JPS58159A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS58159A
JPS58159A JP9852081A JP9852081A JPS58159A JP S58159 A JPS58159 A JP S58159A JP 9852081 A JP9852081 A JP 9852081A JP 9852081 A JP9852081 A JP 9852081A JP S58159 A JPS58159 A JP S58159A
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Takayuki Uno
宇野 隆行
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NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体装置に係り、特に回路基板に直接半導体
素子を装着する半導体装置に関するものである。
従来、回路基板に直接半導体素子を装着する半導体装置
では、該半導体素子を封止する方法として液状樹脂をボ
ッティングする方法が一般に用いられている。しかしな
がら、ボッティング方法による封止においては、液状樹
脂が不要な箇所に流出したり、気泡が生じたり、一定形
状に製造できない等の外観不良を生じることが多かった
。さらに液状樹脂の場合は、硬化、に長時間を要するた
め作業性が悪くなるという欠点もありだ。またモールド
11M封止の場合は、一定形状に封止することが可能と
なり、かつ、作業性も大巾に向上するという利点を生む
が、回路基板表面の導電層の存在により凹凸部ができる
ため、樹脂パリ不良が大量に発生し、実際にはモールド
樹脂封止は極めて困難であった。
本発明の目的は、上記ボッティング封止の欠点である外
観不良や作業性の悪さを無くすべく、樹脂パリが発生し
ないトランスファー又は射出成形が可能なwwi封止型
半導体装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は半導体素子を直Ii
!回路基板に装着し、トランスファー成形又は射出成形
により411iI封止する半導体装置において、この回
路基板における少なくとも#脂封止部の外周にゴム状の
樹脂層が設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、ゴム状の樹脂層を設けたことにより、
モールド金型で型締めした際にゴム状の樹脂層が回路基
板の導電層による凹凸を完全に吸収し、金型と回路基板
が密着できるため、樹脂パリの発生しないモールド樹脂
封止が可能となる。
したがって、一定形状で外観の良好な製品が得られ、ま
た成形時間も数分で足りるため1作業性も大巾に向上す
る。
次に本発明の実施例について1図面を用いて説明する。
従来の半導体装置は、第1FjA(a)及び(b)に示
すように半導体装置部を有する回路基板1に半導体素子
2を金属p−材、接着剤等で接着し、該半導体素子2と
導電層3を金属M114で接続した後、液状封止用樹脂
の漏れ防止のために樹脂等からなる枠5を該回路基板1
に接着して、封止用樹脂6をポツティングするという方
法が一般にとられていた。
このような構造の場合、均一な外観、形状を得ることが
難しい上に樹脂の硬化に長時間を要し。
作業性が悪かった。
これに対して本発明の実施例による半導体装置は、第2
図(−及び伽)に示すように回路基板11の封止予定部
の外周となる半導体素子12の周囲及びwlHから、@
路基板11の端部に通じる少なくとも一本のゴム状の樹
脂層15を設けている。モールド樹脂封止する際は、モ
ールド金型19及び20で型締めされ、その後溶融状態
のモールド樹脂がランナー17.サブランナー18を通
り%回路基板に設けたゴム状の樹脂層15の上を通り、
封止部に圧入される。この際、ゴム状の樹脂層15は回
路基板11の凹凸を吸収して樹脂パリを生じないように
なっている。なお、このゴム状樹脂層の材料としては、
封止後う/ナーを除夫するためにモールド11脂とは密
着性の悪いものが好ましく、例えばシリコーン樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリブタジェン樹脂等が挙げられるが
、限定されるものではない。また、封止後このゴム状W
脂層の不要な部分5例えば本実施例における封止部外周
から回路基板の端部に通じる部分を除去したい場合は、
シリコーン系の瑠取り剤を用いると効果的に除夫できる
。そして、このゴム状樹脂層を形成する方法としては、
液状樹脂をスクリーン印刷にて回路基板上に形成するか
、または所定の形状のゴム状シートをラミネーシする等
の方法で容易に作成できる。なお、ゴム状樹脂層の膜厚
としては回路基板の凹凸を完全に吸収できる程度の厚さ
で十分であるが、それ以上厚いものを用いても有効なの
は言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図(&)及び(b)は従来の半導体装置の図で、第
1図(a)は上面図、第1図(b)は断面図であり、第
2図(a)及び(b)は本発明による半導体装置の一実
施例を示し、第2図(a)は上面図、第2図(b)は断
面図である。 なお図において、1.11・・・回路基鈑、2,12・
・・半導体素子、3.13−・・導電層、4.14・−
・金属細線、5・・・樹脂枠、6・−液状封止用樹脂、
15−ゴム状樹脂層、16−・モールド樹脂、17・・
・ランナー、1g−・・サブテンチー。19.20−モ
ールド金型、である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体素子を直接回路基板に装着しトラン7アー成形又
    は射出成形により樹脂封止する半導体装置において、該
    回路基板における少なくとも樹脂封止部の外層にゴム状
    の樹脂層が設けられていることを特徴とする半導体装置
JP9852081A 1981-06-25 1981-06-25 半導体装置 Granted JPS58159A (ja)

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JP9852081A JPS58159A (ja) 1981-06-25 1981-06-25 半導体装置

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JPS58159A true JPS58159A (ja) 1983-01-05
JPS6151425B2 JPS6151425B2 (ja) 1986-11-08

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ID=14221926

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