JPS6040513A - 複合型磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
複合型磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6040513A JPS6040513A JP13913284A JP13913284A JPS6040513A JP S6040513 A JPS6040513 A JP S6040513A JP 13913284 A JP13913284 A JP 13913284A JP 13913284 A JP13913284 A JP 13913284A JP S6040513 A JPS6040513 A JP S6040513A
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- composite
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- ferrite
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気記録再生装置用磁気ヘッドに関し、さらに
詳細には金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライトとを組
合わせた複合型磁気ヘッドに関する。
詳細には金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライトとを組
合わせた複合型磁気ヘッドに関する。
高保磁力媒体(例えば、保磁力Hcが12000e以上
のFe磁性粉)の記録、再生用磁気ヘッドとして金属磁
性体が適していることはすでに知られている。しかし、
金属磁性体は比抵抗が低く渦電流損失が大きいため、従
来のフェライトに比べ高周波での実効透磁率が低くなり
、得られたヘッドの再生能率が低いという欠点を持って
いる。したがって記録再生特性が優れた金属磁性体ヘッ
ドを構成するためには、磁性体を薄帯化し、絶縁層を介
して積層したブロックを用いて積層型の磁気ヘラl〜を
作ることが有力な手段となっている。
のFe磁性粉)の記録、再生用磁気ヘッドとして金属磁
性体が適していることはすでに知られている。しかし、
金属磁性体は比抵抗が低く渦電流損失が大きいため、従
来のフェライトに比べ高周波での実効透磁率が低くなり
、得られたヘッドの再生能率が低いという欠点を持って
いる。したがって記録再生特性が優れた金属磁性体ヘッ
ドを構成するためには、磁性体を薄帯化し、絶縁層を介
して積層したブロックを用いて積層型の磁気ヘラl〜を
作ることが有力な手段となっている。
最近では、磁気ヘッド用金属磁性材料の開発とその薄帯
化技術の開発が進歩し、特にM1急冷法(スプラッ1へ
クーリング)技術の発達によって、非晶質磁性合金の薄
帯化が進歩し、10〜507/In厚さの高品質の非晶
質磁性合金薄帯が得られるようになった。また、Fe−
AD、−8i合金(センダスト)の薄帯化も可能となっ
た。このようにして得られた金属磁性41料の薄帯は従
来の金属磁性材料の特徴である高飽和磁束密度、高透磁
率特性を保持しており、かつ高周波特性にすぐれるため
高周波用磁気ヘッド材料として有望であることが報告さ
れている。
化技術の開発が進歩し、特にM1急冷法(スプラッ1へ
クーリング)技術の発達によって、非晶質磁性合金の薄
帯化が進歩し、10〜507/In厚さの高品質の非晶
質磁性合金薄帯が得られるようになった。また、Fe−
AD、−8i合金(センダスト)の薄帯化も可能となっ
た。このようにして得られた金属磁性41料の薄帯は従
来の金属磁性材料の特徴である高飽和磁束密度、高透磁
率特性を保持しており、かつ高周波特性にすぐれるため
高周波用磁気ヘッド材料として有望であることが報告さ
れている。
金属磁性薄帯を用いた磁気ヘッドは第1図に示すごとく
、金属磁4J1:薄帯片10を樹脂などで接着積層し、
素体ブロック11を作製し、これを加工して3− 第2図に示すような積層型磁気ヘッド】2を作製する。
、金属磁4J1:薄帯片10を樹脂などで接着積層し、
素体ブロック11を作製し、これを加工して3− 第2図に示すような積層型磁気ヘッド】2を作製する。
しかし、上記のような磁気ヘッドはいずれも記録媒体と
の対向部が金属であるため、フェライトに比べ耐摩耗性
に劣る欠点がある。また、多層の積層技術が困・難で、
作製プロセス上の問題が多い。
の対向部が金属であるため、フェライトに比べ耐摩耗性
に劣る欠点がある。また、多層の積層技術が困・難で、
作製プロセス上の問題が多い。
例えば、第1図の金属磁性薄帯片10を多数枚接着積層
するために、樹脂を用いた場合ヘッド作製工程における
機械加工に耐えるだけの接着強度が得られず、加工中に
はがれたりしてしまう。また、樹脂は比較的軟らかいた
めにギャップ形成などにおいて、曲りを生じサブミクロ
ン・ギャップ精度が得られない欠点がある。一方、ガラ
ス膜などを介して接着したとしても、金属との接着強度
が十分でなく機械加工に耐え得るには不十分である。
するために、樹脂を用いた場合ヘッド作製工程における
機械加工に耐えるだけの接着強度が得られず、加工中に
はがれたりしてしまう。また、樹脂は比較的軟らかいた
めにギャップ形成などにおいて、曲りを生じサブミクロ
ン・ギャップ精度が得られない欠点がある。一方、ガラ
ス膜などを介して接着したとしても、金属との接着強度
が十分でなく機械加工に耐え得るには不十分である。
本発明の目的は前述の従来の磁気ヘッドの製造方法にお
ける欠点を解消し、高密度磁気記録再生に適した磁気ヘ
ッドを機械加工に耐え得る素体ブロックの構成によって
作製し、量産性に適した複4− 金型磁気へラドの製造方法を提供することである。
ける欠点を解消し、高密度磁気記録再生に適した磁気ヘ
ッドを機械加工に耐え得る素体ブロックの構成によって
作製し、量産性に適した複4− 金型磁気へラドの製造方法を提供することである。
上記目的を達成するために、本発明による複合型磁気ヘ
ッドの製造方法においては少なくとも1ヘラツク幅の厚
みを有する少なくとも1枚の金属磁性薄帯を高透磁率磁
性フエライI〜板と交互に複数枚を積層、接着し、磁気
ヘッドの1組が該金属磁性薄帯を高透磁率磁性フェライ
トで挟むごとく一体化してなるように構成した複合ブロ
ックを素体とすることを要旨とする。このような構成に
よって、耐摩耗性をフェライトと同等にすることができ
、かつ、高透磁率フェライトを用いることによって磁気
回路としても有利な磁気ヘッドを得ることができる。ま
た、フェライ1へを間に挟むことによって機械的強度も
増す利点が得られる。
ッドの製造方法においては少なくとも1ヘラツク幅の厚
みを有する少なくとも1枚の金属磁性薄帯を高透磁率磁
性フエライI〜板と交互に複数枚を積層、接着し、磁気
ヘッドの1組が該金属磁性薄帯を高透磁率磁性フェライ
トで挟むごとく一体化してなるように構成した複合ブロ
ックを素体とすることを要旨とする。このような構成に
よって、耐摩耗性をフェライトと同等にすることができ
、かつ、高透磁率フェライトを用いることによって磁気
回路としても有利な磁気ヘッドを得ることができる。ま
た、フェライ1へを間に挟むことによって機械的強度も
増す利点が得られる。
本発明の一つの実施の態様においては、前記接着材を介
して積層された金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライト
の少なくとも両端に補強用ブロックを接合した複合ブロ
ックを素体とする。場合によっては金属磁性薄帯を2枚
の高透磁率磁性フエ6− ライ1〜で挟んだIli位を一組とする組と組の間ごと
にあるいは数組11を位の間ごとに該補強用ブロックを
設けてもよい。該補強用ブロックはフェライト以外にセ
ラミックスあるいはガラスなどで構成される。
して積層された金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライト
の少なくとも両端に補強用ブロックを接合した複合ブロ
ックを素体とする。場合によっては金属磁性薄帯を2枚
の高透磁率磁性フエ6− ライ1〜で挟んだIli位を一組とする組と組の間ごと
にあるいは数組11を位の間ごとに該補強用ブロックを
設けてもよい。該補強用ブロックはフェライト以外にセ
ラミックスあるいはガラスなどで構成される。
本発明の他の一つの実施の態様においては、前記金属磁
性薄帯と高透磁率磁性フェライトを交互に積層したブロ
ックの少なくとも磁気ヘッドの側面もしくは底面となる
部分もしくはその両面に凹溝を設け、該金属磁性薄帯と
高透磁率磁性フェライトを接着材を介して積層するとと
もに、該凹溝に接着材を充填補強してなる複合ブロック
を素体とする。充填材としてはガラス、樹脂、その他無
機接着材などが用いられる。この実施の態様によれば、
金属磁性薄帯面と高透磁率磁性フエライ1へ面との接着
強度を充填材によってさらに高めることができ、磁気ヘ
ッド加工工程における過酷な機械加Iにも耐えうる磁気
を得ることができる。充填材として用いるガラス、樹脂
、その他無機接着材は金属との接着強度は弱いが、フェ
ライトとの7− 接着強度が強い性質を利用し、交互に挟み込まれたフェ
ライト部を充填接着材で橋渡しすることによって金属磁
性薄帯面と高透磁率磁性フェライト面との接着強度を補
うものである。
性薄帯と高透磁率磁性フェライトを交互に積層したブロ
ックの少なくとも磁気ヘッドの側面もしくは底面となる
部分もしくはその両面に凹溝を設け、該金属磁性薄帯と
高透磁率磁性フェライトを接着材を介して積層するとと
もに、該凹溝に接着材を充填補強してなる複合ブロック
を素体とする。充填材としてはガラス、樹脂、その他無
機接着材などが用いられる。この実施の態様によれば、
金属磁性薄帯面と高透磁率磁性フエライ1へ面との接着
強度を充填材によってさらに高めることができ、磁気ヘ
ッド加工工程における過酷な機械加Iにも耐えうる磁気
を得ることができる。充填材として用いるガラス、樹脂
、その他無機接着材は金属との接着強度は弱いが、フェ
ライトとの7− 接着強度が強い性質を利用し、交互に挟み込まれたフェ
ライト部を充填接着材で橋渡しすることによって金属磁
性薄帯面と高透磁率磁性フェライト面との接着強度を補
うものである。
本発明のさらに他の一つの実施の態様においては、前記
凹溝に補強用ブロックを接着材によって埋込み固定して
なる複合ブロックを素体とする。
凹溝に補強用ブロックを接着材によって埋込み固定して
なる複合ブロックを素体とする。
補強用ブロックは前記凹溝に挿入できる程度の板状のも
のが用いられ、種々のセラミックス、ガラス、フェライ
i−からなる。
のが用いられ、種々のセラミックス、ガラス、フェライ
i−からなる。
本発明のさらに他の−っの実施の態様においては、前記
金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライ1〜を積層した複
合ブロックの少なくとも磁気ヘッドの側面もしくけ底面
、もしくはその両面に補強ブロックを接着してなる複合
ブロックを素体とする。
金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライ1〜を積層した複
合ブロックの少なくとも磁気ヘッドの側面もしくけ底面
、もしくはその両面に補強ブロックを接着してなる複合
ブロックを素体とする。
上記そJtぞれの本発明の実施の態様は、金属磁性薄帯
と高透磁率磁性フエライ1へからなる複合型磁気八ツ1
へに係り、耐摩耗性を増し、フエライ1〜と種々の接着
材の接着強度が高いことを利用し、前記積層ブロックに
フェライ]−を介して接着材を8− 用い補強することによって磁気ヘッド加工を容易にし、
かつ量産に適した磁気ヘッドを提供する。
と高透磁率磁性フエライ1へからなる複合型磁気八ツ1
へに係り、耐摩耗性を増し、フエライ1〜と種々の接着
材の接着強度が高いことを利用し、前記積層ブロックに
フェライ]−を介して接着材を8− 用い補強することによって磁気ヘッド加工を容易にし、
かつ量産に適した磁気ヘッドを提供する。
以下本発明を実施例を用いて一層詳細に説明する。
本発明を実施するのに用いる金属磁性薄帯は、非晶質合
金、例えば、F e6 C07(l S 11 c、
B 1o、あるいは、Fe、、Co、、B2.、その他
Fe、coおよびNiとSj、、B、Cr、Mo、Pお
よびCとを主成分としてなる。これらは、高速急冷法(
スプラットクーリング)によって20〜5077II+
厚の薄帯を作製し、適当な幅および長さに切断して用い
られる。場合によっては、結晶化温度以下で適当な熱処
理を行なう。
金、例えば、F e6 C07(l S 11 c、
B 1o、あるいは、Fe、、Co、、B2.、その他
Fe、coおよびNiとSj、、B、Cr、Mo、Pお
よびCとを主成分としてなる。これらは、高速急冷法(
スプラットクーリング)によって20〜5077II+
厚の薄帯を作製し、適当な幅および長さに切断して用い
られる。場合によっては、結晶化温度以下で適当な熱処
理を行なう。
第」の実施の態様においては、非晶質金属薄帯として遠
心急冷却により作製したFe、Go、。S j−xsB
、。(飽和磁束密度; 75000ガウス、5 M H
zでの透磁率; 400)の薄帯を用いた。また、F
e −Al1−8j系の合金を薄帯化したちの同時に検
討した。
心急冷却により作製したFe、Go、。S j−xsB
、。(飽和磁束密度; 75000ガウス、5 M H
zでの透磁率; 400)の薄帯を用いた。また、F
e −Al1−8j系の合金を薄帯化したちの同時に検
討した。
本実施例ではSjg、5A+1.、。FeB4.5(飽
和磁束密度;9− 10000ガウス、5 M Hzでの透磁率; 300
)を用いた。
和磁束密度;9− 10000ガウス、5 M Hzでの透磁率; 300
)を用いた。
一方、高透磁率フェライ1〜としてはMn−Znフェラ
イトのIIi結晶、多結晶体、Ni−Znフェライトの
多結晶体を用いた。本実施例ではFe2O,:53モル
%、Mn:j8モル%、ZnO: Lf1モル%多結晶
体を用いた・ 第3図は本発明の第1の実施の態様における複合ブロッ
ク素体Uを示す。ここでは少なくとも1枚の金属磁性薄
帯(センダスl” : Sj、、5Aσ6.。
イトのIIi結晶、多結晶体、Ni−Znフェライトの
多結晶体を用いた。本実施例ではFe2O,:53モル
%、Mn:j8モル%、ZnO: Lf1モル%多結晶
体を用いた・ 第3図は本発明の第1の実施の態様における複合ブロッ
ク素体Uを示す。ここでは少なくとも1枚の金属磁性薄
帯(センダスl” : Sj、、5Aσ6.。
FeB4.5) 14と高透磁率フエライI〜(Mn−
Znフェライト板)15を交互に接着層を介して積層し
たものである。ここで、磁気ヘッドのトラック幅を20
Pとする場合は、金属磁性薄帯の厚みは20〜5011
m程度のものを用いる。またこれを数枚重ねてもよい。
Znフェライト板)15を交互に接着層を介して積層し
たものである。ここで、磁気ヘッドのトラック幅を20
Pとする場合は、金属磁性薄帯の厚みは20〜5011
m程度のものを用いる。またこれを数枚重ねてもよい。
一方高透磁率フエライ1〜板の厚みは特に規定するもの
ではないが、一つのブロックから多数の磁気ヘッドを得
るために0.2〜’Inn′PAにするとよい。接着材
1才金属磁性簿帯面および高透磁率71541〜面の少
なくとも一方の面にガラス膜を約0.2〜0.5庫スパ
ツタし、積層して後加圧して加熱10− しながら接着して複合ブロック素体1−剣を得た。
ではないが、一つのブロックから多数の磁気ヘッドを得
るために0.2〜’Inn′PAにするとよい。接着材
1才金属磁性簿帯面および高透磁率71541〜面の少
なくとも一方の面にガラス膜を約0.2〜0.5庫スパ
ツタし、積層して後加圧して加熱10− しながら接着して複合ブロック素体1−剣を得た。
本発明の第2の実施の態様においてはまず、第4図に示
すごとく、複合ブロック素体ルを構成する。該複合ブロ
ック素体は金属磁性薄帯14を高透磁率フェライ1−1
5で挟み磁気へラドコアの1組とし、その両側面をセラ
ミックスブロック9で挟み補強材とした。これを交互に
重ね合せ複合ブロック素体16に得る。該金属磁性薄帯
14と高透磁率磁性フェライト150組を数絹重ねた後
セラミックスブロック9に挟み込んでもよい。なお、2
組以上の場合は金属磁性薄帯に隣接する高透磁率フェラ
イトは互いに共用できるので、該金属磁性薄帯と高透磁
率磁性フェライトと交互に積層し、最初と最後が高透磁
率フェライ1−となるようにすればよい。補強用ブロッ
クの厚みは2mm以−ヒにしておくとよいが、あまり厚
くすると1ブロツクからの取れるヘッドの数が少なくな
るので数ミリメートル前後にしておくとよい。ただし、
両端部の補強ブロックはその限りではない。セラミック
スブロック部はガラスでもよく、またフェライトでもよ
い。
すごとく、複合ブロック素体ルを構成する。該複合ブロ
ック素体は金属磁性薄帯14を高透磁率フェライ1−1
5で挟み磁気へラドコアの1組とし、その両側面をセラ
ミックスブロック9で挟み補強材とした。これを交互に
重ね合せ複合ブロック素体16に得る。該金属磁性薄帯
14と高透磁率磁性フェライト150組を数絹重ねた後
セラミックスブロック9に挟み込んでもよい。なお、2
組以上の場合は金属磁性薄帯に隣接する高透磁率フェラ
イトは互いに共用できるので、該金属磁性薄帯と高透磁
率磁性フェライトと交互に積層し、最初と最後が高透磁
率フェライ1−となるようにすればよい。補強用ブロッ
クの厚みは2mm以−ヒにしておくとよいが、あまり厚
くすると1ブロツクからの取れるヘッドの数が少なくな
るので数ミリメートル前後にしておくとよい。ただし、
両端部の補強ブロックはその限りではない。セラミック
スブロック部はガラスでもよく、またフェライトでもよ
い。
場合1.こよっては高透磁率磁性フェライ1へ15と同
一にしてもよい。
一にしてもよい。
本発明の第3の実施の態様においては、第5図に示すご
とく、金属磁性薄帯14(例えば、S j、、5Aa6
oFe845)と高透磁率磁性フェライI〜]5(例え
ば、Fe2O,:53モル%、Mn:28モル%、Zn
O:19モル%の焼結体)をガラス膜を介して交互に積
層し、凹溝部はガラス設置して後、加熱、加圧しながら
、素体ブロック17を得た。ここで用いたガラスはZn
O:27重量%、5jO2:2(1重量%、他にNa2
O、K2O、AQ203、PbO,B20.、RaOを
含み、軟化温度;500〜600℃、熱膨張係数;85
〜100 X 10−7/ ℃である。積層面のガラス
膜はスパッタ法によって形成し、補強材18には板状の
ガラスを用いた。ガラス材は双方同種のものを用いても
よく、異なったものでもよい。この場合、主として補強
は両側面の補強材18によって保たれるが、場合によっ
てはさらに数個所に設けることも可能である。
とく、金属磁性薄帯14(例えば、S j、、5Aa6
oFe845)と高透磁率磁性フェライI〜]5(例え
ば、Fe2O,:53モル%、Mn:28モル%、Zn
O:19モル%の焼結体)をガラス膜を介して交互に積
層し、凹溝部はガラス設置して後、加熱、加圧しながら
、素体ブロック17を得た。ここで用いたガラスはZn
O:27重量%、5jO2:2(1重量%、他にNa2
O、K2O、AQ203、PbO,B20.、RaOを
含み、軟化温度;500〜600℃、熱膨張係数;85
〜100 X 10−7/ ℃である。積層面のガラス
膜はスパッタ法によって形成し、補強材18には板状の
ガラスを用いた。ガラス材は双方同種のものを用いても
よく、異なったものでもよい。この場合、主として補強
は両側面の補強材18によって保たれるが、場合によっ
てはさらに数個所に設けることも可能である。
本発明の第4の実施の態様においては、第6図11−
に示すごとく、補強ブロック20を凹溝に挿入し、補強
材18によって固定することによってさらに補強効果を
増すことができる。本実施例では金属磁性薄帯14とし
て非晶質合金(例えばFe5Co□。
材18によって固定することによってさらに補強効果を
増すことができる。本実施例では金属磁性薄帯14とし
て非晶質合金(例えばFe5Co□。
S]xsBto)を用い、高透磁率磁性フェライト15
として前記Mn−Znフェライトを用いた。この場合、
積層した素体ブロック19を得る熱処理温度は前記非晶
質合金の結晶化温度(約480℃)以下にする必要があ
り、補強材18および、積層面のガラス膜は低軟化点(
300〜400°C)のpb系ガラスが用いられる。ま
た、樹脂や無機接着材でも可能であり、ガラスと樹脂を
併用してもよい。補強ブロック20はガラス、フェライ
ト、セラミックスなどの硬質、高融点のものが用いられ
、好ましくは熱膨張係数が前記Mn−Znフェライトに
近いものがよい(例えば、90〜110 X 10−7
/ ℃)。なお第7図は補強部を3個所に設けた複合ブ
ロック素体旦を示す。
として前記Mn−Znフェライトを用いた。この場合、
積層した素体ブロック19を得る熱処理温度は前記非晶
質合金の結晶化温度(約480℃)以下にする必要があ
り、補強材18および、積層面のガラス膜は低軟化点(
300〜400°C)のpb系ガラスが用いられる。ま
た、樹脂や無機接着材でも可能であり、ガラスと樹脂を
併用してもよい。補強ブロック20はガラス、フェライ
ト、セラミックスなどの硬質、高融点のものが用いられ
、好ましくは熱膨張係数が前記Mn−Znフェライトに
近いものがよい(例えば、90〜110 X 10−7
/ ℃)。なお第7図は補強部を3個所に設けた複合ブ
ロック素体旦を示す。
本発明の第5の実施の態様においては、第8図に示すご
とく、補強ブロック23を積層体の両側面にあてがい、
補強材18によって接合した素体プロ=13− 12− ツクUを得る。補強材18は接触面に予め塗っておいて
もよく、特に溝を設けて補強することを限定するもので
はない。その他金属磁性薄帯14および高透磁率磁性フ
ェライト15の材質および構成は前記実施例と同様にし
て行なわれる。なお、本実施の態様における補強は複合
ブロックの底面に補強ブロックを設けてもよく、側面と
底面にそれぞれ設けてもよい。
とく、補強ブロック23を積層体の両側面にあてがい、
補強材18によって接合した素体プロ=13− 12− ツクUを得る。補強材18は接触面に予め塗っておいて
もよく、特に溝を設けて補強することを限定するもので
はない。その他金属磁性薄帯14および高透磁率磁性フ
ェライト15の材質および構成は前記実施例と同様にし
て行なわれる。なお、本実施の態様における補強は複合
ブロックの底面に補強ブロックを設けてもよく、側面と
底面にそれぞれ設けてもよい。
つぎに、本発明による素体ブロックを用いた複合型磁気
ヘッドの製造方法について、第6図に示す実施例を使っ
て以下に示す。第9図(a)から(g)までは複合ヘッ
ドの作製工程の一例を示す工程図である。
ヘッドの製造方法について、第6図に示す実施例を使っ
て以下に示す。第9図(a)から(g)までは複合ヘッ
ドの作製工程の一例を示す工程図である。
第9図(a)は各部品を斜視図で示す。左からそれぞれ
金属磁性薄帯(非晶質合金)14、高透磁率磁性フェラ
イト(Mn−Znnフタイ1−)15、補強ブロック(
Mn−Znフェライト)20、補強材(pb系ガラス)
18で、30および31は補強用凹溝である。
金属磁性薄帯(非晶質合金)14、高透磁率磁性フェラ
イト(Mn−Znnフタイ1−)15、補強ブロック(
Mn−Znフェライト)20、補強材(pb系ガラス)
18で、30および31は補強用凹溝である。
前記金属磁性薄帯の厚みは20庫のトラック幅を〜14
− 持つ磁気ヘッドを作る場合、少なくとも20摩以−にの
ものを用いるのがよい。好ましくは20〜50 ltm
のものを用いるのがよい。これを余り厚くすると、高周
波における過電流損失が大きくなり好ましくない。また
、これを数枚絶縁性の接着材を介して貼り合わせたもの
を用いてもよい。なお、l−ラック幅よりも薄い金属磁
性薄帯を用い、l〜ラック部が数枚の金属磁性薄帯から
なるようにすると重ね合せ部が作動ギャップ部に表われ
、ギャップ長精度が得られない欠点を持つ。
− 持つ磁気ヘッドを作る場合、少なくとも20摩以−にの
ものを用いるのがよい。好ましくは20〜50 ltm
のものを用いるのがよい。これを余り厚くすると、高周
波における過電流損失が大きくなり好ましくない。また
、これを数枚絶縁性の接着材を介して貼り合わせたもの
を用いてもよい。なお、l−ラック幅よりも薄い金属磁
性薄帯を用い、l〜ラック部が数枚の金属磁性薄帯から
なるようにすると重ね合せ部が作動ギャップ部に表われ
、ギャップ長精度が得られない欠点を持つ。
一方、前記高透磁率磁性フェライトの最小厚みとしては
、金属磁性薄帯を両側から挟むようにしたとき、最終的
にコア幅分だけ必要となるから、コア幅を150pmと
する場合、207mの金属磁性薄帯を用いると、130
7mとなり、コア切断砥石厚分を含めると150〜20
0庫となる。生産性などを考慮にいれると200〜50
07zn+程度が好ましい。
、金属磁性薄帯を両側から挟むようにしたとき、最終的
にコア幅分だけ必要となるから、コア幅を150pmと
する場合、207mの金属磁性薄帯を用いると、130
7mとなり、コア切断砥石厚分を含めると150〜20
0庫となる。生産性などを考慮にいれると200〜50
07zn+程度が好ましい。
ここで、金属磁性薄帯14および高透磁率磁性フェライ
1−15の表面32.33に低軟化点のpb系ガラスを
スパッタによって0.2〜0.5岬の膜を形成する。
1−15の表面32.33に低軟化点のpb系ガラスを
スパッタによって0.2〜0.5岬の膜を形成する。
場合によっては両面に形成してもよい。このように準備
された部品を第9図(b)に示す構成で組み合せ、積層
方向に加圧しながら加熱して、補強材を軟化あるいは溶
融して素体ブロックUを得る。
された部品を第9図(b)に示す構成で組み合せ、積層
方向に加圧しながら加熱して、補強材を軟化あるいは溶
融して素体ブロックUを得る。
勿論、非晶質材を用いる場合には、その結晶化温度以下
で加熱され、Fe An Si系のセンダストならば6
00〜700℃の加熱が可能である。また、接着補強材
としては樹脂や無機接着材でも十分補強効果を持つこと
ができる。このように接着固定された素体ブロックJ−
0を、第9図(c)に示すように、一点鎖線34に沿っ
て切断分割し、一対の磁気ヘッド複合ブロックとする。
で加熱され、Fe An Si系のセンダストならば6
00〜700℃の加熱が可能である。また、接着補強材
としては樹脂や無機接着材でも十分補強効果を持つこと
ができる。このように接着固定された素体ブロックJ−
0を、第9図(c)に示すように、一点鎖線34に沿っ
て切断分割し、一対の磁気ヘッド複合ブロックとする。
ついで分割面は将来磁気ヘッドのギャップ突合せ面とな
るので、鏡面研摩しておく。該一対の複合ブロック35
.36には第9図(d)のごとく、少なくとも一方の複
合ブロックのギャップ突合せ面にコイル巻線溝37を形
成し、磁気ヘッドの後部に補強材充填溝38.39を形
成する。この補強材溝はどちらか一方に形成しても、両
方に形成してもよい。つぎに、第9図(e)に示すごと
く、磁気へラドの先端部となるフェライト部に切溝40
、旧を設ける。切溝は少なくとも作動ギャップ部が実質
的に金属磁性薄帯で構成されるように形成される。
るので、鏡面研摩しておく。該一対の複合ブロック35
.36には第9図(d)のごとく、少なくとも一方の複
合ブロックのギャップ突合せ面にコイル巻線溝37を形
成し、磁気ヘッドの後部に補強材充填溝38.39を形
成する。この補強材溝はどちらか一方に形成しても、両
方に形成してもよい。つぎに、第9図(e)に示すごと
く、磁気へラドの先端部となるフェライト部に切溝40
、旧を設ける。切溝は少なくとも作動ギャップ部が実質
的に金属磁性薄帯で構成されるように形成される。
切溝の残部(金属磁性薄帯からなる)は磁気ヘッドの1
〜ラック幅となる。したがって、トラック幅によっては
金属磁性薄帯部まで切り込んでもよい。
〜ラック幅となる。したがって、トラック幅によっては
金属磁性薄帯部まで切り込んでもよい。
つぎに、少なくとも作動ギャップ部となる面の少なくと
も一方の複合ブロックにギャップ規制材となる非磁性材
膜(例えばガラス)を形成する。
も一方の複合ブロックにギャップ規制材となる非磁性材
膜(例えばガラス)を形成する。
このようにして得られた一対の複合ブロック35および
36を第9図(f)に示すごとく突き合わせ、前記切溝
40、旧の突合せ部ならびに補強材充填溝38.39の
突合せ部に充填材42.43を充填して、結合ブロック
Uを得る。補強充填材には低軟化点ガラス、樹脂、ある
いは無機接着材が用いられる。
36を第9図(f)に示すごとく突き合わせ、前記切溝
40、旧の突合せ部ならびに補強材充填溝38.39の
突合せ部に充填材42.43を充填して、結合ブロック
Uを得る。補強充填材には低軟化点ガラス、樹脂、ある
いは無機接着材が用いられる。
一対の複合ブロック35.36は互いの金属磁性薄帯が
精度良く突き合わされるように位置合せされる必要があ
る。図中46はコイル巻線窓である。
精度良く突き合わされるように位置合せされる必要があ
る。図中46はコイル巻線窓である。
つぎに、第9図(g)に示すごとく、充填材42の中央
を少なくともフェライト部を残してコア幅17− Tuに一点鎖線45に沿って切断し、所定の形状にした
がってテープ摺動面を研摩し、複数個の複合型磁気へラ
ドコアを得る。第10図はこのようにして得られた複合
型磁気ヘッドコア50を示し、これ薄帯14を高透磁率
磁性フエライ1−で挟むごとく構成されており、該金属
磁性薄帯と高透磁率磁性フェライ1−の接合を補強材2
0あるいはこれに類する本発明の手法によって補強され
てなる。なお、最終的には他の充填材42.43が形成
された時点で補強材20を取り除いてもよく、残してお
いても磁気特性には影響しない。磁気ヘットの作製工程
において、作製工程の順序は特に規定するものではなく
、例えば、金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライトの積
層と補強を同時に行なってもよく、積層後補強を行なっ
てもよい。
を少なくともフェライト部を残してコア幅17− Tuに一点鎖線45に沿って切断し、所定の形状にした
がってテープ摺動面を研摩し、複数個の複合型磁気へラ
ドコアを得る。第10図はこのようにして得られた複合
型磁気ヘッドコア50を示し、これ薄帯14を高透磁率
磁性フエライ1−で挟むごとく構成されており、該金属
磁性薄帯と高透磁率磁性フェライ1−の接合を補強材2
0あるいはこれに類する本発明の手法によって補強され
てなる。なお、最終的には他の充填材42.43が形成
された時点で補強材20を取り除いてもよく、残してお
いても磁気特性には影響しない。磁気ヘットの作製工程
において、作製工程の順序は特に規定するものではなく
、例えば、金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライトの積
層と補強を同時に行なってもよく、積層後補強を行なっ
てもよい。
なお、本発明の他の素体ブロックを用いても同様類似の
方法によって複合型磁気ヘッドを得ることができる。
方法によって複合型磁気ヘッドを得ることができる。
−18=
第1図は従来の金属磁性薄帯から作製される積層ブロッ
クを示す斜視図、第2図は第1図に示すブロックから得
られる従来の積層型へラドコアの斜視図、第3図、第4
図、第5図、第6図、第7図、第8図は本発明の複合型
磁気ヘッドを得るための素体ブロックの斜視図、第9図
は本発明による磁気ヘッドの製造方法における製造工程
の一実施例を示す工程図、第10図は本発明によって得
られた複合型磁気ヘッドの一例を示す磁気へラドコアの
斜視図である。 9・セラミックスブロック 10・・・金属磁性薄帯片 11・・・素体ブロック1
2・・積層型磁気ヘッド 封、耳、17= −]−9,71,22−=複合ブロッ
ク素体14・・・金属磁性薄帯 15・・・高透磁率磁性フェライト 18・・・補強材 20・・・補強ブロック30.31
・・・補強用溝 32.33・・・高透磁率磁性フェライトの表面34.
45・・切断線を示す一点鎖線 35.36・磁気ヘッド複合ブロック 37・・・コイル巻線溝 38.39・・・補強材充填
溝40.41・ トラック幅規制用切溝 42.43 補強充填材 44・・・結合ブロック46
・・・コイル巻線窓 50・・複合型磁気ヘラ1くコア 代理人弁理士 中村 純之助 γソ 凶 td+ (子) (曾) 才10図 − 43コU 第1頁の続き 0発 明 者 藤 原 英 夫 国分寺市東汐央研究所
内
クを示す斜視図、第2図は第1図に示すブロックから得
られる従来の積層型へラドコアの斜視図、第3図、第4
図、第5図、第6図、第7図、第8図は本発明の複合型
磁気ヘッドを得るための素体ブロックの斜視図、第9図
は本発明による磁気ヘッドの製造方法における製造工程
の一実施例を示す工程図、第10図は本発明によって得
られた複合型磁気ヘッドの一例を示す磁気へラドコアの
斜視図である。 9・セラミックスブロック 10・・・金属磁性薄帯片 11・・・素体ブロック1
2・・積層型磁気ヘッド 封、耳、17= −]−9,71,22−=複合ブロッ
ク素体14・・・金属磁性薄帯 15・・・高透磁率磁性フェライト 18・・・補強材 20・・・補強ブロック30.31
・・・補強用溝 32.33・・・高透磁率磁性フェライトの表面34.
45・・切断線を示す一点鎖線 35.36・磁気ヘッド複合ブロック 37・・・コイル巻線溝 38.39・・・補強材充填
溝40.41・ トラック幅規制用切溝 42.43 補強充填材 44・・・結合ブロック46
・・・コイル巻線窓 50・・複合型磁気ヘラ1くコア 代理人弁理士 中村 純之助 γソ 凶 td+ (子) (曾) 才10図 − 43コU 第1頁の続き 0発 明 者 藤 原 英 夫 国分寺市東汐央研究所
内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)少なくともトラック幅の厚みを有する金属磁性薄
帯を高透磁率磁性フェライトで挟むごとく一体化してな
る1対の磁気へラドコア半休が少なくとも作動ギャップ
形成部において非磁性層を介して互いに突き合わされる
とともに、一体化されてなる複合型磁気ヘットの製造方
法において、少なくとも1枚の前記金属磁性薄帯と前記
高透磁率磁性フェライトの板を交互に複数枚重ね合せ接
着材にて接合してなる複合ブロックの素体がら形成され
ることを特徴とする複合型磁気ヘッドの製造方法。 (2、特許請求の範囲第1項記載の複合型磁気ヘッドの
製造方法において、接着材を介して積層された前記金属
磁性薄帯と高透磁率磁性フェライトの両端面に、もしく
は該両端面の他に該金属磁性薄帯を2枚の高透磁率磁性
フエライ1〜で挟んだ単 1− 位を1絹とする組と絹の間ごとに、もしくは数組単位の
間ごとに補強用ブロックを接合してなる複合ブロックの
素体から形成されることを特徴とする複合型磁気ヘッド
の製造方法。 (3)特許請求の範囲第1項記載の複合型磁気ヘッドの
製造方法において、該複合型磁気ヘッドの少なくとも側
面もしくは底面となる部分もしくはその両面に凹溝を有
する前記金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライトを接着
材を介して積層し、該凹溝に接着材を充填補強してなる
複合ブロックの素体から形成されることを特徴とする複
合型磁気ヘッドの製造方法。 (4)特許請求の範囲第1項記載の複合型磁気ヘッドの
製造方法において、該複合型磁気ヘラ1くの少なくとも
側面もしくは底面となる部分もしくはその両面に凹溝を
有する前記金属磁性薄帯と高透磁率磁性フェライトを接
着材を介して積層し、該凹溝に接着材の代りに補強用ブ
ロックを埋込み、これを接着材によって固定してなる複
合ブロックの素体から形成されることを特徴とする複合
型磁=2− 気ヘッドの製造方法。 (5)特許請求の範囲第1項記載の複合型磁気ヘッドの
製造方法において、接着材を介して積層された前記金属
磁性薄帯と高透磁率磁性フェライi〜の側面もしくは底
面もしくはその両面に補強用ブロックをあてがい接着材
によって固定してなる複合ブロックの素体から形成され
ることを特徴とする複合型磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13913284A JPS6040513A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 複合型磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13913284A JPS6040513A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 複合型磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6040513A true JPS6040513A (ja) | 1985-03-02 |
Family
ID=15238271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13913284A Pending JPS6040513A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 複合型磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6040513A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0435210U (ja) * | 1990-07-23 | 1992-03-24 | ||
JPH0630904U (ja) * | 1992-04-20 | 1994-04-22 | 株式会社トーキン | 磁気ヘッドコア |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP13913284A patent/JPS6040513A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0435210U (ja) * | 1990-07-23 | 1992-03-24 | ||
JPH0630904U (ja) * | 1992-04-20 | 1994-04-22 | 株式会社トーキン | 磁気ヘッドコア |
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