JPS6389651A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPS6389651A JPS6389651A JP23442286A JP23442286A JPS6389651A JP S6389651 A JPS6389651 A JP S6389651A JP 23442286 A JP23442286 A JP 23442286A JP 23442286 A JP23442286 A JP 23442286A JP S6389651 A JPS6389651 A JP S6389651A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は付着量分布制御が可能な連続式真空蒸着装置に
関するものである。
関するものである。
帯鋼等の基板に連続的に、例えば、亜鉛等の金属をめっ
きする手段として連続式真空蒸着装置ユが使用されてい
るが、従来の連続式真空蒸着装置の概略構成を第６図に
よって説明する。
きする手段として連続式真空蒸着装置ユが使用されてい
るが、従来の連続式真空蒸着装置の概略構成を第６図に
よって説明する。
図中、１は帯蓮被蒸着基板）、２Ｆｉ複数のシール室か
らなる真空シール装置、３は蒸着室、４は帯鋼１をガイ
ドして通板させる巻付ロール、７は溶融した金属（亜鉛
等）５の蒸気５ａを真空条件下で発生させ、浴槽６と金
属蒸気５ａを帯鋼１まで導くダクト（チャンネル）でア
リ、連続真空蒸着装置は一般にこれらを主構成要素とし
て構成されている。
らなる真空シール装置、３は蒸着室、４は帯鋼１をガイ
ドして通板させる巻付ロール、７は溶融した金属（亜鉛
等）５の蒸気５ａを真空条件下で発生させ、浴槽６と金
属蒸気５ａを帯鋼１まで導くダクト（チャンネル）でア
リ、連続真空蒸着装置は一般にこれらを主構成要素とし
て構成されている。
帯鋼１に蒸着させるに必要な金属蒸気量（蒸発りは、浴
槽６内に設置したヒータ８の電力と、浴槽６出口に設置
したシャッタ９を、例えば、シリンダ等の開閉装置１０
で開閉して開口部１１の面積を変えることによシ制御で
きる如く構成されている。
槽６内に設置したヒータ８の電力と、浴槽６出口に設置
したシャッタ９を、例えば、シリンダ等の開閉装置１０
で開閉して開口部１１の面積を変えることによシ制御で
きる如く構成されている。
前記、浴槽６への溶融金属５は蒸着室３下部の溶解炉１
２から圧力差によシヌノーケル１３を介して吸引・供給
される。
２から圧力差によシヌノーケル１３を介して吸引・供給
される。
蒸着室３は管１４及び弁１５を介して真空ポンプ１６に
接続し、通常、溶融金４５の飽和蒸気圧力よシ低い圧力
に窒素（Ｎ２） 等の不活性ガスを介して保持されて
いる。なお、図中、矢印２は金属蒸気５ａの流れ方向を
示す。
接続し、通常、溶融金４５の飽和蒸気圧力よシ低い圧力
に窒素（Ｎ２） 等の不活性ガスを介して保持されて
いる。なお、図中、矢印２は金属蒸気５ａの流れ方向を
示す。
以上の構成であるから、運転に際しては、製造指令（鋼
種、板巾、板厚、通板速度、目標蒸着量等）にもとづい
て設定された蒸着速度（単位面積、単位時間当りの蒸着
量）に対応して蒸着室３の圧力を設定すると共に、蒸着
金属の所要蒸発量に対応させてヒータ８の電力とシャツ
タ９開度を調整することにょシ帯鋼１表面の蒸着量、す
なわち、蒸着膜厚を目標値に制御するものである。
種、板巾、板厚、通板速度、目標蒸着量等）にもとづい
て設定された蒸着速度（単位面積、単位時間当りの蒸着
量）に対応して蒸着室３の圧力を設定すると共に、蒸着
金属の所要蒸発量に対応させてヒータ８の電力とシャツ
タ９開度を調整することにょシ帯鋼１表面の蒸着量、す
なわち、蒸着膜厚を目標値に制御するものである。
しかしながら、前記装置では、金属蒸気５ａがシャッタ
９の開口部１１を通過し之後、ダクト７内での流れが乱
れる九め帯６４１表面の蒸着金属の膜厚分布が不均一と
なり、とくに、板幅方向の分布に関しては、第４．５図
の実機における計測データ中、点線＆ 、＊ ａ ２で
示す如く、大きなばらつきが発生し、メッキ表品の品質
低下ならびく、蒸着むらによる蒸着金属の歩留シが低下
するという問題があった。
９の開口部１１を通過し之後、ダクト７内での流れが乱
れる九め帯６４１表面の蒸着金属の膜厚分布が不均一と
なり、とくに、板幅方向の分布に関しては、第４．５図
の実機における計測データ中、点線＆ 、＊ ａ ２で
示す如く、大きなばらつきが発生し、メッキ表品の品質
低下ならびく、蒸着むらによる蒸着金属の歩留シが低下
するという問題があった。
本発明は、かかる問題に鑑みて提案されたものであって
、つねに膜厚分布を均一に制御し、メッキ成品の品質向
上を図ると共【、蒸着金属の歩留）を向上させコスト低
減が可能な連続式真空蒸着装置を提案せんとするもので
ある。
、つねに膜厚分布を均一に制御し、メッキ成品の品質向
上を図ると共【、蒸着金属の歩留）を向上させコスト低
減が可能な連続式真空蒸着装置を提案せんとするもので
ある。
本発明は、前記問題を解決するために、ダクト（チャン
ネル）内に、金属蒸気の流れ方向Ｚに直角に、多孔板か
らなる整流板を１枚以上取付けて、金属蒸気の流れを均
一化させることＫよシ、蒸着膜厚分布を均一圧する如く
真空蒸着装置を構成させたものである。
ネル）内に、金属蒸気の流れ方向Ｚに直角に、多孔板か
らなる整流板を１枚以上取付けて、金属蒸気の流れを均
一化させることＫよシ、蒸着膜厚分布を均一圧する如く
真空蒸着装置を構成させたものである。
すなわち本発明は真空条件下で溶融金属を蒸発させる浴
槽と、該金属蒸気を被蒸着基板まで導くダクトと、前記
浴槽′の出口にあって、その開口面積を自在に制御し得
るシャッタとを具備してなる連続真を蒸着装置において
、前記ダクト内に金属蒸気の流れ方向に対し直角に、か
っ適宜間隔をおいて少くとも１枚以上の多孔板からなる
整流板を取付けてなることを特徴とする真空蒸着装置で
ある。
槽と、該金属蒸気を被蒸着基板まで導くダクトと、前記
浴槽′の出口にあって、その開口面積を自在に制御し得
るシャッタとを具備してなる連続真を蒸着装置において
、前記ダクト内に金属蒸気の流れ方向に対し直角に、か
っ適宜間隔をおいて少くとも１枚以上の多孔板からなる
整流板を取付けてなることを特徴とする真空蒸着装置で
ある。
シャッタの開閉によシその開口面積が設定され、所定量
の金属蒸気は整流板によりその流れを均一化されて被蒸
着基板上に均一に蒸着される。
の金属蒸気は整流板によりその流れを均一化されて被蒸
着基板上に均一に蒸着される。
以下、図面によって本発明をよシ具体的に説明する。
第１図は本発明の一実施例に係る連続式真空蒸着装置の
蒸着室及び蒸発槽の概略構成図、第２．３図は、それぞ
れ、第１図中Ａ−＾及びＢ−８矢視による整流板の正面
図を示すが、図中、従来装置（第６図）と同一部材には
同一符号を付し、重複する詳細構成説明は省略する。
蒸着室及び蒸発槽の概略構成図、第２．３図は、それぞ
れ、第１図中Ａ−＾及びＢ−８矢視による整流板の正面
図を示すが、図中、従来装置（第６図）と同一部材には
同一符号を付し、重複する詳細構成説明は省略する。
本発明装置は、従来装置（第１図）におけるダクトＺ内
に、金属蒸気５ａの流れ方向２に対し直角に、かつ、適
宜間隔をおいて、少なくとも１枚以上（例示の場合は２
枚）の多孔板からなる整流板２０ａ 、２（ｌｂを取付
けて、ダクト７内の金属蒸気５ａの流れを均一に整流さ
せることくよりて、蒸着膜厚分布を均一化せんとするも
のである。ここで整流板の設置枚数、孔の配列及び数量
に関しては、本出願人が実機において種々実験の結果決
定されたもので、実験結果では、整流板の枚数は多いほ
ど膜厚分布の均一化の効果は大きくなるも、金属蒸気６
ａの圧力損失が増大して、所要の蒸発量が得られなくな
ることから結局蒸発量の程度に応じて適錨な枚数にする
ことが必要である。従って、ここで ゛は２枚の場合に
ついて述べることとする。
に、金属蒸気５ａの流れ方向２に対し直角に、かつ、適
宜間隔をおいて、少なくとも１枚以上（例示の場合は２
枚）の多孔板からなる整流板２０ａ 、２（ｌｂを取付
けて、ダクト７内の金属蒸気５ａの流れを均一に整流さ
せることくよりて、蒸着膜厚分布を均一化せんとするも
のである。ここで整流板の設置枚数、孔の配列及び数量
に関しては、本出願人が実機において種々実験の結果決
定されたもので、実験結果では、整流板の枚数は多いほ
ど膜厚分布の均一化の効果は大きくなるも、金属蒸気６
ａの圧力損失が増大して、所要の蒸発量が得られなくな
ることから結局蒸発量の程度に応じて適錨な枚数にする
ことが必要である。従って、ここで ゛は２枚の場合に
ついて述べることとする。
前記、２枚の整流板２０ａ及び２０ｂのうち、シャッタ
１０側２０ｂは、第２図に示す如く、多数の孔２１を、
はぼ等ピンチで千鳥状に板の全面にわたって貫設する。
１０側２０ｂは、第２図に示す如く、多数の孔２１を、
はぼ等ピンチで千鳥状に板の全面にわたって貫設する。
一方、巻付ロール４側の整流板２０ａは前記整流板２０
ｂと同一であるか、あるいは望ましくは第３図に示す如
く、シャッタ１ｏの取付位置及び標準開度に対応して、
孔２１の配列及びピッチを局部的に変更している。
ｂと同一であるか、あるいは望ましくは第３図に示す如
く、シャッタ１ｏの取付位置及び標準開度に対応して、
孔２１の配列及びピッチを局部的に変更している。
第３図の場合はシャッタ１０の取付位置及び開口位置は
ダクト７の上部にちるため、これに対応して整流板２０
ａの孔２１の上部数段（例示の場合は３段）は１段おき
に開口せず、板上部の開口比を下部の開口比より小さく
する。従って、両整流板２０ａ、２０ｂの開口面積比を
、それぞれ、−、＠ｂとするとｓ＆＜ １ｍ６となる。
ダクト７の上部にちるため、これに対応して整流板２０
ａの孔２１の上部数段（例示の場合は３段）は１段おき
に開口せず、板上部の開口比を下部の開口比より小さく
する。従って、両整流板２０ａ、２０ｂの開口面積比を
、それぞれ、−、＠ｂとするとｓ＆＜ １ｍ６となる。
このように開孔することによって蒸着膜厚分布が第４．
５図中実線す、 、 ｂ２で示すように、従来装置の場
合の分布曲線’１１ ’２にくらべて、良好な均−ｆが
得られることが実機において立証された。第４図は目標
蒸着膜厚が３０μ、第５図は５０μの場合の板幅方向の
膜厚分布の実測値を示す。
５図中実線す、 、 ｂ２で示すように、従来装置の場
合の分布曲線’１１ ’２にくらべて、良好な均−ｆが
得られることが実機において立証された。第４図は目標
蒸着膜厚が３０μ、第５図は５０μの場合の板幅方向の
膜厚分布の実測値を示す。
以上詳細に説明したように本発明装置では、金属蒸気（
Ｚｎ等）６１を蒸着基板（帯鋼等）の蒸着面へ導くダク
ト（チャンネル、）７内に金属蒸気５＆の流れ方向２に
直角に多孔板からなる１枚以上の整流板２０ｍ、２０ｂ
を取付けて、金属蒸気５＆のダクト７内の流れの乱れを
均一に整流することによって、蒸着膜厚を均一化するこ
とが可能となシ、めっき製品の品質向上ならびに蒸着金
属（Ｚｎ等）５の歩留りを向上させコスト低減を図るこ
とができた。
Ｚｎ等）６１を蒸着基板（帯鋼等）の蒸着面へ導くダク
ト（チャンネル、）７内に金属蒸気５＆の流れ方向２に
直角に多孔板からなる１枚以上の整流板２０ｍ、２０ｂ
を取付けて、金属蒸気５＆のダクト７内の流れの乱れを
均一に整流することによって、蒸着膜厚を均一化するこ
とが可能となシ、めっき製品の品質向上ならびに蒸着金
属（Ｚｎ等）５の歩留りを向上させコスト低減を図るこ
とができた。
第１図は本発明の一実施例に係る連続式真空蒸着装置の
概略構成図、第２及び３図は、それぞれ、第１図中Ａ−
Ａ及びＢ−Ｂ矢視による整流板の正面図、ｆｊ７ｇ４．
５図は、実機における板幅方向の蒸着膜厚分布曲線の計
測データ、第６図は従来の連続式真空蒸着装置の概略構
成図を示す。 １・・・蒸着基板、３・・・蒸着室、４・・・巻付ロー
ル、５・・・蒸着金属、５ａ・・・金属蒸気、６・・・
浴槽、７・・・ダクト、？・・・シャッタ、１１・・・
開口部、２０＆。 ２０ｂ・・・整流板、２・・・金属蒸気の流れ方向。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
概略構成図、第２及び３図は、それぞれ、第１図中Ａ−
Ａ及びＢ−Ｂ矢視による整流板の正面図、ｆｊ７ｇ４．
５図は、実機における板幅方向の蒸着膜厚分布曲線の計
測データ、第６図は従来の連続式真空蒸着装置の概略構
成図を示す。 １・・・蒸着基板、３・・・蒸着室、４・・・巻付ロー
ル、５・・・蒸着金属、５ａ・・・金属蒸気、６・・・
浴槽、７・・・ダクト、？・・・シャッタ、１１・・・
開口部、２０＆。 ２０ｂ・・・整流板、２・・・金属蒸気の流れ方向。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
Claims (1)
- 真空条件下で溶融金属を蒸発させる浴槽と、該金属蒸気
を被蒸着基板まで導くダクトと、前記浴槽の出口にあつ
て、その開口面積を自在に制御し得るシャッタとを具備
してなる連続真空蒸着装置において、前記ダクト内に金
属蒸気の流れ方向に対し直角に、かつ適宜間隔をおいて
少くとも１枚以上の多孔板からなる整流板を取付けてな
ることを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61234422A JPH0635656B2 (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61234422A JPH0635656B2 (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6389651A true JPS6389651A (ja) | 1988-04-20 |
| JPH0635656B2 JPH0635656B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=16970770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61234422A Expired - Fee Related JPH0635656B2 (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0635656B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0378890A (ja) * | 1989-08-23 | 1991-04-04 | Fuji Electric Co Ltd | 表形式文書情報の表示方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006111926A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57174458A (en) * | 1981-04-22 | 1982-10-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Construction of vessel for evaporating source |
| JPS6021379A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPS6173875A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 流路幅調整板付き真空蒸着装置 |
-
1986
- 1986-10-03 JP JP61234422A patent/JPH0635656B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57174458A (en) * | 1981-04-22 | 1982-10-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Construction of vessel for evaporating source |
| JPS6021379A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPS6173875A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 流路幅調整板付き真空蒸着装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0378890A (ja) * | 1989-08-23 | 1991-04-04 | Fuji Electric Co Ltd | 表形式文書情報の表示方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0635656B2 (ja) | 1994-05-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |