JPS5814313A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、例えば非晶質強磁性合金等の強磁性材料から
なる少なくとも１枚の薄板を一対の非磁性ガード部材間
に接合して固定するようにした磁気ヘッドの製造方法に
関するものである。

磁気ハツトに要求される特性としては、広い周波数帯域
に亘って高感度であることをはじめ、低ノイズ性、耐摩
耗性等が挙げられる。しかしながら、実際上これらの１
１４１性を全て満足Ｔるような強磁性材料は得られてい
ない。例えばフェライトの場合、高周波特性及び耐摩耗
性には優れているものの、飽和磁束密度が小す＜、また
摺動ノイズが大きいという欠点がある。一方、センダス
ト合金には、飽和磁束密度が大きく、シかも摺動ノイズ
が小さいという利点があるが、高周波特性や耐摩耗性の
点で劣るという欠点がある。

これらに対し、非晶質（アモルファス）強磁性合金、例
えばＣｏ−Ｆｅ　−Ｂ−８ｉ　　系の合金の場合には、
その組成を適当に選定することによって、高飽和磁束密
度でかつ低ノイズであり、しかも高硬度であるために耐
摩耗性にも優れ、更に、比抵抗が比較的大きく、従って
為周波特性に優れた磁気ヘッドを得ることができる。と
ころが、このようなアモルファス合金には、高温（通常
、約５００　Ｃｍ度）に迄加熱すると結晶化してしまっ
て、その特性劣化を招（という問題があった。また、特
に無機接着剤との接着強度が小さく、このため、機械的
強度等、磁気ヘッドの信頼性に乏しいという欠点もあっ
た。

即ち、有機接着剤は、接着箇所の経時変化による位置ず
れや樹脂のにじみ出し等の問題があって、特に短波長記
録＾生用、即ち狭トラック巾の磁気ヘッドには使用でき
ない。このため、従来このような磁気ヘッドには無機接
着剤が使用されてきた。

例えば、上述したフェライトの場合には溶融ガラスが、
また、センダストの場合には銀ろうが夫々用いられてき
た。ところが、これらの無機接着剤は何れも鳥温処理が
必要であり、従ってアモルファス合金には使用すること
ができなかった。

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであっ
て、低温無機接着剤（例えば、低融点ガラス等）を用い
た場合でも充分な接着強度が得られるような磁気ヘッド
の製造方法を提供しようとするものである。

以下、本発明を実施例につ、ｉき図面を参照して説明す
る。

まず、片ロール急冷法、両ロール急冷法等の従来周知の
ロール急冷法により、例えばＣｏ−Ｆｅ−８−８ｉ系の
非晶質強磁性合金をリボン状に作製する。次いで、この
アモルファスリボンを研摩して、所定のトラック巾、例
えば約１３μの厚みとする。

次に、！！１図に示すように、このアモルファス合金の
薄板（１）の表面層こ、Ｔｉ％Ｃｒ％Ｆｅ等の活性化金
属をスパッタリング、蒸着等により付着させ、第１の薄
膜表面層（２）を形成する。なお、とのＩＩ！１の薄膜
表面層（２）は液相めつきにより形成しても良い。

この第１の薄膜表面層（２）の膜厚は約１００Ｘ〜５１
ｓ程度とするのが良く、約５００〜２，０００Ｘとする
のが更に好ましい。この膜厚があまり小さ過ぎると接着
強度改善の効果が少な（なり、一方、あまり大き過ぎる
と、この第１の薄膜表面層（２）に歪が入り易（なって
アモルファス薄板（１）の特性劣化を招く恐れがあり、
また、テープ対接面においてアモルファス材と特性の異
なった部分、が相対的に大きくなるので好家しくない。

次に、この第１の薄膜表面層（２）上に、８ｉ０２、λ
ｇｌＯＨ１ＣｏＯ、Ｃｋｅ０２等の金属酸化愉又はＭか
らなる第２の薄膜表面層（３）をやはリスバッタリング
、蒸着等により形成する。この＃！２の薄膜表面層（３
）の膜厚は約２ｏｏＸ以上とするのが曳く、例えばＭの
場合には約０．１〜２μ程度とするのが好ましい。

この膜厚があ！り小ざ過ぎるとやはり接着強度改善の効
果が少なくなり、また、あまり大き過ぎると、テープ対
接面においてクロッグ等の問題を引き起す要因となった
り、渦電流損失が大きくなる等から好ましくない。

上述のようにして第１及び第２の薄膜表面層（２）及び
（３）の形成された各アモルファス薄板（１）は、第２
図に示すように、セラミック等からなる非磁性ガード部
材（４）間に無機接着剤により夫々接合されて固定暮れ
る。非磁性ガード部材（４）は、約３１厚のガード部材
（４ｍ）と約０．３〜０．６■厚のガード部材（４ｂ）
とからなっており、図示の如く、各アモルファス薄板（
１）の間に肉薄のガード部材（４ｂ）が夫々配され、最
外側端に肉厚のガード部材（４ｍ）が配される。

次に、このようにして形成された積層ブロック（５）を
、第３図に示すように、各接合面と直角の方向に切断し
てコアブロック片（６）を切り出Ｔ０従って、各コアブ
ロック片（６）には、アモルファス強磁性合金からなる
薄板（１）とセラミック等からなる非磁性ガード部材（
４）とが交互に配されている。

次いで、ｌ！４図に示すように、積層ブロック（５）か
ら切り出された一対のコアブロック片（６）の一方に巻
Ｉｌ＃（７）を研摩により形成する。そして、第５図に
示すように、これら一対のコアブロック片（６）を所定
のギャップスペーサを介して互いに接合し、コアブロッ
ク（８）を形成する。

次いで、第６図に示すように、仁のコアブロック（８）
を研摩して所定のテープ対接面（９）を形成するととも
に、磁気ギャップ（１（ｌのギャップデプスｄを規定す
る。しかる後、１１１７図に示すように、このコアブロ
ック（８）をガード部材（４ｂ）の部分で、磁気ギヤ、
ツブ顛と直角の方向に切断し、第８図に示すよう心へラ
ドコアＩを形成する。

このような方法によれば、その特性上、鳥温処理のでき
ないアモルファス強磁性合金を用いた場合でも、剥離強
度が大きく、シかも信頼性の高い磁気ヘッドを得ること
ができる。

次に、本発明を実験例につき説明する。

まず、Ｃｏ−Ｆ’＠−Ｂ−８１系のアモルファス強磁性
合金リボンを０８−１０００　＋こより研摩して、既述
したような薄板（１）を得た後、これを充分に洗浄し、
更に、４０５Ｃで６０分間保持してから急冷した。

このようにして得たアモルファス薄板（１）に下記−）
〜竿の表面処理を行った。

（ａ）、薄板１１）の表面に何ら表面層を形成しなかっ
た。　゛ （ｂ）、薄板（１）の表面にＣｒをスパッタリングして
膜Ｊｌ約２．０００ムの表面°層を形成した。スパツタ
リ確 ング条件は、人ｒ圧：２Ｘ１０〜５ｘｉｏ　’ｉ”ｏｒ
ｒ。

ＲＦ　：　０．２〜０．３ＫＷ　テアツタ。

（Ｃ）、（ｂ）と同様にして、Ｔｉからなる膜厚的２，
０００裏の赤面層を形成した。

（ｄ）、やはり（ｂ）と同様ＩＩεして□、８４０２か
らなる膜厚的２，０００Ｘの赤面層を形成した。

（ｅ）、同様に、Ａ１２ｏ暴からなる膜厚的２．００　
ＯＡの表面層を形成した。

（ｆ）、同様に、Ｍからなる膜厚的２．０ＯＯＡｇ）表
面層を形成した。

（ｇ）、（ｂ）と同様のスパッタリングにより、Ｏｒか
らなる約２００〜５００Ａの第１の薄膜表面層（２）及
び８１０□からなる約２．Ｏ’００Ｘの＃！２の薄膜表
面層（３）を夫々形成した。

（ｈ）、同様にして、Ｏｒからなる約２００〜５００Ｘ
の第１の薄膜表面層（２）及びＡＪｚＯｉからなる約２
，０００又の第２の薄膜表面層（３）を夫々形成した。

山、同様にして、Ｔｉからなる約２００〜５００人の第
１の薄膜表面層（２）及びＡｊ２０ｉからなる約２　、
０００Ｘの第２の薄膜表面層（３）を夫々形成した・（
ｊ）、同様ＧＣｔ、　”ｃ、Ｃｒからなる約２，０ＯＯ
ＡのＩｌｌの薄膜表面層（２）及びＭからなる約２，０
ＯＯＸの第２の薄ｌＩ表面層（３）を夫々形成した。

（ｋ）、同様ニＬ、ｒ、Ｔｉ力らなる約２，０００Ｘの
Ｉｓｌの薄膜表面層（２）及びＭ、卆らなる第２の薄膜
表面層（３）を夫々形成した。

これら（１１）〜（ｋ）の各試料につき５ｔｌｔ２図に
示すように、薄板（１）と非磁性ガード部材（４）とを
交互に積層して無機接着剤により接層した。

無機接着剤の硬化は約１０゛０〜１５０Ｃに２時間保持
して行った。

次いで、第３図〜ＩＮ８図に示Ｔ工程に従って夫々へラ
ドコアを作製した。

しかしながら、本発明の比較例である上記（！１）〜げ
）の各試料については、上述した加工工種の途中におい
てブロック割れが発生した。これらの割れ面を観察する
と、何れの場合にもアモルファス薄板＋１）の表面、即
ち、薄板（１）と一層構造の金属酸化膜又は金属Ｍ膜と
の界面において割れていた。

これに対し、本発明の実施例である上記憶）〜−）の各
試料においては、上述のような割れを生じも何れの場合
にもヘッドコアａυを歩留り良く得ることができた。ま
た、得られたヘッドコア住υを温度サイクルテスト＜−
４０Ｃ〜７ＣＦで４サイクル）に供したところ、何れの
試料についても全く異状が見られなかった。

次に、上記（→〜（ｋ）の各試料につき、アモルファス
薄板＋１１と非磁性ガード部材（４）との接合面の引張
り強度試験を行った。結果を次表に示Ｔ０表 この結果から、アモルファス薄板（１）の表面に、Ｃｒ
。

Ｔ１等の活性化金属からなる第１の薄膜表面層（２）及
び８１０ｚ　ｓ　ＩＪ鵞Ｏｓ等゛の金属酸化物又はＭか
らなる第２の薄膜表面層（３）を夫々形成した本発明の
実施例（ｇ）〜（ｋ）においては、比較例（１）〜（ｆ
）と比べて、無機接着剤による接着強度が大巾に改善さ
れていることが分る。また、上記各試料（ａ）〜（ｋ）
につき、アモルファス薄板（１）同士の接層強度を同様
の開帳り強度試験により調べたが、この場合にも、本発
明の実施例である上記（−〜（ｋ）の各試料″において
は、何れも嵐好な剥離強度が得られた。

Ｃｏ　−Ｆｅ−Ｂ−ｐｉ系のアモルファス強磁性合金を
用い、１図〜第８図に示した上記実施例□の手順に従っ
て作製した磁気ヘッドのヘッド出力と周波数との関係を
第９図に示Ｔ０磁気ヘッドと磁気テープとの相対速度は
１０ｍ／＠ｅｃであった。この第９因から分るように、
本発明の手順に従って作製暮れたアールファス強磁性合
金品磁気ヘッド（曲線人で示す）は、従来のＭｎ−２ｎ
フエライトのもの（曲線Ｂで示す）と比較して、その周
波数特性が優れている。

以上、本発明を、アモルファス強磁性合金を用いた磁気
ヘッドの製造方法に適用した実施例につき説明したが、
本発明は、他の強磁性材料、例えばパーマロイやセンダ
スト合金を用いた場合に適用しても効果的である。

以上説明したように、本発明においては、強磁性材料か
らなる薄板の接合面Ｉこ、Ｃｒ％Ｔｊ、Ｐａ等の活性化
金属からなる＃１１の薄膜表面層と、８ｉ０．、人ｈｏ
ｓ　、Ｃｏｏ　ｓ　（−〇２等の金属酸化物又はＭから
なる１ｉｌＩ２の薄膜表面層とを夫々形成し、しかる後
、無機接着剤を用いて前記薄板と非磁性ガード部材或い
は前記薄板同士の接合を行うようにしている。

このような構成により、強磁性材の薄板と無機接着剤と
の接着強度を大巾に向上させることがで会、従って、機
械的強度が鳥（かつ信頼性の高い磁気性合金を用いて、
しかも信頼性の＾い磁気ヘッドを得ることが可能となる
。更に、有機接着剤を用いて−１ないので、接着箇所の
経時変化番こよる位置ずれや樹脂のにじみ出し等が起ら
ず、従って、特に狭トラック巾の磁気ヘッドに用いて好
適な耐湿及び耐湿性に優れた信頼性の高い磁気ヘッドを
得ることかできる。

【図面の簡単な説明】

＃Ｉ１図〜第８ｗＡは本発明の一実施例による磁気ヘッ
ドの製造方法を工１！順に示すものであって、１１１図
は表面層の形成されたアモルファス薄板の部分拡大断面
図、第２図は薄板と非磁性ガード部材とを積層して積層
ブロックを形成する工程を示す概略斜視図、第６図は積
層ブロックからコアブロック片を切り出す工程を示Ｔｗ
ｔ略斜視図、第４図は一対のコアブロック片を接合する
工程を示す概略斜視図、第５図はコアブロック片を接合
して形成したコアブロックの概略斜視図、１ｌＩｔ６図
はコアブロックにテープ対接面を形成した状態を示す纂
５図と同様の概略斜視図、第７図はコアブロックからヘ
ッドコアを切り出す工程を示すｍ５図と同様の概略斜視
図、第８図は切り出されたヘッドコアの概略斜視・図、
８に９図は磁気ヘッドのヘッド出力と周波数との関係を
示すグラフである。 なお図面に用いた符号化おいて、 （１）・・・・・・・・・・・・・・・薄板（２）・・
・・・・・・曲・・・　第１の薄膜表面層（３）・・・
・・・・・・・・・・・・　第２の薄膜表面層（４ａＸ
４ｂ）・・・・・・　非磁性ガード部材である。 代理人　上屋　勝 ｌ　　松材　修 第８図 第９図 ＩＱ　５１Ｌ　Ｈ（Ｆ’１ＨｚＪ （自発）手続補正書 昭和５６年９　月　７日 １、事件の表示 昭和５６年特許願第１１１２８２号・ ６　補正により増加する発明の数 ８補正の内容 （υ、轡許請求の範囲を別紙の通りに訂正しｔＶＯ（２
）、明細書第１頁１５〜１６行目の「非磁性ガーーウ材
」を「ガード部材」と訂正しまＴｏ、−同１１１３頁５
行目と６行目きの間に下記の記載を挿入しまＴｏ 記 ｊお実施例においては、アモルファスリボンを磁性ガー
ド材によりサンドイッチした構造を示ｔが、非磁性ガー
ド材と磁性フェライトとの複ガード材ブロックでアモル
ファスリボンをサンイツチＴる場合−こも本発明の技術
は適用できる。 の場合ｌζは、テープ対接面側が非磁性ガード材かつ後
部磁路側が磁性フェライトで夫々γモルアスリポンをサ
ンドイッチした構造の磁気ヘラｒが得られる。」 −以上一 ２、　　％許請求の範囲・

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 強磁性材料からなる少なくとも１枚の薄板を一対の非磁
   性ガード部材間に接合して固定するよう　。 にした砿気ヘーツドの製造方法ｉこおいて、前記薄板の
   接合面に活性化金属からなる１８１の薄膜表面層を形成
   し、次いでこの第１の薄ｌ１ｌｓ面層上に金属酸化物又
   はアルミニウムからなる第２の薄膜表面層を形成し、し
   かる後無機接着剤を用いて前記薄板の接合を行うように
   したことを特徴とする方法。