JPS6126135B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、真空蒸着、スパツタリング、または
他の類似の方法で被着形成された磁性金属薄膜を
磁気記録層として用いる磁気記録体の改良に関す
る。

磁気記録用の磁性材料に磁性金属薄膜を用いる
ことの優位性は、飽和磁束密度が大である故、厚
さの薄い磁気記録層を用いることができ、また抗
磁力も比較的高いものが得られるので高密度記録
に有利となることである。磁性金属薄膜の他の利
点は、真空蒸着、スパツタリング、または他の類
似の方法で薄くかつ厚さの一様な膜が容易に得ら
れることである。これらの理由から磁性金属薄膜
を磁気記録体の材料として用いる傾向は近年増加
しつつある。例えば、ポリエステルなどのプラス
チツク基板上にコバルトを主体とした合金の磁性
層が形成された磁気テープが開発されている。

しかし、磁性金属膜は薄い金属の膜として形成
されるため空気中で酸化し易く、そのために記
録・再生時に磁気ヘツドが摺接することにより磁
性層が剥れてノイズが発生したり、あるいは記
録・再生が全く不能となる実用上致命的な欠陥と
なる。

従来、耐蝕性を改善するために、磁性層表面に
潤滑剤やワツクスを塗布する方法やクロム、クロ
ム―ニツケルや酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ア
ルミなどの酸化物を蒸着、あるいはスパツタリン
グで磁性層表面に形成させる方法、あるいは金属
を表面に形成させた後、酸化雰囲気中で熱処理を
施したり、湿式処理法などにより金属を酸化させ
保護酸化皮膜を形成する方法などが提案されて
る。しかし、これらの方法法では次に述べるよう
な欠点を有している。まず、潤滑剤やワツクスを
塗布する方法は、一時的に耐蝕性を向上させる
が、揮発や磁気ヘツドとの摺接により取り除かれ
るため、その効果を持続させることができない。

次にクロム、クロム―ニツケルや酸化チタン、
酸化ケイ素、酸化アルミなどを蒸着し膜を形成す
る方法では必ずしも均一な厚みに形成させること
が困難で空孔が多くなる。

また、磁気特性を考えると、膜厚は薄ければ薄
いほどよいが、上記物質はいずれも真空度１×
10^-5Torrにおける蒸気圧が1500℃以上と高いの
で膜厚の制御が困難である。これらに比べ保護酸
化皮膜を形成させる方法では、クロム酸化物の場
合である程度の効果をあげているが、複雑な処理
工程を付加する必要があつた。例えば、熱処理法
では、基板が比較的耐熱性の低いものであるため
に処理温度、処理時間、処理条件などが困難で耐
蝕性のよい酸化物層を均一に形成させることがで
きない。一方、湿式法では処理後の水分の除去に
時間を要することや、不純物などの付着もある。
また、鉄などのように酸化保護皮膜を容易に形成
することができるが、酸化層が独自の磁気的性質
を有するために充分な結果を得ることができな
い。

本発明は、これらの問題点を改良し、実用的な
耐蝕性を備えた高密度記録用の磁気記録体を提供
することを目的とし、その要旨は基板に被着した
磁性層の表面にテルルからなる蒸着膜を形成した
ことを特徴とする磁気記録体である。そしてテル
ルは、真空度１×10^-5Torrにおける蒸気圧は約
500℃とクロムや酸化物などの化合物などの化合
物に比べて低く、低温で容易に蒸着でき、かつ酸
素との親和力も強く稠密な酸化皮膜を形成させ化
学的にも安定である。またテルルは、他の金属へ
拡散しやすい性質をもつているため蒸着時に磁性
層と容易に結合し良好に結着する。この発明に係
る磁気記録体は、磁性層表面に形成されるテルル
蒸着膜の膜厚が厚くなるに従つてその耐蝕性は向
上するが、膜厚が0.02μ以上になると、極端に高
周波領域の出力が低下する傾向にあるので、0.01
μあるいはこれ以下の膜厚が適当である。

以下、本発明の効果を実施例を用いて説明す
る。

約10μ厚のポリエステルフイルム上に厚み約
0.1μのコバルトを主体とした合金を真空蒸着に
より形成させ、磁気テープを作製した。さらにこ
の磁気テープの磁性層表面にテルルを蒸着し、そ
の膜厚を0.01μと0.005μとしたものを作製し
た。

また比較用にクロム、酸化ケイ素を同条件で膜
厚0.01μと0.005μ蒸着したものも作製した。各
試料について、40℃，1Hr乾燥，20℃，2Hr結露
の条件に設定した発露腐蝕試験装置内に１日〜20
日間放置し、磁気テープ表面を光学顕微鏡で観察
し腐蝕生成物の発生の有無を調べた。この結果を
図面に示す。図より、磁性層表面に厚み0.01μ形
成させた酸化ケイ素やクロムは、磁性層のみのも
のに比べ腐蝕生成物が発生し始める日数が２日な
いし５日遅れるのに対し、テルルを蒸着したもの
は、試験日数10日でもほとんど腐蝕生成物の発生
はみられず、試験日数15日目で腐蝕生成物が現わ
れ、耐蝕性が一段と向上していることが判つた。
一方、膜厚0.005μの場合は、酸化ケイ素、クロ
ム蒸着膜とも耐蝕性向上にあまり効果を示さなか
つた。これは前述のように膜厚が不均一で空孔が
多いためであり、その点テルル蒸着膜は、膜厚
0.01μの場合に比べれば腐蝕生成物の発生は５日
早いが、酸化ケイ素、クロム蒸着膜に比べ大きな
有意差があつた。したがつてテルル蒸着膜の場合
は膜厚0.005μと薄くとも耐蝕性上に十分な効果
が得られた。

また、磁性層表面に蒸着したテルル蒸着膜は、
磁気ヘツドによるひつかき試験においても膜の剥
れはほとんどなく磁性層との結合力が強く、実用
にも十分使用可能であることも確認した。

以上のように発明によれば、耐蝕性の非常にす
ぐれた磁気記録体を提供することができるもので
ある。

【図面の簡単な説明】

図面は各種磁気記録体の腐蝕試験結果を示す図
である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基板上に蒸着された磁性金属薄膜からなる磁
   性層の表面にテルルからなる蒸着膜を形成したこ
   とを特徴とする磁気記録体。