JPH09143727A - 真空シール装置 - Google Patents
真空シール装置Info
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- JPH09143727A JPH09143727A JP30127995A JP30127995A JPH09143727A JP H09143727 A JPH09143727 A JP H09143727A JP 30127995 A JP30127995 A JP 30127995A JP 30127995 A JP30127995 A JP 30127995A JP H09143727 A JPH09143727 A JP H09143727A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 帯材が厚い場合でも、塑性変形をおこすこと
なく帯材が通板でき、小さい真空ポンプ容量で所望の真
空度を安定して保持でき、かつ全長及び全高を比較的小
さくできる真空シール装置を提供する。 【解決手段】 連続した帯材３を塑性変形をおこさない
曲率半径Ｒで案内する複数の円筒形ガイドロール１２
と、ガイドローラ及び帯材を帯材に沿って気密に囲む真
空通板路１４と、各ガイドロールに対向して真空通板路
内に配置され、ガイドロールとの間に帯材が通板する隙
間を有する複数のシールブロック１６と、を備え、ガイ
ドローラ１２とシールブロック１６で分割された真空通
板路１４内をそれぞれ排気する。塑性変形をおこさない
曲率半径Ｒは、帯材の板厚の２００倍以上に設定する。
なく帯材が通板でき、小さい真空ポンプ容量で所望の真
空度を安定して保持でき、かつ全長及び全高を比較的小
さくできる真空シール装置を提供する。 【解決手段】 連続した帯材３を塑性変形をおこさない
曲率半径Ｒで案内する複数の円筒形ガイドロール１２
と、ガイドローラ及び帯材を帯材に沿って気密に囲む真
空通板路１４と、各ガイドロールに対向して真空通板路
内に配置され、ガイドロールとの間に帯材が通板する隙
間を有する複数のシールブロック１６と、を備え、ガイ
ドローラ１２とシールブロック１６で分割された真空通
板路１４内をそれぞれ排気する。塑性変形をおこさない
曲率半径Ｒは、帯材の板厚の２００倍以上に設定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空シール装置に係わ
り、更に詳しくは、真空処理装置まで大気圧から真空度
を段階的に上げ、また真空処理装置から大気圧まで真空
度を段階的に下げるために真空処理装置の前後に設けら
れる真空シール装置に関する。
り、更に詳しくは、真空処理装置まで大気圧から真空度
を段階的に上げ、また真空処理装置から大気圧まで真空
度を段階的に下げるために真空処理装置の前後に設けら
れる真空シール装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】鋼板等の帯材を真空下で連続的に処理す
る装置（例えば連続真空蒸着装置）では、装置の前後に
内部を真空に保持するための真空シール装置が用いられ
る。この真空シール装置は、ピンチロール方式とブライ
ダル方式に大別される。
る装置（例えば連続真空蒸着装置）では、装置の前後に
内部を真空に保持するための真空シール装置が用いられ
る。この真空シール装置は、ピンチロール方式とブライ
ダル方式に大別される。
【０００３】図４（Ａ）は、従来のピンチロール方式の
真空シール装置の模式図であり、真空ポンプ４で排気さ
れた複数の真空室５と、真空室５の境界部に帯材３と近
接して設けられた複数対のシールロール６とからなり、
真空ポンプ４の容量をシールロール６と帯板３の隙間か
ら流入する空気量よりも大きくして、真空室５の真空度
を保持するようになっている。なおこの図で、１は真空
処理装置、２は真空シール装置である。
真空シール装置の模式図であり、真空ポンプ４で排気さ
れた複数の真空室５と、真空室５の境界部に帯材３と近
接して設けられた複数対のシールロール６とからなり、
真空ポンプ４の容量をシールロール６と帯板３の隙間か
ら流入する空気量よりも大きくして、真空室５の真空度
を保持するようになっている。なおこの図で、１は真空
処理装置、２は真空シール装置である。
【０００４】上述した真空シール装置は、いわゆる差動
排気真空シール装置であり、隣接した真空室の圧力比
は、隙間から流入する空気の流速が音速に達するいわゆ
る限界圧力比（臨海圧力比ともいう）よりも小さく設定
され、従って、隙間の面積×音速よりも大きい容量の真
空ポンプを用いることにより、例えば、７６０ｔｏｒｒ
（大気圧），２００ｔｏｒｒ，５０ｔｏｒｒ，５ｔｏｒ
ｒ，０．１ｔｏｒｒと順次真空度を高めることができ
る。なお、下流側の真空シール装置も上流側の上述した
真空シール装置と同様である。
排気真空シール装置であり、隣接した真空室の圧力比
は、隙間から流入する空気の流速が音速に達するいわゆ
る限界圧力比（臨海圧力比ともいう）よりも小さく設定
され、従って、隙間の面積×音速よりも大きい容量の真
空ポンプを用いることにより、例えば、７６０ｔｏｒｒ
（大気圧），２００ｔｏｒｒ，５０ｔｏｒｒ，５ｔｏｒ
ｒ，０．１ｔｏｒｒと順次真空度を高めることができ
る。なお、下流側の真空シール装置も上流側の上述した
真空シール装置と同様である。
【０００５】真空処理する帯材の板幅及び板厚は種々に
変化するため、真空シール装置は帯材の最大寸法に適合
するように位置決めされる。このため、ピンチロール方
式の真空シール装置では、特に板幅及び板厚が小さい帯
材を処理する場合に、シールロール６と帯材３との隙間
が大きくなり、真空度を保持するための真空ポンプ４の
容量を予め相当大きくする必要がある問題点があった。
また、このため、真空シール装置のランニングコストも
大きくなる問題点があった。
変化するため、真空シール装置は帯材の最大寸法に適合
するように位置決めされる。このため、ピンチロール方
式の真空シール装置では、特に板幅及び板厚が小さい帯
材を処理する場合に、シールロール６と帯材３との隙間
が大きくなり、真空度を保持するための真空ポンプ４の
容量を予め相当大きくする必要がある問題点があった。
また、このため、真空シール装置のランニングコストも
大きくなる問題点があった。
【０００６】かかるピンチロール方式の問題点を解決す
るために創案されたのがブライダル方式の真空シール装
置である。図４（Ｂ）は従来のブライダル方式の真空シ
ール装置の模式図であり、真空ポンプ４で排気された複
数の真空室５と、真空室５の境界部に設けられ帯材３が
巻き付けられる複数の円筒形デフレクタロール７と、デ
フレクタロール７に対向して真空室５の境界部に設けら
れたシールブロック８と、を備え、真空ポンプ４の容量
をデフレクタロール７の隙間から流入する空気量よりも
大きくして、真空室５の真空度を保持するようになって
いる。なおこの図で、９は別のシールブロックであり、
デフレクタロール７との隙間が最小限度に設定されてい
る。
るために創案されたのがブライダル方式の真空シール装
置である。図４（Ｂ）は従来のブライダル方式の真空シ
ール装置の模式図であり、真空ポンプ４で排気された複
数の真空室５と、真空室５の境界部に設けられ帯材３が
巻き付けられる複数の円筒形デフレクタロール７と、デ
フレクタロール７に対向して真空室５の境界部に設けら
れたシールブロック８と、を備え、真空ポンプ４の容量
をデフレクタロール７の隙間から流入する空気量よりも
大きくして、真空室５の真空度を保持するようになって
いる。なおこの図で、９は別のシールブロックであり、
デフレクタロール７との隙間が最小限度に設定されてい
る。
【０００７】このブライダル方式も、差動排気真空シー
ル装置の一種であるが、帯材３の板幅及び板厚が種々に
変化しても、デフレクタロール７と帯材３は常に密着し
て隙間がほとんどなく、かつシールブロック８も帯材３
に近接するように構成されるため、真空ポンプの容量を
ピンチロール方式に比較して大幅に小さくでき、ランニ
ングコストも小さい長所を有している。また、このブラ
イダル方式の真空シール装置は、帯材３を上下に蛇行さ
せて通板することから真空室の水平間隔を短くし、装置
の全長を短くできる利点がある。なお、シールブロック
８を帯材３に近接させる機構として、特開平６−２８０
０１５号、特開平６−２５６９４６号、特開平６−２９
３９６８号等が既に出願されている。
ル装置の一種であるが、帯材３の板幅及び板厚が種々に
変化しても、デフレクタロール７と帯材３は常に密着し
て隙間がほとんどなく、かつシールブロック８も帯材３
に近接するように構成されるため、真空ポンプの容量を
ピンチロール方式に比較して大幅に小さくでき、ランニ
ングコストも小さい長所を有している。また、このブラ
イダル方式の真空シール装置は、帯材３を上下に蛇行さ
せて通板することから真空室の水平間隔を短くし、装置
の全長を短くできる利点がある。なお、シールブロック
８を帯材３に近接させる機構として、特開平６−２８０
０１５号、特開平６−２５６９４６号、特開平６−２９
３９６８号等が既に出願されている。
【０００８】図５は、かかるブライダル方式の真空シー
ル装置を用いた連続真空蒸着装置の一例であり、入側と
出側の真空シール装置、予備加熱室、成膜室、等からな
り、大気圧下でアンコイラーから巻き戻された鋼板（ス
トリップ）を入側の真空シール装置で真空中に通し、予
備加熱室で予備加熱した後、成膜室で成膜し、成膜後の
鋼板を出側の真空シール装置で大気圧中に取り出し、リ
コイラーで巻き取るようになっている。成膜室では、例
えば、電子銃により電子ビームを放射し、磁界で電子ビ
ームの方向を曲げてルツボ内に当て、蒸着材料を加熱・
蒸発させ、蒸発金属を鋼板の表面に凝固させて蒸着膜を
連続的に成膜することができる。
ル装置を用いた連続真空蒸着装置の一例であり、入側と
出側の真空シール装置、予備加熱室、成膜室、等からな
り、大気圧下でアンコイラーから巻き戻された鋼板（ス
トリップ）を入側の真空シール装置で真空中に通し、予
備加熱室で予備加熱した後、成膜室で成膜し、成膜後の
鋼板を出側の真空シール装置で大気圧中に取り出し、リ
コイラーで巻き取るようになっている。成膜室では、例
えば、電子銃により電子ビームを放射し、磁界で電子ビ
ームの方向を曲げてルツボ内に当て、蒸着材料を加熱・
蒸発させ、蒸発金属を鋼板の表面に凝固させて蒸着膜を
連続的に成膜することができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、ブラ
イダル方式の真空シール装置は、帯材の板幅及び板厚が
種々に変化しても、デフレクタロールと帯材は常に密着
して隙間がほとんどなく、かつシールブロックも帯材に
近接するように構成されるため、真空ポンプの容量をピ
ンチロール方式に比較して大幅に小さくでき、ランニン
グコストも小さい長所を有している。
イダル方式の真空シール装置は、帯材の板幅及び板厚が
種々に変化しても、デフレクタロールと帯材は常に密着
して隙間がほとんどなく、かつシールブロックも帯材に
近接するように構成されるため、真空ポンプの容量をピ
ンチロール方式に比較して大幅に小さくでき、ランニン
グコストも小さい長所を有している。
【００１０】しかし、デフレクタロールの表面に帯材が
密着して通板するため、帯材が厚い場合に塑性変形をお
こしやすい問題点があった。すなわち、帯材の厚さを
ｔ、デフレクタロールの直径をＤとすると、帯材がデフ
レクタロールの表面に密着して通板する際に、帯材に
は、ε＝２ｔ／Ｄの歪が生じ、この歪を塑性変形しない
範囲（例えば０．５％以下）にするには、デフレクタロ
ールの直径を大きくする必要があった。この直径は、例
えばｔ＝２０ｍｍの場合、Ｄ＝２×２０／０．００５＝
８０００ｍｍ以上となり、真空シール装置の全長及び全
高が非常に大きくなる問題点があった。
密着して通板するため、帯材が厚い場合に塑性変形をお
こしやすい問題点があった。すなわち、帯材の厚さを
ｔ、デフレクタロールの直径をＤとすると、帯材がデフ
レクタロールの表面に密着して通板する際に、帯材に
は、ε＝２ｔ／Ｄの歪が生じ、この歪を塑性変形しない
範囲（例えば０．５％以下）にするには、デフレクタロ
ールの直径を大きくする必要があった。この直径は、例
えばｔ＝２０ｍｍの場合、Ｄ＝２×２０／０．００５＝
８０００ｍｍ以上となり、真空シール装置の全長及び全
高が非常に大きくなる問題点があった。
【００１１】本発明はかかる問題点を解決するために創
案されたものである。すなわち、本発明の目的は、帯材
が厚い場合でも、塑性変形をおこすことなく帯材が通板
でき、小さい真空ポンプ容量で所望の真空度を安定して
保持でき、かつ全長及び全高を比較的小さくできる真空
シール装置を提供することにある。
案されたものである。すなわち、本発明の目的は、帯材
が厚い場合でも、塑性変形をおこすことなく帯材が通板
でき、小さい真空ポンプ容量で所望の真空度を安定して
保持でき、かつ全長及び全高を比較的小さくできる真空
シール装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の真空シール装置
は、連続した帯材を塑性変形をおこさない曲率半径で案
内する複数の円筒形ガイドロールと、ガイドローラ及び
帯材を帯材に沿って気密に囲む真空通板路と、各ガイド
ロールに対向して真空通板路内に配置され、ガイドロー
ルとの間に帯材が通板する隙間を有する複数のシールブ
ロックと、を備え、ガイドローラとシールブロックで分
割された真空通板路内をそれぞれ排気することを特徴と
する。
は、連続した帯材を塑性変形をおこさない曲率半径で案
内する複数の円筒形ガイドロールと、ガイドローラ及び
帯材を帯材に沿って気密に囲む真空通板路と、各ガイド
ロールに対向して真空通板路内に配置され、ガイドロー
ルとの間に帯材が通板する隙間を有する複数のシールブ
ロックと、を備え、ガイドローラとシールブロックで分
割された真空通板路内をそれぞれ排気することを特徴と
する。
【００１３】この構成により、複数の円筒形ガイドロー
ルにより帯材を塑性変形をおこさない曲率半径で案内す
るので、帯材が厚い場合でも、比較的細いガイドロール
で帯材を大きな曲率半径で案内することができ、塑性変
形をおこすことなく帯材を通板させることができる。ま
た、ガイドローラとシールブロックで分割された真空通
板路内をそれぞれ排気するので、いわゆる差動排気真空
シールを行うことができる。また、帯材の板幅及び板厚
が種々に変化しても、ガイドロールと帯材は常に密着し
て隙間がほとんどなく、かつシールブロックも帯材に近
接するように構成されるため、小さい真空ポンプ容量で
所望の真空度を安定して保持できる。更に、真空通板路
はガイドローラ及び帯材を帯材に沿って気密に囲み、複
数の真空室が帯材に沿って構成されるので、真空シール
装置の全長及び全高を比較的小さくすることができる。
ルにより帯材を塑性変形をおこさない曲率半径で案内す
るので、帯材が厚い場合でも、比較的細いガイドロール
で帯材を大きな曲率半径で案内することができ、塑性変
形をおこすことなく帯材を通板させることができる。ま
た、ガイドローラとシールブロックで分割された真空通
板路内をそれぞれ排気するので、いわゆる差動排気真空
シールを行うことができる。また、帯材の板幅及び板厚
が種々に変化しても、ガイドロールと帯材は常に密着し
て隙間がほとんどなく、かつシールブロックも帯材に近
接するように構成されるため、小さい真空ポンプ容量で
所望の真空度を安定して保持できる。更に、真空通板路
はガイドローラ及び帯材を帯材に沿って気密に囲み、複
数の真空室が帯材に沿って構成されるので、真空シール
装置の全長及び全高を比較的小さくすることができる。
【００１４】本発明の好ましい実施形態によれば、前記
塑性変形をおこさない曲率半径は、帯材の板厚の２００
倍以上である。この構成により、帯材の厚さをｔ、複数
のガイドロールにより案内される帯材の曲率半径をＲと
すると、帯材の通板の際に、帯材には、ε＝ｔ／Ｒの歪
が生じるが、この歪はＲ≧２００ｔとすることにより、
ε≦１／２００＝０．００５となり、歪を０．５％以下
に抑え、通常の鋼板の場合に塑性変形を防止することが
できる。
塑性変形をおこさない曲率半径は、帯材の板厚の２００
倍以上である。この構成により、帯材の厚さをｔ、複数
のガイドロールにより案内される帯材の曲率半径をＲと
すると、帯材の通板の際に、帯材には、ε＝ｔ／Ｒの歪
が生じるが、この歪はＲ≧２００ｔとすることにより、
ε≦１／２００＝０．００５となり、歪を０．５％以下
に抑え、通常の鋼板の場合に塑性変形を防止することが
できる。
【００１５】更に、前記シールブロックは、帯材の幅方
向に密着して並置された複数のシール片からなり、各シ
ール片は帯材及びガイドロールとの隙間を調整可能に設
けられている、ことが好ましい。この構成により、帯材
とシールブロックの隙間を調整し、分割された真空通板
路間の流入空気を小さく調整することができる。
向に密着して並置された複数のシール片からなり、各シ
ール片は帯材及びガイドロールとの隙間を調整可能に設
けられている、ことが好ましい。この構成により、帯材
とシールブロックの隙間を調整し、分割された真空通板
路間の流入空気を小さく調整することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
を図面を参照して説明する。なお、各図において、共通
する部分には同一の符号を付して使用する。図１は、本
発明による真空シール装置の全体構成図である。この図
において、本発明の真空シール装置１０は、複数の円筒
形ガイドロール１２、真空通板路１４、及び複数のシー
ルブロック１６を備えている。
を図面を参照して説明する。なお、各図において、共通
する部分には同一の符号を付して使用する。図１は、本
発明による真空シール装置の全体構成図である。この図
において、本発明の真空シール装置１０は、複数の円筒
形ガイドロール１２、真空通板路１４、及び複数のシー
ルブロック１６を備えている。
【００１７】複数の円筒形ガイドロール１２は、連続し
た帯材３を塑性変形をおこさない曲率半径Ｒで案内して
いる。この曲率半径Ｒは、帯材３の板厚ｔの２００倍以
上であることが好ましい。この構成により、帯材３の通
板の際に、帯材３には、ε＝ｔ／Ｒの歪が生じるが、こ
の歪はＲ≧２００ｔとすることにより、ε≦１／２００
＝０．００５となり、歪を０．５％以下に抑え、通常の
鋼板の場合に塑性変形を防止することができる。
た帯材３を塑性変形をおこさない曲率半径Ｒで案内して
いる。この曲率半径Ｒは、帯材３の板厚ｔの２００倍以
上であることが好ましい。この構成により、帯材３の通
板の際に、帯材３には、ε＝ｔ／Ｒの歪が生じるが、こ
の歪はＲ≧２００ｔとすることにより、ε≦１／２００
＝０．００５となり、歪を０．５％以下に抑え、通常の
鋼板の場合に塑性変形を防止することができる。
【００１８】真空通板路１４は、ガイドローラ１２及び
帯材３を帯材に沿って気密に囲んでいる。また、ガイド
ローラ１２は真空通板路１４内に支持され、かつ帯材３
を支持しない部分の隙間は最小限（例えば、０．３〜
０．５ｍｍ）に設定され、ガイドローラ１２の帯材３の
反対側（支持部）を帯材３に沿って漏れるバイパスガス
量を最小にするようになっている。
帯材３を帯材に沿って気密に囲んでいる。また、ガイド
ローラ１２は真空通板路１４内に支持され、かつ帯材３
を支持しない部分の隙間は最小限（例えば、０．３〜
０．５ｍｍ）に設定され、ガイドローラ１２の帯材３の
反対側（支持部）を帯材３に沿って漏れるバイパスガス
量を最小にするようになっている。
【００１９】図２は、図１のシール部の断面図である。
図１及び図２に示すように、シールブロック１６は、各
ガイドロール１２に対向して真空通板路１４内に配置さ
れ、ガイドロール１２との間に帯材３が通板する隙間を
形成している。また、図２に示すように各シールブロッ
ク１６は、帯材３の幅方向に密着して並置された複数の
シール片１６ａからなり、各シール片１６ａは帯材３及
びガイドロール１２との隙間を調整できるように取付ら
れている。この調整は、適当な駆動手段、例えば、送り
ネジ、直動シリンダ、等により行うことができる。この
構成により、帯材３とシールブロック１６の隙間を調整
し、分割された真空通板路１４間の流入空気を小さく調
整することができる。また、各シール片１６ａは、真空
通板路１４に設けられた凹部に伸縮自在に挿入されてお
り、帯材３に沿って漏れるバイパスガス量を最小にする
ようになっている。
図１及び図２に示すように、シールブロック１６は、各
ガイドロール１２に対向して真空通板路１４内に配置さ
れ、ガイドロール１２との間に帯材３が通板する隙間を
形成している。また、図２に示すように各シールブロッ
ク１６は、帯材３の幅方向に密着して並置された複数の
シール片１６ａからなり、各シール片１６ａは帯材３及
びガイドロール１２との隙間を調整できるように取付ら
れている。この調整は、適当な駆動手段、例えば、送り
ネジ、直動シリンダ、等により行うことができる。この
構成により、帯材３とシールブロック１６の隙間を調整
し、分割された真空通板路１４間の流入空気を小さく調
整することができる。また、各シール片１６ａは、真空
通板路１４に設けられた凹部に伸縮自在に挿入されてお
り、帯材３に沿って漏れるバイパスガス量を最小にする
ようになっている。
【００２０】更に、図１に示すように、本発明の真空シ
ール装置１０は、複数の真空ポンプ４を備え、ガイドロ
ーラ１２とシールブロック１６（すなわちシール部）で
分割された真空通板路１４内をそれぞれ排気するように
なっている。この構成により、ガイドローラ１２とシー
ルブロック１６で分割された真空通板路１４（真空室）
内をそれぞれ排気して、いわゆる差動排気真空シールを
行うことができる。
ール装置１０は、複数の真空ポンプ４を備え、ガイドロ
ーラ１２とシールブロック１６（すなわちシール部）で
分割された真空通板路１４内をそれぞれ排気するように
なっている。この構成により、ガイドローラ１２とシー
ルブロック１６で分割された真空通板路１４（真空室）
内をそれぞれ排気して、いわゆる差動排気真空シールを
行うことができる。
【００２１】図３は、上述した本発明の真空シール装置
１０を真空処理室１（例えば真空成膜室）の前後に設置
した真空処理設備の全体構成図である。この図におい
て、鋼板（帯材３）は、大気→真空→大気（Ａｉｒ ｔ
ｏ Ａｉｒ）の順序で真空シール装置１０と真空処理室
１を通板する。以下、図３において上述した本発明の作
動を説明する。
１０を真空処理室１（例えば真空成膜室）の前後に設置
した真空処理設備の全体構成図である。この図におい
て、鋼板（帯材３）は、大気→真空→大気（Ａｉｒ ｔ
ｏ Ａｉｒ）の順序で真空シール装置１０と真空処理室
１を通板する。以下、図３において上述した本発明の作
動を説明する。
【００２２】アンコイラーから巻き出された鋼板（帯材
３）は、図示しない前処理ライン（レベラー、シャー、
ウェルダー、ルーパー、洗浄槽等）を通過し、上流側の
真空シール装置１０内に導入される。導入された鋼板３
は、複数の円筒形ロールガイド１２により真空処理室１
（真空チャンバー）へと通板される。この際、自動で隙
間調整が可能なシールブロック１６を適当に上下させる
ことにより、鋼板３とシールブロック１６との隙間を調
整し、真空室（シール部とシール部との間）から真空室
に流入する空気を最小にする。各真空室の圧力は、例え
ば順に１００，１０，１，０．１，０．０１，０．００
１，０．０００１ｔｏｒｒになり、最終的に真空処理室
１で要求される真空度まで減圧する。また、真空シール
装置１０内で上記ガイドロール１２により拘束されて通
板される鋼板３は、曲率半径ＲがＲ≧２００ｔになって
おり、鋼板の塑性変形をおこさないようになっている。
３）は、図示しない前処理ライン（レベラー、シャー、
ウェルダー、ルーパー、洗浄槽等）を通過し、上流側の
真空シール装置１０内に導入される。導入された鋼板３
は、複数の円筒形ロールガイド１２により真空処理室１
（真空チャンバー）へと通板される。この際、自動で隙
間調整が可能なシールブロック１６を適当に上下させる
ことにより、鋼板３とシールブロック１６との隙間を調
整し、真空室（シール部とシール部との間）から真空室
に流入する空気を最小にする。各真空室の圧力は、例え
ば順に１００，１０，１，０．１，０．０１，０．００
１，０．０００１ｔｏｒｒになり、最終的に真空処理室
１で要求される真空度まで減圧する。また、真空シール
装置１０内で上記ガイドロール１２により拘束されて通
板される鋼板３は、曲率半径ＲがＲ≧２００ｔになって
おり、鋼板の塑性変形をおこさないようになっている。
【００２３】この構成により、真空シール装置１０の全
長は、約４Ｒとなり、例えばｔ＝２０ｍｍの場合、Ｄ＝
２００×２０×４＝１６０００ｍｍ（１６ｍ）となり、
図４（Ｂ）において、前述した８ｍ径のデフレクタロー
ル７を使用する場合と比較して１／２〜１／３程度の長
さに抑えることができる。
長は、約４Ｒとなり、例えばｔ＝２０ｍｍの場合、Ｄ＝
２００×２０×４＝１６０００ｍｍ（１６ｍ）となり、
図４（Ｂ）において、前述した８ｍ径のデフレクタロー
ル７を使用する場合と比較して１／２〜１／３程度の長
さに抑えることができる。
【００２４】なお、本発明は上述した実施形態に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更できる
ことは勿論である。例えば、本発明によって形成された
真空環境下（真空処理室内）では、真空加熱、真空蒸
着、イオプレーティング、ＣＶＤ等の様々な真空処理を
行うことができる。また、真空シール装置の最適構成
（真空室の数、真空ポンプの容量、ガイドロールの寸
法、数量、鋼板の曲率、等）は、処理する鋼板に応じて
種々に変更することができる。
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更できる
ことは勿論である。例えば、本発明によって形成された
真空環境下（真空処理室内）では、真空加熱、真空蒸
着、イオプレーティング、ＣＶＤ等の様々な真空処理を
行うことができる。また、真空シール装置の最適構成
（真空室の数、真空ポンプの容量、ガイドロールの寸
法、数量、鋼板の曲率、等）は、処理する鋼板に応じて
種々に変更することができる。
【００２５】
【発明の効果】上述したように、本発明の真空シール装
置は、以下の長所を有している。 薄板は勿論のこと、厚板の場合でもシール部（シー
ルブロックとガイドロールから構成される）でのシール
性能（空気の流入を最小にする）が良いため、使用する
真空ポンプの容量を小さくでき、設備費、ランニングコ
ストの面で極めて有利である。 薄板は勿論のこと、厚板の場合でも鋼板の塑性変形
がなく通板可能である。 ブライドル方式であるため、直線状に真空室を設け
た場合より、ライン長が短くなり、この点でも設備費、
ランニングコストが有利である。
置は、以下の長所を有している。 薄板は勿論のこと、厚板の場合でもシール部（シー
ルブロックとガイドロールから構成される）でのシール
性能（空気の流入を最小にする）が良いため、使用する
真空ポンプの容量を小さくでき、設備費、ランニングコ
ストの面で極めて有利である。 薄板は勿論のこと、厚板の場合でも鋼板の塑性変形
がなく通板可能である。 ブライドル方式であるため、直線状に真空室を設け
た場合より、ライン長が短くなり、この点でも設備費、
ランニングコストが有利である。
【００２６】従って、本発明の真空シール装置は、帯材
が厚い場合でも、塑性変形をおこすことなく帯材が通板
でき、小さい真空ポンプ容量で所望の真空度を安定して
保持でき、かつ全長及び全高を比較的小さくできる、等
の優れた効果を有する。
が厚い場合でも、塑性変形をおこすことなく帯材が通板
でき、小さい真空ポンプ容量で所望の真空度を安定して
保持でき、かつ全長及び全高を比較的小さくできる、等
の優れた効果を有する。
【図１】本発明による真空シール装置の全体構成図であ
る。
る。
【図２】図１のシール部の断面図である。
【図３】本発明の真空シール装置を用いた真空処理設備
の全体構成図である。
の全体構成図である。
【図４】従来の真空シール装置の模式図である。
【図５】従来の連続真空蒸着装置の構成図である。
１ 真空処理装置（真空チャンバー） ２ 真空シール装置 ３ 帯材 ４ 真空ポンプ ５ 真空室 ６ シールロール ７ デフレクタロール ８ シールブロック ９ 別のシールブロック １０ 真空シール装置 １２ ガイドロール １４ 真空通板路 １６ シールブロック １６ａ シール片
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 毛利 元治 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内
Claims (3)
- 【請求項１】 連続した帯材を塑性変形をおこさない曲
率半径で案内する円筒形ガイドロールと、ガイドローラ
及び帯材を帯材に沿って気密に囲む真空通板路と、各ガ
イドロールに対向して真空通板路内に配置され、ガイド
ロールとの間に帯材が通板する隙間を有するシールブロ
ックと、を備え、ガイドローラとシールブロックで分割
された真空通板路内をそれぞれ排気する、ことを特徴と
する真空シール装置。 - 【請求項２】 前記塑性変形をおこさない曲率半径は、
帯材の板厚の２００倍以上である、ことを特徴とする請
求項１に記載の真空シール装置。 - 【請求項３】 前記シールブロックは、帯材の幅方向に
密着して並置された複数のシール片からなり、各シール
片は帯材及びガイドロールとの隙間を調整可能に設けら
れている、ことを特徴とする請求項２に記載の真空シー
ル装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30127995A JP3757402B2 (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 真空シール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30127995A JP3757402B2 (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 真空シール装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143727A true JPH09143727A (ja) | 1997-06-03 |
| JP3757402B2 JP3757402B2 (ja) | 2006-03-22 |
Family
ID=17894919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30127995A Expired - Fee Related JP3757402B2 (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 真空シール装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3757402B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013515596A (ja) * | 2009-12-24 | 2013-05-09 | ポスコ | 鋼板通板装置とこれを含む鋼板表面処理装置及び鋼板の表面処理方法 |
| CN111971760A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-11-20 | 杰富意钢铁株式会社 | 取向性电磁钢板的制造设备 |
-
1995
- 1995-11-20 JP JP30127995A patent/JP3757402B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013515596A (ja) * | 2009-12-24 | 2013-05-09 | ポスコ | 鋼板通板装置とこれを含む鋼板表面処理装置及び鋼板の表面処理方法 |
| US8926756B2 (en) | 2009-12-24 | 2015-01-06 | Posco | Strip passing apparatus, apparatus for treating surface of strip with the same, and method for treating surface of strip |
| CN111971760A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-11-20 | 杰富意钢铁株式会社 | 取向性电磁钢板的制造设备 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3757402B2 (ja) | 2006-03-22 |
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