JPS58221280A - エツチングマシンによるシヤワ−方法 - Google Patents

エツチングマシンによるシヤワ−方法

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JPS58221280A
JPS58221280A JP13416782A JP13416782A JPS58221280A JP S58221280 A JPS58221280 A JP S58221280A JP 13416782 A JP13416782 A JP 13416782A JP 13416782 A JP13416782 A JP 13416782A JP S58221280 A JPS58221280 A JP S58221280A
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JP
Japan
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shower
bodies
plate
nozzles
processed
Prior art date
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Pending
Application number
JP13416782A
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English (en)
Inventor
Makoto Tada
真 多田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamatoya and Co Ltd
Original Assignee
Yamatoya and Co Ltd
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Publication date
Application filed by Yamatoya and Co Ltd filed Critical Yamatoya and Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、たとえばプリント配線用基板作成にあたり、
不要部(非配線部)の銅箔を腐蝕除去するために用いる
エツチングマシンによるシャワ一方法の改良に係るもの
である。
そこで、本発明の理解を助けるために、まずエツチング
マシンについて大まかに説明する。
エツチングマシンは、エツチング液(以下、単に「処理
液」という)のシャワー装置を備えたエツチング処理部
と、水洗装置を備えた水洗処理部が連設され、そしてこ
れらには、プリント配線用基板等の被処理用板材(以下
、単に「被処理板」という)を搬送するための搬送手段
が備えられており、被処理板は該搬送手段により、エツ
チング処理部から水洗処理部へと任意の速度で搬送され
るようになっている。
而して、被処理板を搬送手段に委ねてやれば、まずエツ
チング処理部において、任意の速度での搬送を受けなが
ら、シャワー装置からの処理液を浴びて、不要部分(非
配線部)の銅箔が腐蝕除去される。
被処理板は、なおも搬送手段により水洗処理部に搬送さ
れ、そこで被処理板面に伺着している処理液が水洗除去
され、最後に搬送出口に至る、すなわち、以上をもって
被処理板のエツチング処理は完了する。
ところで、本発明の主たる対象となるシャワー装置は、
シャワーノズルが任意の間隔で並設された処理液供給管
からなるシャワ一単位体が何本か連結固定された構成を
なしている。
そして、このシャワ一単位体のそれぞれには、処理液容
器から供給管を介して処理液が供給され、上記各シャワ
ーノズルからは、処理液が均等にシャワーされるように
なっている。
しからば、このシャワーノズルは、エッチファクターと
の関連から、シャワー角度について制限を受けており、
以下、この事情を第1図を参照しながら説明する。
簡潔に云えば、エツチング処理後の被処理板(A)の基
体(1)上に形成される配線部(a)は、導電阻害事故
を除去し、良電導性を達成せしめる見地から、銅箔(2
)の処理液による侵蝕部(20)を出来るかぎり小さく
抑えること(すなわち、エッチファクターを高めること
)が要求される。
この要求を満たすためには、シャワーノズル(3)から
の、被処理板(A)に対するンヤワー角度(sa)は極
力狭い方が有利であり、したがって、実用面でもこの趣
旨に添い、その角度(sa)を20度程度に低く抑えて
設計している。
尚、同図において、(4)はレジスI・、(1つ)は非
配線部を示している。
さて、一方被処理板は、上述の如く、エツチング処理部
内を搬送され、そのとき、シャワー装置により処理液の
シャワーを浴び(続け)ることにより、所望のエツチン
グ作用を受ける訳であるが、被処理板は、搬送手段によ
り水平(シャワ一単位体と平行)に保持されているから
、被処理板上にはシャワーされた処理液が溜まり易く、
そして、この溜った液は、被処理板のエツチングに関与
し終えてエツチング能力が極度に低下してしまったもの
であるから、これを速やかに系外に排除してやらないと
、次々にシャワーされる処理液のエツチング効果を減殺
してしまうこととなり、液溜りの度合とアンダーエツチ
ング(エツチングが充分に成されない状態)の度合とは
比例関係に陥入ることとなる。
であるから、液溜りを無(すようにすることは、被処理
板全面を均一に適正エツチングなさしめるための最重要
要素として挙げられることになる。
したがって、エツチングマシン設計に際しては、この点
(液溜りを排除すること)が最重要課題の一つとなり、
従来この課題解決に向け、シャワー装置を下記の如く構
成することにより、所望のシャワ一方法の実施ならびに
シャワー効果の達成を図らんとしてきている。
すなわち、その一つは、シャワーノズルの向きは固定の
ままで、各シャワ一単位体を一定幅往復駆動させる方式
のもの(以下、これを便宜上「往復駆動方式」という)
であり、他の一つは、各シャワ一単位体の位置移動はな
さず、各シャワ一単位体を一定幅往復回転させることに
より、シャワーノズルを一定幅首振りさせる方式のもの
(以下、これを便宜上「首振り方式」という)である。
ところが、この両方式とも、開発意図に反し満足できる
結果を得るに至っていない。すなわち、まず往復駆動方
式によれば、確かに、往復駆動方向への液の流れが形成
されるが、それはせいぜい被処理板面の端部もしくはそ
れに近い部分にシャワーされた液について云えることで
、すなわち当該部分にシャワーされた処理液は、比較的
スムースに外方へと流出するが、被処理板の中央部に行
く程、処理液の流れが充分には得られないという結果に
終っている。
これは、シャワーノズルの位置移動とシャワーノズルの
首振りのどちらもなさない場合に生ずる、隣り同志のシ
ャワーノズルから放たれた処理液の交錯部の液溜り(以
下、これを1交錯部液溜り」という)を、シャワーノズ
ルの位置移動により順次移動させるだけで、結局は被処
理板上の端部もしくはそれに近い部分に僅かの流れを与
える程度で、最も問題の多い被処理板の中央部辺りに生
ずる交錯部液溜りの排除については、実質的に無介入に
近い状態となってしまっているからである。
一方、首振り方式は、処理液に流れを与えるという点で
、上述の往復駆動方式に優るものがあるが、処理液の流
れ効果を高めるためには、シャワーノズルの醒振り角度
を大きくとることと、処理液の噴射力を高めることとが
必要となり、そこでそれにしたがってこれらを設計構成
すれば、前段において、第1図をもとに説明した如く、
配線部の銅箔を鋭角的に侵蝕する結果を招くことになる
ので、首振り角度と処理液の噴射力を抑えなければなら
ず、すなわち、処理液の流れ効果をある程度犠牲にせざ
るを得す、結果として満足な成果を得ることができない
でいるのである。
ところがこれまで、シャワーノズル相互の配置位置等に
ついての検討はなされてきているものの、シャワーノズ
ルの位置移動と首振りについては、上述の往復駆動方式
および首振り方式の開発をなしたことで、これら両方式
にはそれぞれ上記問題を抱えているにもかかわらず、そ
れ以上の開発努力は怠ってしまっているのが現状である
以上の事実に鑑み、本発明者は、上記両方式につき悉さ
に再検討を加え、なおかつ実験を重ねた結果、これらは
−1=述の如く単独では種々の欠陥を免れ得ないが、シ
ャワーノズルの往復移動と首振りとを同時一体的に行っ
てやれば、処理液の流れが格段に促進され、またシャワ
ーノズルの噴射角度も小さく抑えることができるから、
エッチファクターを低下させてしまう虞れもなくなり、
すなわち、上述した問題は一挙に解消され、したがって
、被処理全体のエツチングムラの除去と、配線部個々の
エッチファクターを著しく高め得ることを解明するに至
ったもので、本発明は下記を構成要旨とするものである
すなわち本発明は; シャワーノズルを任意数個備えた供給管からなるシャワ
一単位体を任意に定めた一定幅の往復駆動をさせながら
、このシャワ一単位体を任意に定めた一定幅の往復回転
を同時にさせることにより、シャワーノズルを被処理板
との平行面上を一定幅揺動させながら、同時に被処理板
面に対してシャワーノズルを揺動力向に一定幅振り動か
せて行うことを特徴とするエツチングマシンによるシャ
ワ一方法の提案である。
本発明の実施には、シャワーノズルを、被処理板との平
行面上を揺動させながら首振りさせることができる機能
を有するシャワー装置を構成し用いることが必要条件で
あるが、このように構成したシャワー装置の一例が添付
図面(第2図および第3図)に示されており、以下、こ
れら図面を参照しながら説明を加える。
図示のシャワー装置について、まず、その構造を概略的
に説明するに; それぞれがンヤワーノズル(1)を備えているシャワ一
単位体(2)複数本が、処理液供給手段(3)に連通さ
れた供給管からなるシャワー基体(4)に、その一方端
部が任意の間隔をもってそれぞれ突設されるとともに、
他方端部が支持体(5)にて支持されている。
しかもこのとき、各ンヤワ一単位体(2)は、物理的圧
力を受けたときはじめて回転を得るようにして、支持体
(5)とシャワー基体(4)にて支持しである。
また、シャワー基体(4)は支持体(5′)にて支持さ
れ、さらにこの支持体(5′)と上記支持体(5)とは
、その両端部をコロ部材(6)にて支持される一方、往
復駆動機構(7)に連結されているから、該往復駆動機
構(7)を作動させると、支持体(5)と(5′)とは
矢示方向への円滑な往復動作をなし、各シャワ一単位体
(2)とこれに設けられたシャワーノズル(1)も支持
体(5) (5’)と同時一体的な往復動作をなす。
さらに、各シャワ一単位体(2)の先端部には係合体(
8)が取付けられ、一方これに係合する係合用ピン(9
)が機枠(10)に突設されているから、各シャワ一単
位体(2)が往復動作をなすと、係合体(8)は、係合
用ピン(9)を支点として回動するから、シャワ一単位
体(2)は強制的に係合体(8)の回動方向へ回転せし
められる。すなわち、シャワーノズル(1)の一定幅の
揺動と揺動方向への首振りが同時に行われる。
上記の如くシャワー装置を構成することにより、本発明
の実施および目的の達成が可能となる。
すなわち、図示のシャワー装置を作動させ、そこに被処
理板を通してやれば、被処理板面には、絶えず位置移動
をなし、かつ噴射角度が変化しているシャワーノズルか
ら絶え間なく処理液が浴びせられるから、被処理板面に
は、中央部とが端部とかの別なく絶えず処理液の流れが
形成されることになり、被処理板上の液溜りは完全に排
除され、被処理板全面の均一なエツチング処理が達成さ
れるからである。
また、本発明実施においては、シャワーノズルの首振り
角度を太き(とる必要性がないから、配線部側々のエッ
チファクターを高めることが充分可能であり、このよう
に、本発明によれば、目的とする、被処理板全面の均一
なエツチング処理と個々のエッチファクターを高めるこ
とが同時に達成されるもので、実用効果抜群である。
尚、図示のシャワー装置では、シャワ一単位体の往復1
駆動を利用してシャワーノズルの首振りを行うようにな
したが、それぞれを別駆動になすなど、その応用は自由
である。
【図面の簡単な説明】
第1図はシャワーノズルのシャワー角度と配線部のエッ
チファクターとの関連説明図、第2図および第3図が本
発明実施に好適なシャワー装置の一例であり、第2図は
上視概略図、第3図はシャワ一単位体を回転させるため
の係合手段の斜視図である。 特許出願人 株式会社 ヤマトヤ商会

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. シャワーノズルを任意数個備えた供給管からなるシャワ
    一単位体を任意に定めた一定幅の往復駆動をさせながら
    、このシャワ一単位体を任意に定めた一定幅の往復回転
    を同時にさせることにより、シャワーノズルを被処理板
    との平行面上を一定幅揺動させながら、同時に被処理板
    面に対してシャワーノズルを揺動方向に一定幅振り動か
    せて行うことを特徴とするエツチングマシンによるシャ
    ワ一方法。
JP13416782A 1982-07-31 1982-07-31 エツチングマシンによるシヤワ−方法 Pending JPS58221280A (ja)

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JP10351282A Division JPS58221282A (ja) 1982-06-15 1982-06-15 エツチングマシンのシヤワ−装置

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JPS58221280A true JPS58221280A (ja) 1983-12-22

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5415620A (en) * 1977-07-06 1979-02-05 Nec Corp Buffer memory unit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5415620A (en) * 1977-07-06 1979-02-05 Nec Corp Buffer memory unit

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