％とした。つぎに、同様な手段で強磁性金属層２の
上にＧｏ−Ｎｉ（重量比８０　：　２０）を酸素ガス吹
き込み下で垂直入射蒸着することにより、厚さ２００人
の薄層３を形成した。この薄ｙ／Ｉ３の酸素含有量は３
５ａｔ％より大となるようにした。こうして得られた蒸
着原反を取出したのち、ただちに５０℃、８０％ＲＨの
雰囲気内で巻出し巻取りを行なった。この処理によって
薄層３の表面に吸着水層の生じていることがＥＳＣＡに
よって認められた。こののち、原反を６０℃、５％ＲＨ
の雰囲気で１時間熱処理し、ＥＳＣＡで分析したところ
、薄層３の表面しこ不働態層４が形成されていることす
なわち蒸着時に形成されていたＣ　ｏ　Ｏがより高次の
酸化物となっており、ＯＨ基が１５〜３５ａｔ％存在し
ていることが認められた。

実施例２ 強磁性金属層２と薄、！’１３との間にＡＩを酸素雰囲
気中で蒸着して、厚さ１００人のＡ１からなる中間層５
を設けた以外は実施例１と同様な処理を行なった。

実施例３ Ｃｏ−Ｆｅ（重量比７０　：　３０）からなる強磁性金
属層を形成した以外は実施例１と同様な処理を行なった
。

実施例４ Ａ１からなる中間層５の代りに、Ｔｉ　を酸素雰囲気中
で蒸着することにより、Ｔｉからなる中間層５を形成し
た以外は実施例２と同様な処理を行なった。

比較例１ 薄層３の形成を省いた以外は実施例１と同様な処理を行
なった。

比較例２ 吸着水層形成処理後の熱処理を省いた以外は実施例１と
同様な処理を行なった。

第３図は不Ｓ態化に要する吸着水層形成処理後の熱処理
時間と酸素ガス吹き込み量との関係を示すグラフである
。このグラフから明らかなように、酸素ガス吹き込み量
が多いほど熱処理時間が短くてすむ。しかし、強磁性金
属層２の酸素濃度は電磁変換特性との兼ね合いから、酸
素濃度をあまり高くすることは好ましくない。不働態化
反応は磁性層表面の反応であることから、この点を応用
するには磁性膜を２層構造とすればよい。したつがて、
実施例１〜４のように、強磁性金属層２より酸素ガス吹
き込み量が多いすなわち酸素の含有量が多い薄層３を形
成した場合には、比較例１のように薄層３を形成しない
場合と比較して、不働態化に要する熱処理時間が短くて
すむ。

また、上述の方法によって作製した各原反に潤滑剤とし
て０．１ｗｔ％のステアリン酸を含むメチルイソブチル
ケトン溶液を塗布し、各原反を８ｍｍ幅に裁断して試料
とし、これらの試料につき常温でスチルを行なったとき
出力が６ｄＢ下がるまでの時間すなわちスチルライフを
測定したところ、実施例１〜４ではスチルライフが６０
分以上であったのに対し、比較例１では２５分、比較例
２では１１分であった。

さらに、第４図は上記各試料を６０℃、９０％Ｒ）Ｉの
雰囲気に静置した場合の表面の腐蝕が原因で引き起こさ
れる摩擦係数μの時間的変化を示すグラフである。この
グラフから明らかなように、実施例１〜４においては比
較例１．２に較べて摩擦係数μの変化が長時間にわたっ
て非常に安定である。

また、実施例２．４で中間層５を設けたが、実施例１に
較べて実施例２．４の方が不＠態層４がより容易に形成
する傾向がみられた。

なお、吸着水層形成処理の条件は、温度を０〜５０℃、
ＲＨを３０〜７０％、フィルム送り速度を１〜２０ｍ／
ｍｉｎとするのが好ましい。また、吸着水層形成処理後
の熱処理の条件は、温度を３５〜１００℃、ＲＨを０〜
３０％、時間を１〜１００ｈとするのが好ましい。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明に係る磁気記録媒体およ
びその製造方法においては、コバルトを主成分としかつ
下層より酸素を多く含有する薄層を形成し、その表面に
吸着水層を設けたのち、熱処理を行なうことにより不働
態層を形成する。この方法によれば短時間に、再現性よ
く不働態層を形成することが可能である。このように、
この発明の効果は顕著である。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図はそれぞれこの発明に係る磁気記録媒体
を示す断面図、第３図は酸素吹き込み量と不働態化に要
する熱処理時間との関係を示すグラフ、第４図は摩擦係
数μの時間的変化を示すグラフである。 １・・・非磁性基板　　　　２・・・強磁性金属層３・
・・薄層　　　　　　　４・・・不働態層代理人　弁理
士　中　村　純之助 １４１図　　　　　士２図 ＩＰ３図 ′マ タ５叉０望１ν」（ｈ） 日ヂトｉへ　にｊ％）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に強磁性金属層を形成した磁気記録媒
   体において、上記強磁性金属層上にコバルトを主成分と
   しかつ上記強磁性金属層より酸素を多く含有する薄層を
   有し、その薄層の表面にコバルトの不働態層を有するこ
   とを特徴とする磁気記録媒体。 ２、非磁性基板上に強磁性金属層を形成した磁気記録媒
   体を製造する方法において、上記強磁性金属層上にコバ
   ルトを主成分としかつ上記強磁性金属層より酸素を多く
   含有する薄層を形成し、その薄層の表面に吸着水層を設
   けたのち、熱処理を行なうことを特徴とする磁気記録媒
   体の製造方法。