JPS63192859A - 連続式真空蒸着装置 - Google Patents
連続式真空蒸着装置Info
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- JPS63192859A JPS63192859A JP2358587A JP2358587A JPS63192859A JP S63192859 A JPS63192859 A JP S63192859A JP 2358587 A JP2358587 A JP 2358587A JP 2358587 A JP2358587 A JP 2358587A JP S63192859 A JPS63192859 A JP S63192859A
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 40
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野］
本発明は連続式真空蒸着装置に関し、特に該装置の金属
蒸気の付着量制御装置、さらに詳細には付着量分布制御
装置に関するものである。
蒸気の付着量制御装置、さらに詳細には付着量分布制御
装置に関するものである。
帯鋼等の基板に連続的に、例えば亜鉛等の金属をメッキ
する手段として連続式真空蒸着装置が使用されて＾る。
する手段として連続式真空蒸着装置が使用されて＾る。
この従来の連続式真空蒸着装置の概略構成ｔ−第５図に
よって説明する。
よって説明する。
第５図におりて、１に帯鋼（Ｍ着基板）、２は複数のシ
ール室からなる真空シール装置、３は蒸着室、４は帯鋼
１ｔ−ガイドして通板させる巻付ロール５は溶融し几金
属（例えば亜鉛など）、６はその金属蒸気、７は溶融金
属の浴槽、８は浴槽７で発生した金属蒸気６を帯鋼１ま
で導くダクト（チャンネル）、９はヒータ、１０はシャ
ッタ、１１はシャッタ１ｏの開閉装置（シリンダ）、１
２はシャッタ１ｏの開口部、１３に金属の溶解炉、１４
はスノヶール、１５は管、１６は弁、１７は真空ポンプ
である。なお２は金属蒸気６の流れ方向を示す。
ール室からなる真空シール装置、３は蒸着室、４は帯鋼
１ｔ−ガイドして通板させる巻付ロール５は溶融し几金
属（例えば亜鉛など）、６はその金属蒸気、７は溶融金
属の浴槽、８は浴槽７で発生した金属蒸気６を帯鋼１ま
で導くダクト（チャンネル）、９はヒータ、１０はシャ
ッタ、１１はシャッタ１ｏの開閉装置（シリンダ）、１
２はシャッタ１ｏの開口部、１３に金属の溶解炉、１４
はスノヶール、１５は管、１６は弁、１７は真空ポンプ
である。なお２は金属蒸気６の流れ方向を示す。
この装置においては、溶融し九金属５の蒸気６ｔ−真空
条件下で発生させ、該蒸気６全ダクト８會介して浴槽７
から帯鋼１に導くように構成されている。
条件下で発生させ、該蒸気６全ダクト８會介して浴槽７
から帯鋼１に導くように構成されている。
帯鋼１に蒸着させるに必要な金属蒸気量（蒸発量〕は浴
槽７内に設置し几ヒータ９の電力と浴槽７出口に設置し
次シャッタ１０ｔ−１例えばシリンダ等の開閉装置１１
で開閉して開ロ部１２０面積ｔ−変えることにより制御
できるように構成されている。
槽７内に設置し几ヒータ９の電力と浴槽７出口に設置し
次シャッタ１０ｔ−１例えばシリンダ等の開閉装置１１
で開閉して開ロ部１２０面積ｔ−変えることにより制御
できるように構成されている。
また前記浴槽７への溶融金属５は蒸着室３下部の溶解炉
１３から圧力差によりスノークル１４を介して吸引供給
される。
１３から圧力差によりスノークル１４を介して吸引供給
される。
蒸着室３は管１５及び弁１６ｔ−介して真空ポンプ１７
に接続し、通常、溶融金属５の飽和蒸気圧力より低い圧
力に窒素Ｎ、等の不活性ガスを介して保持されている。
に接続し、通常、溶融金属５の飽和蒸気圧力より低い圧
力に窒素Ｎ、等の不活性ガスを介して保持されている。
従来の連続式真空装置は以上の構成であるから、運転に
際しては、製造指令（鋼種、板巾、板厚、通板速度、目
標蒸着量等］にもとづいて設定され友蒸着速度（単位面
積、単位時間当りの蒸着量）に対応して蒸着室３の圧力
を設定すると共に、蒸着金属の所要蒸発量になるように
ヒータ９の電力とシャツタ１０開度を調整することによ
り帯鋼１表頁の蒸着量、すなわち、蒸着膜厚を目標値に
制御するようにしｔものである。
際しては、製造指令（鋼種、板巾、板厚、通板速度、目
標蒸着量等］にもとづいて設定され友蒸着速度（単位面
積、単位時間当りの蒸着量）に対応して蒸着室３の圧力
を設定すると共に、蒸着金属の所要蒸発量になるように
ヒータ９の電力とシャツタ１０開度を調整することによ
り帯鋼１表頁の蒸着量、すなわち、蒸着膜厚を目標値に
制御するようにしｔものである。
しかしながら、前記従来装置では、金属蒸気６がシャッ
タ１０の開口部１２を通過した後、ダクト８内での流れ
が乱れる几め帯鋼１表面の蒸着金属の膜厚分布が不均一
となり、とくに板幅方向の分布に関しては、第３図、第
４図の実機における計測データを示す図表中、点線ａｌ
。
タ１０の開口部１２を通過した後、ダクト８内での流れ
が乱れる几め帯鋼１表面の蒸着金属の膜厚分布が不均一
となり、とくに板幅方向の分布に関しては、第３図、第
４図の実機における計測データを示す図表中、点線ａｌ
。
ａｌで示すように大きなばらつきが発生し、メッキ成品
の品質低下ならひに蒸着むらによる蒸着金属の歩留りが
低下するという問題があった。
の品質低下ならひに蒸着むらによる蒸着金属の歩留りが
低下するという問題があった。
本発明はかかる問題に鑑み、つねに膜厚分布を均一に制
御し、メッキ成品の品質向上全図ると共に、蒸着金属の
歩留ｐｔ−向上させコスト低減が可能な連続式真空蒸着
装置を提供しようとするものである。
御し、メッキ成品の品質向上全図ると共に、蒸着金属の
歩留ｐｔ−向上させコスト低減が可能な連続式真空蒸着
装置を提供しようとするものである。
本発明は、前記問題を解決するために、ダクト（チャン
ネル〕内に、金属蒸気の流れ方向２に傾斜してき多孔板
からなる整流板ｔ−１枚以上取付けて、金属蒸気の流れ
を均一化させることにより、蒸着膜厚分布を均一にする
ように真空蒸着装置を構成させたものである。
ネル〕内に、金属蒸気の流れ方向２に傾斜してき多孔板
からなる整流板ｔ−１枚以上取付けて、金属蒸気の流れ
を均一化させることにより、蒸着膜厚分布を均一にする
ように真空蒸着装置を構成させたものである。
すなわち、本発明は真空条件下で溶融金属を蒸発させる
浴槽及び該金属蒸気を蒸着基板まで導くダクト及び前記
浴槽の出口にあって、その開口面積を自在に制御し得る
シャッタを具備してなる連続式真空蒸着装置において、
前記ダクト内に金属蒸気の流れ方向に対し傾斜して少な
くとも１枚以上の多孔板からなる整流板を取付けてなる
ことｔ−特徴とする連続式真空蒸着装置である。
浴槽及び該金属蒸気を蒸着基板まで導くダクト及び前記
浴槽の出口にあって、その開口面積を自在に制御し得る
シャッタを具備してなる連続式真空蒸着装置において、
前記ダクト内に金属蒸気の流れ方向に対し傾斜して少な
くとも１枚以上の多孔板からなる整流板を取付けてなる
ことｔ−特徴とする連続式真空蒸着装置である。
〔作用コ
ダクト内に設けられ九多孔板からなる整流板の作用によ
り、ダクト内を流れる金属蒸気の流れが均一化し、その
結果、蒸着基板への蒸着膜厚分布を均一にすることがで
きる。
り、ダクト内を流れる金属蒸気の流れが均一化し、その
結果、蒸着基板への蒸着膜厚分布を均一にすることがで
きる。
以上、図面によって本発明を具体的に説明する。
第１図は本発明の一実施例に係る連続式真空蒸着装置の
蒸着室及び蒸着槽の概略構成図、第２図は、第１図中Ａ
−Ａ矢視による整流板の正面図上水す。図中、従来装置
（第５図〕と同一部材には同一符号を付し、重複する詳
細構成説明は省略する。
蒸着室及び蒸着槽の概略構成図、第２図は、第１図中Ａ
−Ａ矢視による整流板の正面図上水す。図中、従来装置
（第５図〕と同一部材には同一符号を付し、重複する詳
細構成説明は省略する。
第１図において、本発明装置は、従来装置い５図〕にお
けるダク）８Ｐ’Ｅに、金属蒸気６の流れ方向２に対し
傾斜して少なくとも１枚以上（例示の場合は２枚；この
時には適宜間隔をおいて設ける〕の多孔板からなる整流
板２０ ａ、 ２０ｂｔ取付けて、ダクト８内の金属蒸
気６の流れを均一に整流させる。この結果、蒸着基板上
の蒸着膜厚分布を均一に維持するものである。ここで、
前記整流板の設置枚数、孔の配列及び数量に関しては、
実験結果では、整流板の枚数は多いほど膜厚、分布の均
一化の効果は大きくなるも、金属蒸気６の圧力損失が増
大して所要の蒸発量が得られなくなることから、蒸着室
の程度に応じて当然適当な枚数があるものである。従っ
てここでは２枚の場合について述べることとする。
けるダク）８Ｐ’Ｅに、金属蒸気６の流れ方向２に対し
傾斜して少なくとも１枚以上（例示の場合は２枚；この
時には適宜間隔をおいて設ける〕の多孔板からなる整流
板２０ ａ、 ２０ｂｔ取付けて、ダクト８内の金属蒸
気６の流れを均一に整流させる。この結果、蒸着基板上
の蒸着膜厚分布を均一に維持するものである。ここで、
前記整流板の設置枚数、孔の配列及び数量に関しては、
実験結果では、整流板の枚数は多いほど膜厚、分布の均
一化の効果は大きくなるも、金属蒸気６の圧力損失が増
大して所要の蒸発量が得られなくなることから、蒸着室
の程度に応じて当然適当な枚数があるものである。従っ
てここでは２枚の場合について述べることとする。
前記２枚の整流板２０ａ１及び２０１）は、第２図に示
すように、多数の孔２１ｔ−１はぼ等ピッチで千鳥状に
板の全面にわ友って貫設する例を示した。しかし、各多
孔板の孔の配列及び数量は場合に応じて変えてもよい。
すように、多数の孔２１ｔ−１はぼ等ピッチで千鳥状に
板の全面にわ友って貫設する例を示した。しかし、各多
孔板の孔の配列及び数量は場合に応じて変えてもよい。
このように多孔板を設置することによって蒸着膜分布が
第３図、第４図中実線ｂ１ ｍ ｂＭで示すように、従
来装置の場合の分布曲線’１ ｅ ａｌにくらべて艮好
な均一度が得られることが実機において立証された。第
３図は目標蒸着膜厚か３０μ、第４図は５０μの場合の
板幅方向の膜厚分布の実測値を示す。
第３図、第４図中実線ｂ１ ｍ ｂＭで示すように、従
来装置の場合の分布曲線’１ ｅ ａｌにくらべて艮好
な均一度が得られることが実機において立証された。第
３図は目標蒸着膜厚か３０μ、第４図は５０μの場合の
板幅方向の膜厚分布の実測値を示す。
以上、詳細に説明したように本発明装置では、金属蒸気
（Ｚｎ等）６ｔ−蒸着基板（帯鋼等）の蒸着面へ導くダ
クト（チャンネル）８内に、金属蒸気６の流れ方向２に
傾斜して、多孔板からなる１枚以上の整流板２０ａ、２
０ｂｔ−取付けであるので、金属蒸気６のダクト８内の
流れの乱れを均一に整流し、その結果蒸着基板上への蒸
着膜厚を均一化することが可能となり、メッキ成品の品
質向上ならびに蒸着金属（Ｚｎ等）５の歩留りを向上さ
せコスト低減を図ることができた。
（Ｚｎ等）６ｔ−蒸着基板（帯鋼等）の蒸着面へ導くダ
クト（チャンネル）８内に、金属蒸気６の流れ方向２に
傾斜して、多孔板からなる１枚以上の整流板２０ａ、２
０ｂｔ−取付けであるので、金属蒸気６のダクト８内の
流れの乱れを均一に整流し、その結果蒸着基板上への蒸
着膜厚を均一化することが可能となり、メッキ成品の品
質向上ならびに蒸着金属（Ｚｎ等）５の歩留りを向上さ
せコスト低減を図ることができた。
第１図は本発明の一実施例に係る連続式真空蒸着装置の
概略構成図、第２図は、第１図中入−ム矢視による整流
板の正面図、第３図、第４図は、実機、における板幅方
向の蒸着膜厚分布曲線の計測データを示す図表、第５図
は従来の連続式真空蒸着装置の概略構成図を示す。
概略構成図、第２図は、第１図中入−ム矢視による整流
板の正面図、第３図、第４図は、実機、における板幅方
向の蒸着膜厚分布曲線の計測データを示す図表、第５図
は従来の連続式真空蒸着装置の概略構成図を示す。
Claims (1)
- 真空条件下で溶融金属を蒸発させる浴槽及び該金属蒸気
を蒸着基板まで導くダクト及び前記浴槽の出口にあつて
、その開口面積を自在に制御し得るシャッタを具備して
なる連続式真空蒸着装置において、前記ダクト内に金属
蒸気の流れ方向に対し傾斜して少なくとも１枚以上の多
孔板からなる整流板を取付けてなることを特徴とする連
続式真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62023585A JPH0735567B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 連続式真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62023585A JPH0735567B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 連続式真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63192859A true JPS63192859A (ja) | 1988-08-10 |
| JPH0735567B2 JPH0735567B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=12114656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62023585A Expired - Lifetime JPH0735567B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 連続式真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0735567B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63192858A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式真空蒸着装置 |
| WO1996035822A1 (fr) * | 1995-05-10 | 1996-11-14 | Centre De Recherches Metallurgiques - Centrum Voor Research In De Metallurgie | Dispositif et installation pour revetir une bande d'acier |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6021379A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPS6067662A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-18 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 薄膜形成方法及びその装置 |
| JPS63192858A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式真空蒸着装置 |
-
1987
- 1987-02-05 JP JP62023585A patent/JPH0735567B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6021379A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPS6067662A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-18 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 薄膜形成方法及びその装置 |
| JPS63192858A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式真空蒸着装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63192858A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式真空蒸着装置 |
| WO1996035822A1 (fr) * | 1995-05-10 | 1996-11-14 | Centre De Recherches Metallurgiques - Centrum Voor Research In De Metallurgie | Dispositif et installation pour revetir une bande d'acier |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0735567B2 (ja) | 1995-04-19 |
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