JPS61270371A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS61270371A JPS61270371A JP11019985A JP11019985A JPS61270371A JP S61270371 A JPS61270371 A JP S61270371A JP 11019985 A JP11019985 A JP 11019985A JP 11019985 A JP11019985 A JP 11019985A JP S61270371 A JPS61270371 A JP S61270371A
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- JP
- Japan
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- vapor deposition
- evaporation
- plate
- pressure
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は真空蒸着装置に関し、特に蒸着膜厚を一定制御
するととができる真空蒸着装置に関する。
するととができる真空蒸着装置に関する。
（従来の技術）
従来の真空蒸着装置の概要を第４図に示す。
蒸着室２は、蒸発槽５、ヒータボックス４、チャンネル
６及びシャッタ７から構成され、連続蒸着ラインでは、
通板された巻付ロール９に巻付けられた板５がチャンネ
ル６出口で蒸発量Ｗｊ４１０で蒸着され、系外へ出され
る構成となっている。
６及びシャッタ７から構成され、連続蒸着ラインでは、
通板された巻付ロール９に巻付けられた板５がチャンネ
ル６出口で蒸発量Ｗｊ４１０で蒸着され、系外へ出され
る構成となっている。
蒸着室２全体は、真空槽１内にあシ、真空槽１は真空排
気できる排気ライン８が接続されている。
気できる排気ライン８が接続されている。
蒸着室２で蒸着めっきされた金属薄板５は、板幅方向（
通板方向に対して垂直）にめっき膜厚分布が、第５図に
示すようにめっき条件によって様々に変化することがテ
ストで判明した。
通板方向に対して垂直）にめっき膜厚分布が、第５図に
示すようにめっき条件によって様々に変化することがテ
ストで判明した。
このように膜厚分布が変わることに対して先に本発明者
らは、めっき条件（板幅、蒸発量）に対して真空検圧力
を変えて膜厚分布を均一する手段を提案した。（特願昭
５９−１１５１９ｓ参照）しかしながら上記提案方法で
は、排気系のパルプ操作が煩雑になる嫌いがあるという
欠点があった。
らは、めっき条件（板幅、蒸発量）に対して真空検圧力
を変えて膜厚分布を均一する手段を提案した。（特願昭
５９−１１５１９ｓ参照）しかしながら上記提案方法で
は、排気系のパルプ操作が煩雑になる嫌いがあるという
欠点があった。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、連続蒸着めっきラインにおいて、板幅方向の
めつき膜厚分布を均一化するために行っていた真空槽圧
力制御の代シに蒸着室の蒸気流動検討をもとに別機構を
蒸看室のチャンネル出口に設け、簡単にめつき膜厚分布
制御を行うことのできる真空蒸着装置を提供しようとす
るものである。
めつき膜厚分布を均一化するために行っていた真空槽圧
力制御の代シに蒸着室の蒸気流動検討をもとに別機構を
蒸看室のチャンネル出口に設け、簡単にめつき膜厚分布
制御を行うことのできる真空蒸着装置を提供しようとす
るものである。
（本発明者らの知見）
本発明者らは、板幅方向の膜厚分布には、チャンネル内
圧力と真空槽圧力との差の値が効くことを見出した。す
なわち、第１図に示すように１真空槽圧力？チヤンネル
内圧力と比べ、極端に低くすると板両端から蒸気がリー
クして板両端の膜厚分布が平均より低くなる（第１図℃
）参照）一方、真空槽圧力をチャンネル内圧力に近づけ
ると蒸着時の縮流の影響によシ板両端の膜厚分布が平均
より高くなる（第１図（ａ）参照）従って、チャンネル
内圧力に対して適切な真空槽圧力によシ膜厚分布分均−
化することが可能となることを確認した。
圧力と真空槽圧力との差の値が効くことを見出した。す
なわち、第１図に示すように１真空槽圧力？チヤンネル
内圧力と比べ、極端に低くすると板両端から蒸気がリー
クして板両端の膜厚分布が平均より低くなる（第１図℃
）参照）一方、真空槽圧力をチャンネル内圧力に近づけ
ると蒸着時の縮流の影響によシ板両端の膜厚分布が平均
より高くなる（第１図（ａ）参照）従って、チャンネル
内圧力に対して適切な真空槽圧力によシ膜厚分布分均−
化することが可能となることを確認した。
そしてこのチャンネル内圧力は、蒸発量ｔＧ）と蒸着面
積（ムＯ）Ｋよって決まる。Ｇ／ＡＣを蒸着速度という
が、蒸着速度が大きくなるに従いチャンネル内の蒸気圧
力が高くなる。
積（ムＯ）Ｋよって決まる。Ｇ／ＡＣを蒸着速度という
が、蒸着速度が大きくなるに従いチャンネル内の蒸気圧
力が高くなる。
従って、蒸着面積を変えればチャンネル内の蒸気圧力は
変化する。そこで、従来真空槽圧力で膜厚分布均一化を
計ってい九のに対して、真空槽圧力は変えずに蒸着面積
を蒸発量に応じて変化させることによって、めつき膜厚
の分布制御を行うことができるという知見に達した。
変化する。そこで、従来真空槽圧力で膜厚分布均一化を
計ってい九のに対して、真空槽圧力は変えずに蒸着面積
を蒸発量に応じて変化させることによって、めつき膜厚
の分布制御を行うことができるという知見に達した。
（問題点を解決するための手段）
本発明は上記の知見に基づいて完成されたものであって
連続真空蒸着装置において、蒸発槽と蒸着対象物とを結
ぶチャンネル出口に、蒸着対象物進行方向に沿い移動可
能で蒸着面積を任意に変え得る制御板を設けたことを％
徴とする真空蒸着装置である。
連続真空蒸着装置において、蒸発槽と蒸着対象物とを結
ぶチャンネル出口に、蒸着対象物進行方向に沿い移動可
能で蒸着面積を任意に変え得る制御板を設けたことを％
徴とする真空蒸着装置である。
本発明装置は連続真空蒸着めっきラインに有利に適用し
うる。
うる。
以下、本発明装置の一実施態様を第２図に従って詳述す
る。第２図において、（（転）は側面図、〜）は平面図
、（Ｃ）は蒸着速度制御板の詳細図である。
る。第２図において、（（転）は側面図、〜）は平面図
、（Ｃ）は蒸着速度制御板の詳細図である。
第２図において、第４図と同一符号に第４図と同一部分
を示す。
を示す。
蒸発は従来と同じく蒸発槽３内の溶融した金属の表面か
らその飽和温度よシ低い圧力に保持されたチャンネル６
に向って行われる。溶融金属への加熱はヒータ（図示せ
ず）で行う。蒸気１０はシャッタ７を通りチャンネル６
へ流出しチャンネル出口部で蒸着対象の金属薄板５へ蒸
着される。
らその飽和温度よシ低い圧力に保持されたチャンネル６
に向って行われる。溶融金属への加熱はヒータ（図示せ
ず）で行う。蒸気１０はシャッタ７を通りチャンネル６
へ流出しチャンネル出口部で蒸着対象の金属薄板５へ蒸
着される。
チャンネル乙の出口と蒸着対象とする金属薄板５との間
にチャンネル６の出口面積を変化させ該金属薄板５への
蒸着面積を任意に変更し得る蒸着速度制御板Ｐを設ける
。
にチャンネル６の出口面積を変化させ該金属薄板５への
蒸着面積を任意に変更し得る蒸着速度制御板Ｐを設ける
。
この蒸着速度制御板Ｐは、蒸発量、板幅に応じてチャン
ネル乙の出口面積を変化させ得るように、該制御板Ｐに
ラックＲを付設し、系外（Ｍ着室装置外）の駆動装置が
連がる駆動軸１１のビニオンＳと歯合せ、該軸１１を回
転させることにより制御板Ｐをチャンネル６内に進退さ
せることができるようにしている。蒸着速度制御板Ｐは
蒸着対象の金属薄板５とチャンネル６間から蒸気が漏れ
ないよう極力隙間を小さくする構造とすべきである。
ネル乙の出口面積を変化させ得るように、該制御板Ｐに
ラックＲを付設し、系外（Ｍ着室装置外）の駆動装置が
連がる駆動軸１１のビニオンＳと歯合せ、該軸１１を回
転させることにより制御板Ｐをチャンネル６内に進退さ
せることができるようにしている。蒸着速度制御板Ｐは
蒸着対象の金属薄板５とチャンネル６間から蒸気が漏れ
ないよう極力隙間を小さくする構造とすべきである。
蒸着対象物の幅と蒸着する膜厚が決まると蒸発流量が決
まる。蒸着速度制御板位置によシ蒸着面積が決まシ、蒸
着速度も決まる。
まる。蒸着速度制御板位置によシ蒸着面積が決まシ、蒸
着速度も決まる。
従って、上記制御板の位置を選択することによってチャ
ンネル内圧力が決まシ、真空槽圧力に対し適正な圧力と
することが可能となシ、板幅方向の膜厚分布の均一化を
行うことができる。
ンネル内圧力が決まシ、真空槽圧力に対し適正な圧力と
することが可能となシ、板幅方向の膜厚分布の均一化を
行うことができる。
第３図は本発明装置の他の実施態様を示す図で％ ８２
図に示すような巻付はロール９を用いない場合の態様を
示す図である。第３図の（ａ）。
図に示すような巻付はロール９を用いない場合の態様を
示す図である。第３図の（ａ）。
（ｂ）及び（０１は、第２図の（ａ） ｐ （ｂ）及び
（Ｃ）にそれぞれ該当する。
（Ｃ）にそれぞれ該当する。
第３図は、第２図の巻付はロール９かない以外は第２図
と基本的に同一構造であ夛、その操作及び効果は第２図
のものと同様である。
と基本的に同一構造であ夛、その操作及び効果は第２図
のものと同様である。
第１図は本発明装置の基礎となった知見を示す図表、第
２，３図はそれぞれ本発明の実施態様を示す図、第４図
は従来のめつき装置を示す図、第５図は従来装置の欠点
を示す図表であるＯ復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫 箆１図 −璽−− Ｑ５
２，３図はそれぞれ本発明の実施態様を示す図、第４図
は従来のめつき装置を示す図、第５図は従来装置の欠点
を示す図表であるＯ復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫 箆１図 −璽−− Ｑ５
Claims (1)
- 連続真空蒸着装置において、蒸発槽と蒸着対象物とを結
ぶチャンネル出口に、蒸着対象物進行方向に沿い移動可
能で蒸着面積を任意に変え得る制御板を設けたことを特
徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11019985A JPS61270371A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11019985A JPS61270371A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270371A true JPS61270371A (ja) | 1986-11-29 |
| JPH0558063B2 JPH0558063B2 (ja) | 1993-08-25 |
Family
ID=14529558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11019985A Granted JPS61270371A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61270371A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6114361B1 (ja) | 2015-11-02 | 2017-04-12 | ファナック株式会社 | オフラインのロボットプログラミング装置 |
-
1985
- 1985-05-24 JP JP11019985A patent/JPS61270371A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0558063B2 (ja) | 1993-08-25 |
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