JPS6389651A - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

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JPS6389651A
JPS6389651A JP23442286A JP23442286A JPS6389651A JP S6389651 A JPS6389651 A JP S6389651A JP 23442286 A JP23442286 A JP 23442286A JP 23442286 A JP23442286 A JP 23442286A JP S6389651 A JPS6389651 A JP S6389651A
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duct
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vacuum deposition
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JP23442286A
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JPH0635656B2 (ja
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Kenichi Yanagi
謙一 柳
Heizaburo Furukawa
古川 平三郎
Mitsuo Kato
光雄 加藤
Toshio Taguchi
田口 俊夫
Etsuro Hirai
悦郎 平井
Norio Tsukiji
築地 憲夫
Takuya Aiko
愛甲 琢哉
Yoshiteru Moriyama
森山 義輝
Takehiko Ito
武彦 伊藤
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nippon Steel Nisshin Co Ltd
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nisshin Steel Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は付着量分布制御が可能な連続式真空蒸着装置に
関するものである。
〔従来の技術〕
帯鋼等の基板に連続的に、例えば、亜鉛等の金属をめっ
きする手段として連続式真空蒸着装置ユが使用されてい
るが、従来の連続式真空蒸着装置の概略構成を第6図に
よって説明する。
図中、1は帯蓮被蒸着基板)、2Fi複数のシール室か
らなる真空シール装置、3は蒸着室、4は帯鋼1をガイ
ドして通板させる巻付ロール、7は溶融した金属(亜鉛
等)5の蒸気5aを真空条件下で発生させ、浴槽6と金
属蒸気5aを帯鋼1まで導くダクト(チャンネル)でア
リ、連続真空蒸着装置は一般にこれらを主構成要素とし
て構成されている。
帯鋼1に蒸着させるに必要な金属蒸気量(蒸発りは、浴
槽6内に設置したヒータ8の電力と、浴槽6出口に設置
したシャッタ9を、例えば、シリンダ等の開閉装置10
で開閉して開口部11の面積を変えることによシ制御で
きる如く構成されている。
前記、浴槽6への溶融金属5は蒸着室3下部の溶解炉1
2から圧力差によシヌノーケル13を介して吸引・供給
される。
蒸着室3は管14及び弁15を介して真空ポンプ16に
接続し、通常、溶融金45の飽和蒸気圧力よシ低い圧力
に窒素(N2)  等の不活性ガスを介して保持されて
いる。なお、図中、矢印2は金属蒸気5aの流れ方向を
示す。
以上の構成であるから、運転に際しては、製造指令(鋼
種、板巾、板厚、通板速度、目標蒸着量等)にもとづい
て設定された蒸着速度(単位面積、単位時間当りの蒸着
量)に対応して蒸着室3の圧力を設定すると共に、蒸着
金属の所要蒸発量に対応させてヒータ8の電力とシャツ
タ9開度を調整することにょシ帯鋼1表面の蒸着量、す
なわち、蒸着膜厚を目標値に制御するものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、前記装置では、金属蒸気5aがシャッタ
9の開口部11を通過し之後、ダクト7内での流れが乱
れる九め帯641表面の蒸着金属の膜厚分布が不均一と
なり、とくに、板幅方向の分布に関しては、第4.5図
の実機における計測データ中、点線& 、* a 2で
示す如く、大きなばらつきが発生し、メッキ表品の品質
低下ならびく、蒸着むらによる蒸着金属の歩留シが低下
するという問題があった。
本発明は、かかる問題に鑑みて提案されたものであって
、つねに膜厚分布を均一に制御し、メッキ成品の品質向
上を図ると共【、蒸着金属の歩留)を向上させコスト低
減が可能な連続式真空蒸着装置を提案せんとするもので
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、前記問題を解決するために、ダクト(チャン
ネル)内に、金属蒸気の流れ方向Zに直角に、多孔板か
らなる整流板を1枚以上取付けて、金属蒸気の流れを均
一化させることKよシ、蒸着膜厚分布を均一圧する如く
真空蒸着装置を構成させたものである。
すなわち本発明は真空条件下で溶融金属を蒸発させる浴
槽と、該金属蒸気を被蒸着基板まで導くダクトと、前記
浴槽′の出口にあって、その開口面積を自在に制御し得
るシャッタとを具備してなる連続真を蒸着装置において
、前記ダクト内に金属蒸気の流れ方向に対し直角に、か
っ適宜間隔をおいて少くとも1枚以上の多孔板からなる
整流板を取付けてなることを特徴とする真空蒸着装置で
ある。
〔作用〕
シャッタの開閉によシその開口面積が設定され、所定量
の金属蒸気は整流板によりその流れを均一化されて被蒸
着基板上に均一に蒸着される。
〔実施例〕
以下、図面によって本発明をよシ具体的に説明する。
第1図は本発明の一実施例に係る連続式真空蒸着装置の
蒸着室及び蒸発槽の概略構成図、第2.3図は、それぞ
れ、第1図中A−^及びB−8矢視による整流板の正面
図を示すが、図中、従来装置(第6図)と同一部材には
同一符号を付し、重複する詳細構成説明は省略する。
本発明装置は、従来装置(第1図)におけるダクトZ内
に、金属蒸気5aの流れ方向2に対し直角に、かつ、適
宜間隔をおいて、少なくとも1枚以上(例示の場合は2
枚)の多孔板からなる整流板20a 、2(lbを取付
けて、ダクト7内の金属蒸気5aの流れを均一に整流さ
せることくよりて、蒸着膜厚分布を均一化せんとするも
のである。ここで整流板の設置枚数、孔の配列及び数量
に関しては、本出願人が実機において種々実験の結果決
定されたもので、実験結果では、整流板の枚数は多いほ
ど膜厚分布の均一化の効果は大きくなるも、金属蒸気6
aの圧力損失が増大して、所要の蒸発量が得られなくな
ることから結局蒸発量の程度に応じて適錨な枚数にする
ことが必要である。従って、ここで ゛は2枚の場合に
ついて述べることとする。
前記、2枚の整流板20a及び20bのうち、シャッタ
10側20bは、第2図に示す如く、多数の孔21を、
はぼ等ピンチで千鳥状に板の全面にわたって貫設する。
一方、巻付ロール4側の整流板20aは前記整流板20
bと同一であるか、あるいは望ましくは第3図に示す如
く、シャッタ1oの取付位置及び標準開度に対応して、
孔21の配列及びピッチを局部的に変更している。
第3図の場合はシャッタ10の取付位置及び開口位置は
ダクト7の上部にちるため、これに対応して整流板20
aの孔21の上部数段(例示の場合は3段)は1段おき
に開口せず、板上部の開口比を下部の開口比より小さく
する。従って、両整流板20a、20bの開口面積比を
、それぞれ、−、@bとするとs&< 1m6となる。
このように開孔することによって蒸着膜厚分布が第4.
5図中実線す、 、 b2で示すように、従来装置の場
合の分布曲線’11 ’2にくらべて、良好な均−fが
得られることが実機において立証された。第4図は目標
蒸着膜厚が30μ、第5図は50μの場合の板幅方向の
膜厚分布の実測値を示す。
〔発明の効果〕
以上詳細に説明したように本発明装置では、金属蒸気(
Zn等)61を蒸着基板(帯鋼等)の蒸着面へ導くダク
ト(チャンネル、)7内に金属蒸気5&の流れ方向2に
直角に多孔板からなる1枚以上の整流板20m、20b
を取付けて、金属蒸気5&のダクト7内の流れの乱れを
均一に整流することによって、蒸着膜厚を均一化するこ
とが可能となシ、めっき製品の品質向上ならびに蒸着金
属(Zn等)5の歩留りを向上させコスト低減を図るこ
とができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る連続式真空蒸着装置の
概略構成図、第2及び3図は、それぞれ、第1図中A−
A及びB−B矢視による整流板の正面図、fj7g4.
5図は、実機における板幅方向の蒸着膜厚分布曲線の計
測データ、第6図は従来の連続式真空蒸着装置の概略構
成図を示す。 1・・・蒸着基板、3・・・蒸着室、4・・・巻付ロー
ル、5・・・蒸着金属、5a・・・金属蒸気、6・・・
浴槽、7・・・ダクト、?・・・シャッタ、11・・・
開口部、20&。 20b・・・整流板、2・・・金属蒸気の流れ方向。 第1図 第2図     第3図 第4図 第5図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空条件下で溶融金属を蒸発させる浴槽と、該金属蒸気
    を被蒸着基板まで導くダクトと、前記浴槽の出口にあつ
    て、その開口面積を自在に制御し得るシャッタとを具備
    してなる連続真空蒸着装置において、前記ダクト内に金
    属蒸気の流れ方向に対し直角に、かつ適宜間隔をおいて
    少くとも1枚以上の多孔板からなる整流板を取付けてな
    ることを特徴とする真空蒸着装置。
JP61234422A 1986-10-03 1986-10-03 真空蒸着装置 Expired - Fee Related JPH0635656B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0378890A (ja) * 1989-08-23 1991-04-04 Fuji Electric Co Ltd 表形式文書情報の表示方法

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JP2006111926A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Hitachi Zosen Corp 蒸着装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57174458A (en) * 1981-04-22 1982-10-27 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Construction of vessel for evaporating source
JPS6021379A (ja) * 1983-07-18 1985-02-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 真空蒸着装置
JPS6173875A (ja) * 1984-09-17 1986-04-16 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 流路幅調整板付き真空蒸着装置

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