JPS633949B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS633949B2
JPS633949B2 JP56198476A JP19847681A JPS633949B2 JP S633949 B2 JPS633949 B2 JP S633949B2 JP 56198476 A JP56198476 A JP 56198476A JP 19847681 A JP19847681 A JP 19847681A JP S633949 B2 JPS633949 B2 JP S633949B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
steel strip
vapor
evaporation
deposition chamber
zinc
Prior art date
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Expired
Application number
JP56198476A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58100675A (ja
Inventor
Kenichi Yanagi
Toshio Taguchi
Shigeo Itano
Tetsuyoshi Wada
Heizaburo Furukawa
Kanji Wake
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nippon Steel Nisshin Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nisshin Steel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd, Nisshin Steel Co Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP19847681A priority Critical patent/JPS58100675A/ja
Publication of JPS58100675A publication Critical patent/JPS58100675A/ja
Publication of JPS633949B2 publication Critical patent/JPS633949B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は鋼帯等の被蒸着基材に蒸着物質を連続
的に蒸着することのできる新規な連続真空蒸着装
置に関するものである。
第1図は従来使用されている鋼帯の片面に対す
る連続真空亜鉛蒸着装置で、巻戻リール2で巻戻
された鋼帯1は酸化炉または無酸化炉3に導入さ
れてその表面の油脂分の除去が行われ、ついで還
元炉4において表面の鉄酸化物が還元されるとと
もに焼鈍が施され、ついで冷却炉5において真空
蒸着に適当な温度迄冷却された後、大気に触れる
ことなく入口連続シール装置6を経て真空蒸着室
7に入る。蒸気室7の内部は真空に保持されてお
り、9は蒸発ルツボ、10は溶融亜鉛、11はル
ツボを加熱するヒータである。真空蒸着室に入つ
た鋼帯1はデフレクタロール8を経て、ルツボ9
の上を通過する際、溶融亜鉛10の溶液面より蒸
発した亜鉛蒸気が鋼帯の下面に蒸着してメツキ層
が形成される。メツキの終つた鋼帯はデフレクタ
ロール12、出口連続シール装置13を経て巻取
リール14に巻取られる。第1図において蒸着時
の鋼帯1は水平に通過するので、鋼帯の自重によ
り中央部が垂れ下つて図に示すように懸垂線が形
成される。懸垂量は鋼帯の自重即ち板厚と鋼帯に
加わる張力および支点間距離によつて変化する
が、実操業においては、たとえば0.3〜1.6mmのよ
うに広い範囲の板厚の鋼帯を通板する必要がある
ことや、また張力を一定に制御することが困難
で、張力の変動による鋼帯の上下方向のばたつき
が回避できないために、蒸発ルツボ9の上端と鋼
帯下面との間隙Cは、余裕をみて設定しておかね
ばならない。従つて上記間隙Cが大きくなり、蒸
気が該間隙より蒸発室7内に洩れる無効蒸気が増
大し亜鉛の消費歩留が低下するばかりでなく、前
記無効蒸気が蒸着室内壁やロール等に付着堆積す
るので、この付着物の除去の為に時間と人手を費
やし設備の稼動率が低下するという欠点があつ
た。またこのような従来装置は一般には片面のみ
しか蒸着することができず、両面を蒸着したい場
合の要求にこたえることができなかつた。
本発明は前記従来装置の欠点を改良するために
為されたもので、従来のような水平パスにおい
て、必然的に発生する懸垂線の垂れ下がりや板の
ばたつきを、鋼帯を縦パスとすることにより解消
または低減させ、鋼帯と蒸発ルツボ端との間隙を
著るしく小さくしたもので、本発明によれば亜鉛
の歩留りが向上するばかりでなく、無効蒸気によ
るトラブルも減少し、設備の稼動率が向上しコス
トの低減に効果があるものであつて、本発明は、
被蒸着基材を真空蒸着室内を縦方向に移送させる
手段と、真空蒸着室内に設けられた蒸発ルツボ
と、蒸発ルツボ上部とシヤツタを介して連通し、
被蒸着基材表面に近接して開口するチヤンネルと
からなることを特徴とする連続蒸着装置を要旨と
するものである。
第2図は本発明の一実施態様を示す。第2図は
於て1は鋼帯、2は巻戻リール、3は酸化炉、ま
たは無酸化炉、4は還元炉、5は冷却炉、6は入
口連続シール装置、7は真空蒸着室である。8は
デフレクタロールで鋼帯1が縦方向に蒸着室7を
通過するよう通板方向を変える。9は蒸発ルツ
ボ、10は亜鉛のような蒸発用溶融物である。1
1はルツボ9を加熱するヒータであり、15はチ
ヤンネルで蒸発ルツボ9で蒸発した亜鉛蒸気を鋼
帯面に導びく為のもの、16はチヤンネル用ヒー
タである。なお蒸発ルツボ9とチヤンネル15は
開口17で連通されており開口17には開閉自在
なシヤツタ18が設けられており、12はデフレ
クタロール、13は出口連続シール装置、14は
巻取リールである。
次に作用について説明すると第2図において、
鋼帯1は酸化炉または無酸化炉3において表面に
付着している油脂分の燃焼または蒸発除去が行わ
れ、ついで還元炉4において表面の鉄酸化物が還
元されるとともに焼鈍が施され、ついで冷却炉5
において蒸着に適当な温度に冷却された後大気に
触れることなく入口連続シール装置6およびデフ
レクタロール8を経て蒸着室7に入る。蒸着室7
の内部は非酸化性雰囲気で、10トール以下の真空
に保持されている。蒸発ルツボ9内で蒸発した亜
鉛蒸気は、開口17、シヤツタ18を通り、チヤ
ンネル15により方向をかえて縦方向に通板され
る鋼帯1に略々直角に衝突して鋼帯の片面にメツ
キ層を形成する。ヒータ16はチヤンネル15の
内面に亜鉛蒸気が蒸着しないようにチヤンネルを
加熱するためのものである。メツキが完了した鋼
帯1はデフレクタロール12、出口連続シール装
置13を経た後大気中に出て巻取リール14に巻
取られる。
第2図において鋼帯1は蒸着室7を縦方向にパ
スするので、従来の第1図のような鋼帯の自重に
よる垂れ下がりがなく、また張力の変動による鋼
帯のばたつきが著るしく少なくなる。従つてチヤ
ンネル先端と鋼帯との間隙C′を設備上可能な限度
迄小さくすることができる。さらに第2図の場合
間隙C′は通板する鋼帯の板厚には無関係である。
このため無効蒸気が従来に比し著るしく減少し、
亜鉛の消費歩留りが向上するとともに無効蒸気の
蒸着室内への付着堆積も減少し、トラブルが減少
し稼動率が向上する。
またシヤツタ18の開閉により蒸気の鋼帯1へ
の蒸着の開始あるいは停止を容易に行なうことが
できるので通板開始の際蒸発ルツボ9の蒸発レー
トを最適にしておき、鋼帯1が蒸着地点の直前に
きた時シヤツタ18を開くようにし、また通板の
最終において鋼帯1が蒸着地点を通過した直後に
シヤツタ18を閉じるようにすれば、蒸発物の歩
留りの減少とともに鋼帯のロスを最小限におさえ
ることができる。この場合、シヤツタ18の相手
である開口17の設置位置はチヤンネル15から
の蒸気の出口で19から遠くなるような位置の仕
切天井20に設けるのが、スプラツシユ(溶融金
属10の沸騰による液滴発生)対策上望ましい。
何故ならば蒸気出口から遠い方が、発生スプラツ
シユがチヤンネル15にトラツプされる確率が増
すからである。また、仕切天井20により発生蒸
気を開口17に集中的に絞ることにより開口17
を通過する蒸気が保有するエネルギーはほぼ均一
化されるので、基板1に蒸着された皮膜はほぼ均
質となるような派生効果も生ずる。また開口17
部は1箇所またはそれ以上あつてもかまわない。
第3図は本発明の別の実施態様を示し、チヤンネ
ル15の蒸気出口に蒸気噴出口19が設けられて
いる。この蒸気噴出口19は、蒸発蒸気の漏れを
減少させると共に、スプラツシユ対策をより効果
的に行うことができ、しかもある程度強い蒸気流
を得ることができるので、このような蒸気流を必
要とする場合等に好ましく適用される。
なお、前記例においては、鋼帯1に対する亜鉛
の片面蒸着について述べたが、蒸着室7にルツボ
10を対称にもう1基設けることにより、あるい
は蒸着室7を別に設けルツボをもう1基設けるこ
とにより鋼帯1の両面に同時メツキ層を形成する
ことができる。
これによりコンパクトな装置で、生産性を向上
できる。
また本発明は亜鉛蒸着に限定されるものではな
いことはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来使用されている鋼帯の片面に対す
る連続真空亜鉛蒸着装置の概略図、第2図は本発
明装置の一実施態様の概略図、第3図は本発明装
置の他の実施態様の要部の概略図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 被蒸着基材を真空蒸着室内を縦方向に移送さ
    せる手段と、真空蒸着室内に設けられた蒸発ルツ
    ボと、蒸発ルツボ上部とシヤツタを介して連通
    し、被蒸着基材表面に近接して開口するチヤンネ
    ルとからなることを特徴とする連続蒸着装置。
JP19847681A 1981-12-11 1981-12-11 連続蒸着方法及びその装置 Granted JPS58100675A (ja)

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JP19847681A JPS58100675A (ja) 1981-12-11 1981-12-11 連続蒸着方法及びその装置

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JPS58100675A JPS58100675A (ja) 1983-06-15
JPS633949B2 true JPS633949B2 (ja) 1988-01-26

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JPS546878A (en) * 1977-06-20 1979-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd Continuous vapor deposition apparatus

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