JPS58130273A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS58130273A JPS58130273A JP1274482A JP1274482A JPS58130273A JP S58130273 A JPS58130273 A JP S58130273A JP 1274482 A JP1274482 A JP 1274482A JP 1274482 A JP1274482 A JP 1274482A JP S58130273 A JPS58130273 A JP S58130273A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- band steel
- differential pressure
- rolls
- chambers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば銅帯に亜鉛メッキを施すための連続真
空蒸着ライン等に設置して好適な真空蒸着装置に関する
ものである。
空蒸着ライン等に設置して好適な真空蒸着装置に関する
ものである。
銅帯に連続的に亜鉛メッキ皮膜を形成する方法さして、
従来の溶融亜鉛浴法や電気メツキ法の外に片面のみのメ
ッキに対する有利性から真空蒸着メッキ法が最近研究さ
れている。第１図は従来の工業規模の真空蒸着メツキラ
インの説明図で、（１）は銅帯、（ｔ’）は素材コイル
のアンコイラ、（２）は連続通板に必要な前処理設備で
、ウェルズ、シャ、レペラ、ルーバ、前処理炉等により
構成されている。
従来の溶融亜鉛浴法や電気メツキ法の外に片面のみのメ
ッキに対する有利性から真空蒸着メッキ法が最近研究さ
れている。第１図は従来の工業規模の真空蒸着メツキラ
インの説明図で、（１）は銅帯、（ｔ’）は素材コイル
のアンコイラ、（２）は連続通板に必要な前処理設備で
、ウェルズ、シャ、レペラ、ルーバ、前処理炉等により
構成されている。
銅帯（１）は前処理設備（２）を経た後隔壁Ｗ及びシー
ルロールＲにより構成される差圧室（３） （４） （
５）・・・・・・を経て蒸着室（６）に入る。なお、こ
の図面には図示していないが、差圧室（３） （４）
（５）・・・・・・および蒸着室（６）はそれぞれ真空
ポンプで吸引されて差圧室（３） （１） （５）・・
・・・・の順に圧力が低くなっており、蒸着室（６）の
圧力は通常ｌ Ｔｏｒｒ以下の中高真空雰囲気に設定さ
れている。
ルロールＲにより構成される差圧室（３） （４） （
５）・・・・・・を経て蒸着室（６）に入る。なお、こ
の図面には図示していないが、差圧室（３） （４）
（５）・・・・・・および蒸着室（６）はそれぞれ真空
ポンプで吸引されて差圧室（３） （１） （５）・・
・・・・の順に圧力が低くなっており、蒸着室（６）の
圧力は通常ｌ Ｔｏｒｒ以下の中高真空雰囲気に設定さ
れている。
また蒸着室（６）には鋼帯（１）の下方にメッキ金属の
入った蒸発ルツボ（力があり、銅帯（１）の下面が蒸発
ルツボ（力士を通過する間にメッキ金属が蒸着され、次
いで差圧室（８） （９）・・・・・・を経て順次圧力
が高くなって大気中に出る。更に図面には図示していな
いがレベラ、ルーパ、シャ等により構成される後処理設
備ａ０を経てリコイラー００に巻きとられる。
入った蒸発ルツボ（力があり、銅帯（１）の下面が蒸発
ルツボ（力士を通過する間にメッキ金属が蒸着され、次
いで差圧室（８） （９）・・・・・・を経て順次圧力
が高くなって大気中に出る。更に図面には図示していな
いがレベラ、ルーパ、シャ等により構成される後処理設
備ａ０を経てリコイラー００に巻きとられる。
ところで各差圧室間には圧力差があるため、シールロー
ルＲ部の隙間を通って高い圧力の室から低い圧力の室へ
雰囲気ガスが流れる。またシールロール８部では上下に
一対となったシールロールＲの間に鋼帯（］）が挾まれ
ているので、鋼帯（１）の両端部の隙間を通って雰囲気
ガスが流れる。従ってこのとき鋼帯（１）の両端がガス
によって冷却され、銅帯（１）の巾方向に温度分布が生
じる欠点があった。
ルＲ部の隙間を通って高い圧力の室から低い圧力の室へ
雰囲気ガスが流れる。またシールロール８部では上下に
一対となったシールロールＲの間に鋼帯（］）が挾まれ
ているので、鋼帯（１）の両端部の隙間を通って雰囲気
ガスが流れる。従ってこのとき鋼帯（１）の両端がガス
によって冷却され、銅帯（１）の巾方向に温度分布が生
じる欠点があった。
そしてこの巾方向の温度分布があると蒸着時のメッキむ
らの原因となるため、銅帯（１）の巾方向の温度分布を
極力均一にすることが必要である。
らの原因となるため、銅帯（１）の巾方向の温度分布を
極力均一にすることが必要である。
本発明は前記従来の欠点を解消するために提案されたも
ので、鋼帯入側差圧室のうち、少なくとも１つの差圧室
内に、鋼帯の巾方向温度分布を均一にさせるための加熱
媒体を内蔵する均熱ロールを収容し、これに前記鋼帯を
接触せしめることにより、銅帯の巾方向温度分布を均一
にさせて、鋼帯上の接触熱伝達が有効に行なわれるよう
にした真空蒸着装置を提供せんとするものである。
ので、鋼帯入側差圧室のうち、少なくとも１つの差圧室
内に、鋼帯の巾方向温度分布を均一にさせるための加熱
媒体を内蔵する均熱ロールを収容し、これに前記鋼帯を
接触せしめることにより、銅帯の巾方向温度分布を均一
にさせて、鋼帯上の接触熱伝達が有効に行なわれるよう
にした真空蒸着装置を提供せんとするものである。
以下本発明の実施例を図面について説明すると、第２図
に本発明による１実施例を示す。第２図において（１）
はアンコイラ、（２）は前処理設備、（３）（４）は差
圧室、（６）は蒸着室、（７）は蒸発ルツボ、（８）（
９）は差圧室、α０）は後処理設備、０υはリコイラー
で、これらは第１図と同じである。さて第２図において
第１図と異なる点は、蒸着室（６）より前段の差圧室の
うち圧力がｌ ＯＴＯｒγ付近の差圧室ａ諺を均熱室と
なした点である。
に本発明による１実施例を示す。第２図において（１）
はアンコイラ、（２）は前処理設備、（３）（４）は差
圧室、（６）は蒸着室、（７）は蒸発ルツボ、（８）（
９）は差圧室、α０）は後処理設備、０υはリコイラー
で、これらは第１図と同じである。さて第２図において
第１図と異なる点は、蒸着室（６）より前段の差圧室の
うち圧力がｌ ＯＴＯｒγ付近の差圧室ａ諺を均熱室と
なした点である。
差圧室０２はロール形均熱室を構成しており、均熱ロー
ル０濠及び（１４）により銅帯（１）を均熱する。均熱
ロールＱ３）（１４）は内部に銅帯（１）より僅かに高
温の熱媒体を有しており、銅帯（１）が均熱ロール０３
）及び（１４）に接触している間に、同ロール表面と銅
帯（１）との温度差により熱伝達が行なわれるが、同ロ
ール０（至）０荀の表面の温度は巾方向でほぼ均一であ
るのに対し、銅帯（１）の温度は端部が中央より低いた
め、端部により多くの熱が伝わり、従って巾方向の温度
が均一化される。なお、その他の作用効果は第１図と同
じである。
ル０濠及び（１４）により銅帯（１）を均熱する。均熱
ロールＱ３）（１４）は内部に銅帯（１）より僅かに高
温の熱媒体を有しており、銅帯（１）が均熱ロール０３
）及び（１４）に接触している間に、同ロール表面と銅
帯（１）との温度差により熱伝達が行なわれるが、同ロ
ール０（至）０荀の表面の温度は巾方向でほぼ均一であ
るのに対し、銅帯（１）の温度は端部が中央より低いた
め、端部により多くの熱が伝わり、従って巾方向の温度
が均一化される。なお、その他の作用効果は第１図と同
じである。
さて雰囲気ガス（一般にはＮ２ガス）の熱伝導率は、１
ＴＯｒｒ程度以下になると急激に減少する。
ＴＯｒｒ程度以下になると急激に減少する。
均熱ロールと鋼帯との接触熱伝達率は、その間に挾まれ
るガスの熱伝導率とほぼ比例関係にある。
るガスの熱伝導率とほぼ比例関係にある。
また銅帯端部とガスとの熱伝達率は、ガスの熱伝導率と
比例関係にある。
比例関係にある。
このため本発明において圧力が１０ ＴＯｒｒ付近の差
圧室に均熱ロールを配置すれば、ロールと鋼帯との接触
熱伝達は有効に行なわれ、それ以降のシールロール８部
でのガスによる銅帯端部の温度降下は無視できるので、
巾方向に温度の均一な鋼帯を蒸着室へ供給することがで
きる０
圧室に均熱ロールを配置すれば、ロールと鋼帯との接触
熱伝達は有効に行なわれ、それ以降のシールロール８部
でのガスによる銅帯端部の温度降下は無視できるので、
巾方向に温度の均一な鋼帯を蒸着室へ供給することがで
きる０
第１図は従来の真空蒸着メツキラインの１例を示す側面
図、第２図は本発明の実施例を示す真空蒸着装置を用い
た真空蒸着メツキラインの側面図である。 図の主要部分の説明 ■・・・鋼帯 ３．４・・・差圧室６・・・
蒸着室 ７・・・蒸発ル゛ンボ８．９・・・差
圧室 １２・・・差圧室１３、１４・・・均熱
ロール
図、第２図は本発明の実施例を示す真空蒸着装置を用い
た真空蒸着メツキラインの側面図である。 図の主要部分の説明 ■・・・鋼帯 ３．４・・・差圧室６・・・
蒸着室 ７・・・蒸発ル゛ンボ８．９・・・差
圧室 １２・・・差圧室１３、１４・・・均熱
ロール
Claims (1)
- 鋼帯を連続真空蒸着する真空蒸着室の前後に、複数の差
圧室を夫々配置してなる連続真空蒸着装置において、銅
帯の入側差圧室のうち、少なくとも１つの差圧室内に、
銅帯の巾方向温度分布を均一にさせるための加熱媒体を
内蔵する均熱ロールを収容し、これに前記鋼帯を接触さ
せるようにしたことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1274482A JPS58130273A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1274482A JPS58130273A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58130273A true JPS58130273A (ja) | 1983-08-03 |
Family
ID=11813925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1274482A Pending JPS58130273A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58130273A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63238276A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-04 | Nisshin Steel Co Ltd | 連続真空蒸着めつき装置のロ−ル温度制御方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5017034A (ja) * | 1973-06-20 | 1975-02-22 |
-
1982
- 1982-01-29 JP JP1274482A patent/JPS58130273A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5017034A (ja) * | 1973-06-20 | 1975-02-22 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63238276A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-04 | Nisshin Steel Co Ltd | 連続真空蒸着めつき装置のロ−ル温度制御方法 |
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