JPS58132458A - 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置 - Google Patents
硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置Info
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- JPS58132458A JPS58132458A JP57010623A JP1062382A JPS58132458A JP S58132458 A JPS58132458 A JP S58132458A JP 57010623 A JP57010623 A JP 57010623A JP 1062382 A JP1062382 A JP 1062382A JP S58132458 A JPS58132458 A JP S58132458A
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- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は硬脆材料基板の平面研磨方法、特に平面特性
に優れたガラス基板を片面づつ仕上げる平面研磨方法及
びそのための研磨装置に関する。
に優れたガラス基板を片面づつ仕上げる平面研磨方法及
びそのための研磨装置に関する。
従来上記硬脆材料基板、特にガラス基板の片面研磨にお
いては、第３図ないし第、４図に示すように、荒ズリし
た硬脆材料基板すなわちガラス基板１０を接着剤、２Ａ
でプレッシャープレートｅ２．５に接着して荷重を加え
、定盤、、２７を回転する二とによりその摩擦力でプレ
ッシャープレート、２．５定盤λ７上において自転させ
１片面研磨をする。研磨した後、ガラス基板１０をプレ
ッシャープレート、２．５から接着剤−？乙を溶かして
剥離し、次に研磨し終った面に接着剤−２乙を塗布して
プレッシャープレート＝２，５面に接着して上述の片面
研磨と同じ。
いては、第３図ないし第、４図に示すように、荒ズリし
た硬脆材料基板すなわちガラス基板１０を接着剤、２Ａ
でプレッシャープレートｅ２．５に接着して荷重を加え
、定盤、、２７を回転する二とによりその摩擦力でプレ
ッシャープレート、２．５定盤λ７上において自転させ
１片面研磨をする。研磨した後、ガラス基板１０をプレ
ッシャープレート、２．５から接着剤−？乙を溶かして
剥離し、次に研磨し終った面に接着剤−２乙を塗布して
プレッシャープレート＝２，５面に接着して上述の片面
研磨と同じ。
工程をとって片面づつ研磨する方法がある。また第５図
ないし第６図において定盤、２７上にリングＪＯｔｔｒ
ｌさ、このリングＪｏ内にガラス保持シート３．２を介
して荒ズリしたガラス基板１０を収容して保持し、プレ
ッシャープレート３／により荷重を加えて片面づつ研磨
する方法もある。
ないし第６図において定盤、２７上にリングＪＯｔｔｒ
ｌさ、このリングＪｏ内にガラス保持シート３．２を介
して荒ズリしたガラス基板１０を収容して保持し、プレ
ッシャープレート３／により荷重を加えて片面づつ研磨
する方法もある。
上記従来の平面研磨方法においては、ガラス基板の保持
方法として第３図の接着方法及び第５図のキャリアによ
る保持方法が採用されている。
方法として第３図の接着方法及び第５図のキャリアによ
る保持方法が採用されている。
二の場合第３図のように接着剤によりガラス基板を保持
する方法においては、研磨中は接着剤によりプレッシャ
ープレートに固定されておりトワイマン効果は生じない
が、接着剤を剥がした状態においては表面層の圧縮応力
バランスを失ってトワイマン効果が生じ、トワイマン効
果の生じたガラス基板をプレッシャープレート面に密着
するよう加圧状態で矯正接着することは、接着剤の均一
な膜厚、接着剤が溶融してから固化するまでの時間等の
要因を考えるならば非常に困難であり、かっ一連の作業
工程において接着剤によりカラス基板をプレッシャープ
レートに貼り付けまた剥がすのに加熱するので作業効率
が悪く、結局面精度の良いガラス基板を得るのは不可能
であった。
する方法においては、研磨中は接着剤によりプレッシャ
ープレートに固定されておりトワイマン効果は生じない
が、接着剤を剥がした状態においては表面層の圧縮応力
バランスを失ってトワイマン効果が生じ、トワイマン効
果の生じたガラス基板をプレッシャープレート面に密着
するよう加圧状態で矯正接着することは、接着剤の均一
な膜厚、接着剤が溶融してから固化するまでの時間等の
要因を考えるならば非常に困難であり、かっ一連の作業
工程において接着剤によりカラス基板をプレッシャープ
レートに貼り付けまた剥がすのに加熱するので作業効率
が悪く、結局面精度の良いガラス基板を得るのは不可能
であった。
また第５図のキャリアによる保持においては、操作は簡
単であるがトワイマン効果が生じて面精度が悪く、この
欠点の除去は不可能である。
単であるがトワイマン効果が生じて面精度が悪く、この
欠点の除去は不可能である。
なお参考までに従来例（イ、口）の工程を下記に詳細に
示す。
示す。
イ
〔１）片面研磨
ｌ）キャリアによる荒ズリしたガラス基板の保持
２）プレッシャープレートによる荷重を伴う片面研磨（
トワイマン効果） 〔２〕他面研磨 １）ガラス基板の裏返し ２）上記と同様の研磨（トワイマン効果）口 〔１〕片面研磨 １）プレッシャープレートへの接着によるガラス基板の
保持 ２）プレッシャープレートによる荷重を伴う片面研磨 〔２〕他面研磨 ■）接着部分の剥離（トワイマン効果）２）プレッシャ
ープレートへのガラス基板他面の接着 ３）プレッシャープレートによる荷重を伴う他面研磨 ４）接着部分の剥離（トワイマン効果）なお従来例にお
いて片面づつ研磨した場合にトワイマン効果により生じ
る面精度の変化は、第１図に示したとおりＡ −） Ｂ
である（命中 治著 機械の研究第１９巻第１２号第１
６２４頁）。
トワイマン効果） 〔２〕他面研磨 １）ガラス基板の裏返し ２）上記と同様の研磨（トワイマン効果）口 〔１〕片面研磨 １）プレッシャープレートへの接着によるガラス基板の
保持 ２）プレッシャープレートによる荷重を伴う片面研磨 〔２〕他面研磨 ■）接着部分の剥離（トワイマン効果）２）プレッシャ
ープレートへのガラス基板他面の接着 ３）プレッシャープレートによる荷重を伴う他面研磨 ４）接着部分の剥離（トワイマン効果）なお従来例にお
いて片面づつ研磨した場合にトワイマン効果により生じ
る面精度の変化は、第１図に示したとおりＡ −） Ｂ
である（命中 治著 機械の研究第１９巻第１２号第１
６２４頁）。
本発明の硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置は従
来の上記欠点を解消せんとするもので、真空吸着により
硬脆材料基板を取り付は面に固着し、片面研磨によりト
ワイマン効果の生じた硬脆材料基板を矯正しながら仕上
げ研磨を行うことを特徴とするものである。
来の上記欠点を解消せんとするもので、真空吸着により
硬脆材料基板を取り付は面に固着し、片面研磨によりト
ワイマン効果の生じた硬脆材料基板を矯正しながら仕上
げ研磨を行うことを特徴とするものである。
本発明の基本原理を説明すると、第２図りに示すように
、荒ズリしたガラス基板ｌの片面を仕上げ研磨し、次工
程には入るためにガラス基板／を脱離するとトワイマン
効果により仕上げ研磨面が凹面−となる。次にＥに示す
ように、二の仕上げ研磨面を平面特性の優れた吸着面で
真空吸着して矯正し、フラットな状態３で残る他面の表
面層を上記仕上げ研磨と同一量研磨除去して両表面層の
応力バランスを保ち、トワイマン効果を現出させず、Ｆ
に示すような平面特性の優れたガラス基板を得ようとす
るものである。
、荒ズリしたガラス基板ｌの片面を仕上げ研磨し、次工
程には入るためにガラス基板／を脱離するとトワイマン
効果により仕上げ研磨面が凹面−となる。次にＥに示す
ように、二の仕上げ研磨面を平面特性の優れた吸着面で
真空吸着して矯正し、フラットな状態３で残る他面の表
面層を上記仕上げ研磨と同一量研磨除去して両表面層の
応力バランスを保ち、トワイマン効果を現出させず、Ｆ
に示すような平面特性の優れたガラス基板を得ようとす
るものである。
第７図は本発明を適用した研磨装置を示すもので、定盤
、、？７上には直径２ｏＩＩＩＩＩｌ〆のダイヤモンド
ペレットからなる固定研磨材４ｔ０が、一定の間隔（２
５ｍｍ）で植設されている。他方においてガラス基板１
０のプレッシャープレートダ／には、正確に平面特性を
向上させた（面精度１．−以下）吸着面１１．．２が形
成され、二の吸着面１１．．２には所定の溝１ｌｔＪが
穿設されて、溝ダ３は一定の間隔（直仔１．５／−）で
溝ｔＩＪ内に開口する連通孔９ＩＩを経て吸引空間ｔ１
．５及び吸引孔ダ乙を通じ「コンバム」等の真空装置に
連通している。この真空装置による吸引の一例を挙げれ
ば、ガラス基板が、厚さ０゜０９ｉｎｃｈ、縦×横の寸
法５ Ｘ ５１ｎｃｈ、荷重２００ｇ／Ｃｍ”及びフラ
ットネス上５／−以下の条件においては、２７０ｇ／Ｃ
ｌ１１２の真空圧が必要であった。
、、？７上には直径２ｏＩＩＩＩＩｌ〆のダイヤモンド
ペレットからなる固定研磨材４ｔ０が、一定の間隔（２
５ｍｍ）で植設されている。他方においてガラス基板１
０のプレッシャープレートダ／には、正確に平面特性を
向上させた（面精度１．−以下）吸着面１１．．２が形
成され、二の吸着面１１．．２には所定の溝１ｌｔＪが
穿設されて、溝ダ３は一定の間隔（直仔１．５／−）で
溝ｔＩＪ内に開口する連通孔９ＩＩを経て吸引空間ｔ１
．５及び吸引孔ダ乙を通じ「コンバム」等の真空装置に
連通している。この真空装置による吸引の一例を挙げれ
ば、ガラス基板が、厚さ０゜０９ｉｎｃｈ、縦×横の寸
法５ Ｘ ５１ｎｃｈ、荷重２００ｇ／Ｃｍ”及びフラ
ットネス上５／−以下の条件においては、２７０ｇ／Ｃ
ｌ１１２の真空圧が必要であった。
従来の平面研磨における片面づつの研磨においては、加
工条件が上述の真空吸着の場合と同一のとき、研磨時間
２分（片面８０〜１００／−研磨）ではトワイマン効果
が影響して面精度は±１５〜２５Ｐ／全面であった（参
考写真１）が、本発明の真空吸着による上述の条件下で
は、面精度は±５／−／全面以下であった（参考写真２
）。
工条件が上述の真空吸着の場合と同一のとき、研磨時間
２分（片面８０〜１００／−研磨）ではトワイマン効果
が影響して面精度は±１５〜２５Ｐ／全面であった（参
考写真１）が、本発明の真空吸着による上述の条件下で
は、面精度は±５／−／全面以下であった（参考写真２
）。
勿論本発明のような矯正目的での真空吸着においても、
他の手段を用いることなく研磨工程中ガラス基板を強固
に保持しておくことができる。
他の手段を用いることなく研磨工程中ガラス基板を強固
に保持しておくことができる。
本発明は固定砥粒を用いた片面づつの研磨における。平
面特性に優れ、かつ自動化に適したガラス基板の研磨方
法及び研磨装置である。すなわちダイヤモンドペレット
からなる研磨皿もしくは吸着面に倣い、機械的精度はこ
れらの平面特性が優れていれば、他の部分において必要
とされないこと、また荒ズリしたガラス基板表面を順次
投入することによりダイヤモンドペレット面が荒ズリし
たガラス基板により常にセルフドレッシングされ。
面特性に優れ、かつ自動化に適したガラス基板の研磨方
法及び研磨装置である。すなわちダイヤモンドペレット
からなる研磨皿もしくは吸着面に倣い、機械的精度はこ
れらの平面特性が優れていれば、他の部分において必要
とされないこと、また荒ズリしたガラス基板表面を順次
投入することによりダイヤモンドペレット面が荒ズリし
たガラス基板により常にセルフドレッシングされ。
かつ一定の加工条件下ではガラス基板表面が一定量研磨
されることを利用して、高精度の平面特性を有する吸着
面でガラス基板を真空吸着し、片面づつ仕上げ研磨する
。よって表面粗さくクラック層の深さ）によって生じる
応力バランスを矯正し、トワイマン効果を防ぎつつより
精度の高い平面特性を有するガラス基板を得る二とがで
きる。
されることを利用して、高精度の平面特性を有する吸着
面でガラス基板を真空吸着し、片面づつ仕上げ研磨する
。よって表面粗さくクラック層の深さ）によって生じる
応力バランスを矯正し、トワイマン効果を防ぎつつより
精度の高い平面特性を有するガラス基板を得る二とがで
きる。
本発明は以上のように構成したので、均一な平行平面を
有し、平面特性の優れた硬脆材料基板の研磨において、
高精度の平面特性を有しかつ自動化に適した研磨工程を
採用することができ硬脆材料基板、特にガラス基板を効
率良く研磨することがで゛さる。
有し、平面特性の優れた硬脆材料基板の研磨において、
高精度の平面特性を有しかつ自動化に適した研磨工程を
採用することができ硬脆材料基板、特にガラス基板を効
率良く研磨することがで゛さる。
第１図Ａ−Ｂ及び第２図Ｄ−Ｆはそれぞれ従来例と本発
明との処理工程におけるガラス基板の状態を示す断面図
、第３図及び第４図は従来用いられている研磨方法を示
すそれぞれ断面図及び平面図、第５図及び第６図は従来
の他の例を示すそれぞれ断面図及び平面図、また第７図
は本発明を適用した研磨装置の断面図である。また参考
写真１は従来例で得たガラス基板の面精度を、参考写真
２は本発明で得たガラス基板の面精度をそれぞれ示す干
渉計写真である。 １０ ガラス基板 、、２．ｓ プレッシャープレート コ乙 接着剤 、２７ 定盤 −８研磨剤 ３０ リング ３．２ ガラス保持プレート ３／、ダ／ プレッシャープレート ｔｐｔｏ 固定研磨材 ｌＩ、２ 吸着面ダ３ 溝
１ＩｔＩ 連通孔ダｊ 吸引空間
ダ６ 吸引孔 晃１図 Ａ ３ 虱２図 ［） Ｅ Ｆ＄５図 ％５図 １ｊ＆１６図 虱７０ 手続補正書（０刷 （） 昭和５７年 ５８１７日昭和５
７年特 許 願第１０６２３号 ２ 発明の名称 硬脆材料端板の平面研磨方法及び研磨装置性 所 山
梨県北巨摩郡長板町中丸３２８０番地氏 名（名称）
株式会社 保谷電子４ 代押人 刊囲 手続補正書（昼） 昭和５７年特 許 願第１０６２３号 ２ 発明の名称 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置氏 名（名称
） 株式会社 保谷電子明細書 １、発明の名称 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置２、特許請求
の範囲 １、荒ズリされた硬脆材料基板の片面を、仕上げ研磨し
、脱離した状態で応力バランスを失って凹面となった仕
上げ研磨面を高精度を有する吸着面に矯正吸着し、フラ
ットな状態で他面を仕上げ研磨することを特徴とする硬
脆材料基板の平面研磨方法 ２、荒ズリされた硬脆材料基板は表面大きさに比べ肉厚
の薄い、いわゆる形状比の小さい基板である特許請求の
範囲第１項記載の硬脆材料基板の平面研磨方法 ３、荒ズリされた硬脆材料基板は平行平面形状である特
許請求の範囲第１項または第２項記載の硬脆材料基板の
平面研磨方法。 ４゜荒ズリされた硬脆材料基板はガラス板である特許請
求の範囲第１項、第２項または第３項記載の硬脆材料基
板の平面研磨方法。 ５、定盤にダイヤモンドペレットを植設してなる平面特
性の優れた研磨皿と、この研磨皿と対向して被研磨材で
ある硬脆材料基板を矯正吸着するための、平面特性に優
れた吸着面を形成した硬脆材料基板の保持面とを有する
ことを特徴とする硬脆材料基板の平面研磨装置。 ３、発明の詳細な説明 この発明は硬脆材料基板の平面研磨方法に関し、特に平
面特性に優れたガラス基板を片面づつ仕」二げる平面研
磨方法、及びそのための研磨装置に関する。 従来上記硬脆材料基板、特にガラス基板の片面研磨にお
いては、第３図ないし第４図に示すように、荒ズリした
硬脆材料基板すなわちガラス基板１０を接着剤ｄ乙でプ
レッシャープレート、、２．５に接着して荷重を加え、
定盤、２２を回転することによりその摩擦力でプレッシ
ャープレート、２．５定盤、２７上において自転させ、
片面研磨をする。研磨した後、ガラス基板１０をプレッ
シャープレー１−−ｊから接着剤、２乙を溶がして剥離
し、次に研磨し終った面に接着剤、、２Ａを塗布してプ
レッシャープレート、２，５面に接着して上述の片面研
磨と同じ工程をとって片面づつ研磨する方法がある。ま
た第５図ないし第６図において定盤、、２７上にリング
３０を置き、このリング３０内にガラス保持シート３．
２を介して荒ズリしたガラス基板１０を収容して保持し
、プレッシャープレート３／により荷重を加えて片面づ
つ研磨する方法もある。 上記従来の平面研磨方法においては、ガラス基板の保持
方法として第３図の接着方法及び第５図のキャリアによ
る保持方法が採用されている。 この場合第３図のように接着剤によりガラス基板を保持
する方法においては、研磨中は接着剤によりプレッシャ
ープレートに固定されておリトワイマン効果は生じない
が、接着剤を剥がした状態においては表面層の圧縮応力
バランスを失ってトワイマン効果が生じ、トワイマン効
果の生じたガラス基板をプレッシャープレート面に密看
するよう加圧状態で矯正接着することは、接着剤の均一
な膜厚、接着剤が溶融してから固化するまでの時間等の
要因を考えるならば非常に困難であり、かつ一連の作業
工程において接着剤によりガラス基板をプレッシャープ
レートに貼り付けまた剥がすのに加熱するので作業効率
が悪く、結局面精度の良いガラス基板を得るのは不可能
であった。 また第５図のキャリアによる保持においては。 操作は簡単であるがトワイマン効果が生じて面精度が悪
く、この欠点の除去は不可能である。 なお参考までに従来例（４１口）の工程を下記に詳細に
示す。 〈イ〉 ［１］片面研磨 ■）キャリアによる荒ズリしたガラス基板の保持 ２）プレッシャープレートによる荷重を伴う片面研磨（
トワイマン効果） 〔２〕他面研磨 ■）ガラス基板の裏返し ２）上記と同様の研磨（トワイマン効果）〈口） 〔１〕片面研磨 １）プレッシャープレートへの接着によるガラス基板の
保持 ２）プレッシャープレートによる荷重を伴う片面研磨 〔２〕他面研磨 １）接着部分の剥離（トワイマン効果）２）プレッシャ
ープレートへのガラス基板他面の接着 ３）プレッシャープレートによる荷重を伴う他面研磨 ４）接着部分の剥離（トワイマン効果）なお従来例にお
いて片面づつ研磨した場合にトワイマン効果により生じ
る面精度の変化は、第１図に示したとおりＡ−＋Ｂであ
る（命中 治著 機械の研究第１９巻第１２号第１６２
４頁）。 本発明の硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置は従
来の上記欠点を解消せんとするもので、真空吸着により
硬脆材料基板を取り付は面に固着し、片面研磨によりト
ワイマン効果の生じた硬脆材料基板を矯正しながら仕上
げ研磨を行うことを特徴とするものである。 本発明の基本原理を説明すると、第２図りに示すように
、荒ズリしたガラス基板／の片面を仕上げ研磨し、次工
程には入るためにガラス基板／を脱離するとトワイマン
効果により仕上げ研磨面が凹面コとなる。次にＥに示す
ように、この仕上げ研磨面を平面特性の優れた吸着面で
真空吸着して矯正し、フラットな状態Ｊで残る他面の表
面層を上記仕上げ研磨と同一量研磨除去して両表面層の
応力バランスを保ち、トワイマン効果を現出させず、Ｆ
に示すような平面特性の優れたガラス基板を得ようとす
るものである。 第７図は本発明を適用した研磨装置を示すもので、定盤
、２７上には直径２０＋ｍ９５のダイヤモンドペレット
からなる固定研磨材４ｔｏが、一定の間隔（２５ｍｍ）
で植設されている。他方においてガラス基板１０のプレ
ッシャープレー１４／には、正確に平面特性を向上させ
た（面積度１ ／を以下）吸着面９Ｊが形成され、この
吸着面４ｔ、２には所定の溝ｌＩ３が穿設されて、溝ダ
３は一定の間隔（直径１．５％）で溝ＩＩ３内に開口す
る連通孔ダダを経て吸引空間Ｑ、５及び吸引孔ダ４を通
じ「コンｉ（ム」等の真空装置に連通している。この真
空装置による吸引の一例を挙げれば、ガラス基板が、厚
さ０゜０９ｉｎｃｈ、縦×横の寸法５ Ｘ ５１ｎｃｈ
、荷重２００ｇ／ｃ■２及びフラットネス±５−・以下
の条件におし）ては、 ２７０ｇ／ｃｍ”の真空圧が必
要であった。 従来の平面研磨における片面づつの研磨においては、加
工条件が上述の真空吸着の場合と同一のとき、研磨時間
２分（片面８０〜１００と研磨）ではトワイマン効果が
影響して面精度は±１５〜２５、−・／全面であったが
、本発明の真空吸着による上述の条件下では、面精度は
±５μ／全面以下であった。 勿論本発明のような矯正目的での真空吸着においても、
他の手段を用いることなく研磨工程中ガラス基板を強固
に保持しておくことができる。 本発明は固定砥粒を用いた片面づつの研磨における、平
面特性に優れ、かつ自動化に適したガラス基板の研磨方
法及び研磨装置である。すなわち硬脆材料基板の研磨に
おいては被研磨材は定盤とダイヤモンドペレットからな
る研磨皿もしくは吸着面に倣い、機械的精度はこれらの
平面特性が優れていれば、他の部分において必要とされ
ないこと、また荒ズリしたガラス基板表面を順次投入す
ることによりダイヤモンドペレット面が荒ズリしたガラ
ス基板により常にセルフドレッシングされ、かつ一定の
加工条件下ではガラス基板表面が一定量研磨されること
を利用して、高精度の平面特性を有する吸着面でガラス
基板を真空吸着し、片面づつ仕上げ研磨する。よって表
面粗さくクラック層の深さ）によって生じる応力バラン
スを矯正し、トワイマン効果を防ぎつつより精度の高い
平面特性を有するガラス基板を得ることができる。 本発明は以上のように構成したので均一な平行平面を有
し、平面特性の優れた硬脆材料基板の研磨において、高
精度の平面特性を有しかつ自動化に適した研磨工程を採
用することができ、硬脆材料基板、特にガラス基板を効
率良く研磨することがｚ′ｚう。 ４、図面の簡単な説明 第１１！ＩＡ−Ｂ及び第２図Ｄ−Ｆはそれぞれ従来例と
本発明との処理工程におけるガラス基板の状態を示す断
面図、第３図及び第４図は従来用いられている研磨方法
を示すそれぞれ断面図及び平面図、第５図及び第６図は
従来ρ他の例を示すそれぞれ断面図及び平面図、また第
７図は本発明を適用した研磨装置の断面図である。 １０ ガラス基板 −ｊ プレッシャープレート ２乙 接着剤 、２２ 定盤 −８研磨剤 ＪＯリング ３− ガラス保持プレート ３１．４１／ プレッシャープレートダＯ固定研磨材
ダ一 吸着面 １ＩｔＪ ｉｌ ダｑ 連通孔ダｊ 吸
引空間 ダ乙 吸引孔 特許出願人 株式会社 保谷電子 ＝４０′
明との処理工程におけるガラス基板の状態を示す断面図
、第３図及び第４図は従来用いられている研磨方法を示
すそれぞれ断面図及び平面図、第５図及び第６図は従来
の他の例を示すそれぞれ断面図及び平面図、また第７図
は本発明を適用した研磨装置の断面図である。また参考
写真１は従来例で得たガラス基板の面精度を、参考写真
２は本発明で得たガラス基板の面精度をそれぞれ示す干
渉計写真である。 １０ ガラス基板 、、２．ｓ プレッシャープレート コ乙 接着剤 、２７ 定盤 −８研磨剤 ３０ リング ３．２ ガラス保持プレート ３／、ダ／ プレッシャープレート ｔｐｔｏ 固定研磨材 ｌＩ、２ 吸着面ダ３ 溝
１ＩｔＩ 連通孔ダｊ 吸引空間
ダ６ 吸引孔 晃１図 Ａ ３ 虱２図 ［） Ｅ Ｆ＄５図 ％５図 １ｊ＆１６図 虱７０ 手続補正書（０刷 （） 昭和５７年 ５８１７日昭和５
７年特 許 願第１０６２３号 ２ 発明の名称 硬脆材料端板の平面研磨方法及び研磨装置性 所 山
梨県北巨摩郡長板町中丸３２８０番地氏 名（名称）
株式会社 保谷電子４ 代押人 刊囲 手続補正書（昼） 昭和５７年特 許 願第１０６２３号 ２ 発明の名称 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置氏 名（名称
） 株式会社 保谷電子明細書 １、発明の名称 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置２、特許請求
の範囲 １、荒ズリされた硬脆材料基板の片面を、仕上げ研磨し
、脱離した状態で応力バランスを失って凹面となった仕
上げ研磨面を高精度を有する吸着面に矯正吸着し、フラ
ットな状態で他面を仕上げ研磨することを特徴とする硬
脆材料基板の平面研磨方法 ２、荒ズリされた硬脆材料基板は表面大きさに比べ肉厚
の薄い、いわゆる形状比の小さい基板である特許請求の
範囲第１項記載の硬脆材料基板の平面研磨方法 ３、荒ズリされた硬脆材料基板は平行平面形状である特
許請求の範囲第１項または第２項記載の硬脆材料基板の
平面研磨方法。 ４゜荒ズリされた硬脆材料基板はガラス板である特許請
求の範囲第１項、第２項または第３項記載の硬脆材料基
板の平面研磨方法。 ５、定盤にダイヤモンドペレットを植設してなる平面特
性の優れた研磨皿と、この研磨皿と対向して被研磨材で
ある硬脆材料基板を矯正吸着するための、平面特性に優
れた吸着面を形成した硬脆材料基板の保持面とを有する
ことを特徴とする硬脆材料基板の平面研磨装置。 ３、発明の詳細な説明 この発明は硬脆材料基板の平面研磨方法に関し、特に平
面特性に優れたガラス基板を片面づつ仕」二げる平面研
磨方法、及びそのための研磨装置に関する。 従来上記硬脆材料基板、特にガラス基板の片面研磨にお
いては、第３図ないし第４図に示すように、荒ズリした
硬脆材料基板すなわちガラス基板１０を接着剤ｄ乙でプ
レッシャープレート、、２．５に接着して荷重を加え、
定盤、２２を回転することによりその摩擦力でプレッシ
ャープレート、２．５定盤、２７上において自転させ、
片面研磨をする。研磨した後、ガラス基板１０をプレッ
シャープレー１−−ｊから接着剤、２乙を溶がして剥離
し、次に研磨し終った面に接着剤、、２Ａを塗布してプ
レッシャープレート、２，５面に接着して上述の片面研
磨と同じ工程をとって片面づつ研磨する方法がある。ま
た第５図ないし第６図において定盤、、２７上にリング
３０を置き、このリング３０内にガラス保持シート３．
２を介して荒ズリしたガラス基板１０を収容して保持し
、プレッシャープレート３／により荷重を加えて片面づ
つ研磨する方法もある。 上記従来の平面研磨方法においては、ガラス基板の保持
方法として第３図の接着方法及び第５図のキャリアによ
る保持方法が採用されている。 この場合第３図のように接着剤によりガラス基板を保持
する方法においては、研磨中は接着剤によりプレッシャ
ープレートに固定されておリトワイマン効果は生じない
が、接着剤を剥がした状態においては表面層の圧縮応力
バランスを失ってトワイマン効果が生じ、トワイマン効
果の生じたガラス基板をプレッシャープレート面に密看
するよう加圧状態で矯正接着することは、接着剤の均一
な膜厚、接着剤が溶融してから固化するまでの時間等の
要因を考えるならば非常に困難であり、かつ一連の作業
工程において接着剤によりガラス基板をプレッシャープ
レートに貼り付けまた剥がすのに加熱するので作業効率
が悪く、結局面精度の良いガラス基板を得るのは不可能
であった。 また第５図のキャリアによる保持においては。 操作は簡単であるがトワイマン効果が生じて面精度が悪
く、この欠点の除去は不可能である。 なお参考までに従来例（４１口）の工程を下記に詳細に
示す。 〈イ〉 ［１］片面研磨 ■）キャリアによる荒ズリしたガラス基板の保持 ２）プレッシャープレートによる荷重を伴う片面研磨（
トワイマン効果） 〔２〕他面研磨 ■）ガラス基板の裏返し ２）上記と同様の研磨（トワイマン効果）〈口） 〔１〕片面研磨 １）プレッシャープレートへの接着によるガラス基板の
保持 ２）プレッシャープレートによる荷重を伴う片面研磨 〔２〕他面研磨 １）接着部分の剥離（トワイマン効果）２）プレッシャ
ープレートへのガラス基板他面の接着 ３）プレッシャープレートによる荷重を伴う他面研磨 ４）接着部分の剥離（トワイマン効果）なお従来例にお
いて片面づつ研磨した場合にトワイマン効果により生じ
る面精度の変化は、第１図に示したとおりＡ−＋Ｂであ
る（命中 治著 機械の研究第１９巻第１２号第１６２
４頁）。 本発明の硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置は従
来の上記欠点を解消せんとするもので、真空吸着により
硬脆材料基板を取り付は面に固着し、片面研磨によりト
ワイマン効果の生じた硬脆材料基板を矯正しながら仕上
げ研磨を行うことを特徴とするものである。 本発明の基本原理を説明すると、第２図りに示すように
、荒ズリしたガラス基板／の片面を仕上げ研磨し、次工
程には入るためにガラス基板／を脱離するとトワイマン
効果により仕上げ研磨面が凹面コとなる。次にＥに示す
ように、この仕上げ研磨面を平面特性の優れた吸着面で
真空吸着して矯正し、フラットな状態Ｊで残る他面の表
面層を上記仕上げ研磨と同一量研磨除去して両表面層の
応力バランスを保ち、トワイマン効果を現出させず、Ｆ
に示すような平面特性の優れたガラス基板を得ようとす
るものである。 第７図は本発明を適用した研磨装置を示すもので、定盤
、２７上には直径２０＋ｍ９５のダイヤモンドペレット
からなる固定研磨材４ｔｏが、一定の間隔（２５ｍｍ）
で植設されている。他方においてガラス基板１０のプレ
ッシャープレー１４／には、正確に平面特性を向上させ
た（面積度１ ／を以下）吸着面９Ｊが形成され、この
吸着面４ｔ、２には所定の溝ｌＩ３が穿設されて、溝ダ
３は一定の間隔（直径１．５％）で溝ＩＩ３内に開口す
る連通孔ダダを経て吸引空間Ｑ、５及び吸引孔ダ４を通
じ「コンｉ（ム」等の真空装置に連通している。この真
空装置による吸引の一例を挙げれば、ガラス基板が、厚
さ０゜０９ｉｎｃｈ、縦×横の寸法５ Ｘ ５１ｎｃｈ
、荷重２００ｇ／ｃ■２及びフラットネス±５−・以下
の条件におし）ては、 ２７０ｇ／ｃｍ”の真空圧が必
要であった。 従来の平面研磨における片面づつの研磨においては、加
工条件が上述の真空吸着の場合と同一のとき、研磨時間
２分（片面８０〜１００と研磨）ではトワイマン効果が
影響して面精度は±１５〜２５、−・／全面であったが
、本発明の真空吸着による上述の条件下では、面精度は
±５μ／全面以下であった。 勿論本発明のような矯正目的での真空吸着においても、
他の手段を用いることなく研磨工程中ガラス基板を強固
に保持しておくことができる。 本発明は固定砥粒を用いた片面づつの研磨における、平
面特性に優れ、かつ自動化に適したガラス基板の研磨方
法及び研磨装置である。すなわち硬脆材料基板の研磨に
おいては被研磨材は定盤とダイヤモンドペレットからな
る研磨皿もしくは吸着面に倣い、機械的精度はこれらの
平面特性が優れていれば、他の部分において必要とされ
ないこと、また荒ズリしたガラス基板表面を順次投入す
ることによりダイヤモンドペレット面が荒ズリしたガラ
ス基板により常にセルフドレッシングされ、かつ一定の
加工条件下ではガラス基板表面が一定量研磨されること
を利用して、高精度の平面特性を有する吸着面でガラス
基板を真空吸着し、片面づつ仕上げ研磨する。よって表
面粗さくクラック層の深さ）によって生じる応力バラン
スを矯正し、トワイマン効果を防ぎつつより精度の高い
平面特性を有するガラス基板を得ることができる。 本発明は以上のように構成したので均一な平行平面を有
し、平面特性の優れた硬脆材料基板の研磨において、高
精度の平面特性を有しかつ自動化に適した研磨工程を採
用することができ、硬脆材料基板、特にガラス基板を効
率良く研磨することがｚ′ｚう。 ４、図面の簡単な説明 第１１！ＩＡ−Ｂ及び第２図Ｄ−Ｆはそれぞれ従来例と
本発明との処理工程におけるガラス基板の状態を示す断
面図、第３図及び第４図は従来用いられている研磨方法
を示すそれぞれ断面図及び平面図、第５図及び第６図は
従来ρ他の例を示すそれぞれ断面図及び平面図、また第
７図は本発明を適用した研磨装置の断面図である。 １０ ガラス基板 −ｊ プレッシャープレート ２乙 接着剤 、２２ 定盤 −８研磨剤 ＪＯリング ３− ガラス保持プレート ３１．４１／ プレッシャープレートダＯ固定研磨材
ダ一 吸着面 １ＩｔＪ ｉｌ ダｑ 連通孔ダｊ 吸
引空間 ダ乙 吸引孔 特許出願人 株式会社 保谷電子 ＝４０′
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、荒ズリされた硬脆材料基板の片面を、仕上げ研磨し
、脱離した状態で応力バランスを失って凹面となった仕
上げ研磨面を高精度を有する吸着面に矯正吸着し、フラ
ットな状態で他面を仕上げ研磨することを特徴とする硬
脆材料基板の平面研磨方法 ２＃荒ズリされた硬脆材料基板は表面大きさに比べ肉厚
の薄い、いわゆる形状比の小さい基板である特許請求の
範囲第１項記載の硬脆材料基板の平面研磨方法 ３、荒ズリされた硬脆材料基板は平行平面形状である特
許請求の範囲第１項または第２項記載の硬脆材料基板の
平面研磨方法。 ４、荒ズリされた硬脆材料基板はガラス板である特許請
求の範囲第１項、第２項または第３項記載の硬脆材料基
板の平面研磨方法。 ５、定盤にダイヤモンドペレットを植設してなる平面特
性の優れた研磨皿と、この研磨皿と対向して被研磨材で
ある硬脆材料基板を矯正吸着するための、平面特性に優
れた吸着面を形成した硬脆材料基板の保持面とを有する
ことを特徴とする硬脆材料基板の平面研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57010623A JPS58132458A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57010623A JPS58132458A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58132458A true JPS58132458A (ja) | 1983-08-06 |
Family
ID=11755341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57010623A Pending JPS58132458A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58132458A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6052245A (ja) * | 1983-09-01 | 1985-03-25 | Mabuchi Shoten:Kk | 研磨機 |
| JPS63169265A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ラツプ盤 |
| JP2005314167A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Nippon Steel Corp | 炭化珪素単結晶成長用種結晶とその製造方法及びそれを用いた結晶成長方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4933186U (ja) * | 1972-06-27 | 1974-03-23 | ||
| JPS49129992A (ja) * | 1973-04-18 | 1974-12-12 | ||
| JPS5123896A (en) * | 1974-08-21 | 1976-02-26 | Hitachi Electronics | Usuitazaino shiagekakohoho |
-
1982
- 1982-01-25 JP JP57010623A patent/JPS58132458A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS4933186U (ja) * | 1972-06-27 | 1974-03-23 | ||
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| JP4494856B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2010-06-30 | 新日本製鐵株式会社 | 炭化珪素単結晶成長用種結晶とその製造方法及びそれを用いた結晶成長方法 |
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