JPS59154642A - 耐摩耗性磁気記録体並にその製造法 - Google Patents
耐摩耗性磁気記録体並にその製造法Info
- Publication number
- JPS59154642A JPS59154642A JP58028466A JP2846683A JPS59154642A JP S59154642 A JPS59154642 A JP S59154642A JP 58028466 A JP58028466 A JP 58028466A JP 2846683 A JP2846683 A JP 2846683A JP S59154642 A JPS59154642 A JP S59154642A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal oxide
- thin film
- vapor
- oxide layer
- metal
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
近年8 mmmビデ中2014月−デイオ宿において高
密LC5−記録の要求が高まってきている。この要求に
応するため、Oo、 NfXFeやこれらの合金の金属
磁性薄膜を、メツ・Vや、蒸着、スパッタ法等により、
基利面上に形成した磁気記録体が開発された。この金属
磁性薄膜は、磁気モーメントが大きく、又高い保磁力を
得ることができるので、高密度記録牛1性はすぐねてい
るが、耐1;り純性において欠点があり、記録再生時に
、ヘッドと接触しろ゛がら走行Jると、すりきすが発生
したり、磁性膜が脱落したりすと)。特にヒゲオデーブ
として応用する場合、スヂル再生寿命が極めて虐−く、
実用−1−の障害になっている。
密LC5−記録の要求が高まってきている。この要求に
応するため、Oo、 NfXFeやこれらの合金の金属
磁性薄膜を、メツ・Vや、蒸着、スパッタ法等により、
基利面上に形成した磁気記録体が開発された。この金属
磁性薄膜は、磁気モーメントが大きく、又高い保磁力を
得ることができるので、高密度記録牛1性はすぐねてい
るが、耐1;り純性において欠点があり、記録再生時に
、ヘッドと接触しろ゛がら走行Jると、すりきすが発生
したり、磁性膜が脱落したりすと)。特にヒゲオデーブ
として応用する場合、スヂル再生寿命が極めて虐−く、
実用−1−の障害になっている。
発明者等は、こね」Eで、か\る欠点を改善するため、
磁性薄膜の表面に、高級脂肪酸、その金用塩、ンーミド
、ニスフルこれらの誘導体のようなit;6級脂肪酸系
ii’:j ?ff剤を、真空蒸着法によりその蒸着膜
を形成したものを提案し、た。
磁性薄膜の表面に、高級脂肪酸、その金用塩、ンーミド
、ニスフルこれらの誘導体のようなit;6級脂肪酸系
ii’:j ?ff剤を、真空蒸着法によりその蒸着膜
を形成したものを提案し、た。
又その後、磁性薄膜の表面を酸化させた後その表面に高
級脂肪酸系潤滑剤の蒸着膜を形成せしめることににす、
該潤滑剤蒸着膜の磁性薄膜に対する化学吸着力を増大せ
しめ、密着性が改善され、耐摩耗性等の優れた磁気記録
体を提案した。然し乍ら、特に、後者の場合、その磁性
薄膜の表面酸化は、特に、磁気テープの連続製造の場合
に、その走行Jる磁性薄膜の表面に、酸化性カスを当て
て、薄膜の表面全面を完全に酸化物層でお−うたぬには
、長時間を要し2、その最産性に問題がある。
級脂肪酸系潤滑剤の蒸着膜を形成せしめることににす、
該潤滑剤蒸着膜の磁性薄膜に対する化学吸着力を増大せ
しめ、密着性が改善され、耐摩耗性等の優れた磁気記録
体を提案した。然し乍ら、特に、後者の場合、その磁性
薄膜の表面酸化は、特に、磁気テープの連続製造の場合
に、その走行Jる磁性薄膜の表面に、酸化性カスを当て
て、薄膜の表面全面を完全に酸化物層でお−うたぬには
、長時間を要し2、その最産性に問題がある。
本発明はか\る問題を解消し、迅速確実に磁性薄膜の表
面に完全にl’l÷化物層で被七Nされた此lFi+(
耐掌耗性磁気記録体を提供するもので、基1(面に形成
した金属磁性薄膜1jji Lに、金属酸化物層を形成
(−2、その金属酸化物層表面に高級脂肪酸系潤滑剤の
蒸着膜を形成して成る。
面に完全にl’l÷化物層で被七Nされた此lFi+(
耐掌耗性磁気記録体を提供するもので、基1(面に形成
した金属磁性薄膜1jji Lに、金属酸化物層を形成
(−2、その金属酸化物層表面に高級脂肪酸系潤滑剤の
蒸着膜を形成して成る。
更に、本発明は、上記の磁気記録体の該潤滑剤の蒸着膜
を清浄な金に一4酸化物層面に形成してその化学吸着性
を良好にし、密着性、従って耐Ir耗性の優れたものを
製造する方法を提供するもので、基拐面上に金属磁性薄
膜を形成することと、該金属磁性薄膜面−1;に金属酸
化物層を重合形成することと、該金属酸化物E1表面に
高級脂肪酸系潤滑剤の蒸着膜を形成することとを連続的
に真空ドに於て行なうことを特徴とする。
を清浄な金に一4酸化物層面に形成してその化学吸着性
を良好にし、密着性、従って耐Ir耗性の優れたものを
製造する方法を提供するもので、基拐面上に金属磁性薄
膜を形成することと、該金属磁性薄膜面−1;に金属酸
化物層を重合形成することと、該金属酸化物E1表面に
高級脂肪酸系潤滑剤の蒸着膜を形成することとを連続的
に真空ドに於て行なうことを特徴とする。
次に本発明の実施例を添付図面につき説明する。
図面で(1)は、内部をスリット(2)をもつ区劃壁(
3)の2枚で3つの室(4) +51 (6)に区劃さ
れた真空処理容器示し、これら室(4)(5)(6)は
夫々の排気D +7) (81(9)を介して夫々の真
空ポンプ(図示しない)に接続されている。
3)の2枚で3つの室(4) +51 (6)に区劃さ
れた真空処理容器示し、これら室(4)(5)(6)は
夫々の排気D +7) (81(9)を介して夫々の真
空ポンプ(図示しない)に接続されている。
00)は各排気口に内在させた調節弁を示す。
図面で右端の室(4)は、その内部に1一部右側に巻き
出しローラー(11)と、中間中央部に水冷キャン(1
,2+と、下部右側偏位さセて、電子ビーム蒸発源03
)により加熱蒸発される強磁性金属aを収容したるつぼ
(14)とを配設した磁性金属真空蒸着用室に構成した
。中間の室(5)は、その内部に、中間中央部に水冷キ
ャン(151とその泊−トにこねに対向1.でSi 0
2 、 A 1.2 (llx 、 S i (1等の
金属酸化物すから成るターゲットをもつスバ゛′タリシ
ク゛装置(1G)を配設し、金JIT”J酸化物のスパ
ッタリング室に構成した。左端の室(6)は、上部左側
に巻き゛取りローラ(17)社、中間中央部に水冷ギヤ
> (+8+とその水冷キャン(laの直下に内部に高
級脂肪酸系4“・4滑剤Cを収容し7た加熱;(装置(
1翅を配設置、潤滑剤貞空蒸着用室に+1・ν成した3
、翰は、各室(41f5) (+1+内に人々N数個配
設し、たテ一一−7+行用ガイドローラーを示す〇上記
の]し2置を使用り、、本発明の(磁気記録体例えば磁
気7−ブを製41fする場合る一1悦明−する。
出しローラー(11)と、中間中央部に水冷キャン(1
,2+と、下部右側偏位さセて、電子ビーム蒸発源03
)により加熱蒸発される強磁性金属aを収容したるつぼ
(14)とを配設した磁性金属真空蒸着用室に構成した
。中間の室(5)は、その内部に、中間中央部に水冷キ
ャン(151とその泊−トにこねに対向1.でSi 0
2 、 A 1.2 (llx 、 S i (1等の
金属酸化物すから成るターゲットをもつスバ゛′タリシ
ク゛装置(1G)を配設し、金JIT”J酸化物のスパ
ッタリング室に構成した。左端の室(6)は、上部左側
に巻き゛取りローラ(17)社、中間中央部に水冷ギヤ
> (+8+とその水冷キャン(laの直下に内部に高
級脂肪酸系4“・4滑剤Cを収容し7た加熱;(装置(
1翅を配設置、潤滑剤貞空蒸着用室に+1・ν成した3
、翰は、各室(41f5) (+1+内に人々N数個配
設し、たテ一一−7+行用ガイドローラーを示す〇上記
の]し2置を使用り、、本発明の(磁気記録体例えば磁
気7−ブを製41fする場合る一1悦明−する。
該室(4)の巻き出しローラー(1pには、合rJ9、
樹脂製テープ基材(,411を隋きf=Iけ川()、1
7、その1端を導出し、水晶キー\・ン(12)の周面
を回動走行した後区劃壁(コ3)のスリツl−+21を
通り’:’1% (Eilに入りその水冷キャン((5
)の円周面を回動移行後、次の区劃壁(3)のスリット
(2)を通り室(6)の水冷ギ−\□>(18)の周面
を同$J)移行し、た後、巻き取りrJ−−チー(開に
巻き取られるように張π・)′する。
樹脂製テープ基材(,411を隋きf=Iけ川()、1
7、その1端を導出し、水晶キー\・ン(12)の周面
を回動走行した後区劃壁(コ3)のスリツl−+21を
通り’:’1% (Eilに入りその水冷キャン((5
)の円周面を回動移行後、次の区劃壁(3)のスリット
(2)を通り室(6)の水冷ギ−\□>(18)の周面
を同$J)移行し、た後、巻き取りrJ−−チー(開に
巻き取られるように張π・)′する。
かくしで、各室(4+ +51 +61を夫)くのJl
、c空ポンプで排気真空しその各室(4)(5)(6)
の真空度を夫々1×101〜5×10□4 ト −ル、
IXl[]’・−5X10−2トール、1〉ぐ10″
″″〜1×10’!−−−ルの範囲に設定する。か<b
−r、先づ室(4)においては、巻き解し70− チー
旧)より送り出される見料テーブ01)は、イ」着して
いるしん俟や水分等は除去され清浄面で水冷・)′ヤン
(I2)に送られ、その回動−1−降の過程でその表面
に、磁性金属蒸気aが斜め入射蒸着してその斜め入射蒸
着の金属′11′薄膜Aが形成される。この蒸着作業中
の真う′)フIO−け1ゝ<in’X〜5X11.1
’ )−ルの範囲で行な−)た。次に水冷・トヤン(1
1)を回動材fi’ する金属A’f IIQ Aをも
−)71にt4ブーツ゛(21)は、ン欠の室(5)の
水21′)キ〜゛ンqω+;’、+面に導かわ、その回
動移行する間に、スパッタリングにより:ヘパツタされ
た金jCi4陪什物のbをイの金属磁性薄膜への表向全
面に薄層に堆積付着1,5、その金属酸化物層Bを形成
される。その後見料テーブ(21jは、次の室(6)に
導入され、その水冷片ヤン(18)の周而4回IT!I
J科二?■1−1ぞの間(、そ17)1力がらt、:
pi L−。
、c空ポンプで排気真空しその各室(4)(5)(6)
の真空度を夫々1×101〜5×10□4 ト −ル、
IXl[]’・−5X10−2トール、1〉ぐ10″
″″〜1×10’!−−−ルの範囲に設定する。か<b
−r、先づ室(4)においては、巻き解し70− チー
旧)より送り出される見料テーブ01)は、イ」着して
いるしん俟や水分等は除去され清浄面で水冷・)′ヤン
(I2)に送られ、その回動−1−降の過程でその表面
に、磁性金属蒸気aが斜め入射蒸着してその斜め入射蒸
着の金属′11′薄膜Aが形成される。この蒸着作業中
の真う′)フIO−け1ゝ<in’X〜5X11.1
’ )−ルの範囲で行な−)た。次に水冷・トヤン(1
1)を回動材fi’ する金属A’f IIQ Aをも
−)71にt4ブーツ゛(21)は、ン欠の室(5)の
水21′)キ〜゛ンqω+;’、+面に導かわ、その回
動移行する間に、スパッタリングにより:ヘパツタされ
た金jCi4陪什物のbをイの金属磁性薄膜への表向全
面に薄層に堆積付着1,5、その金属酸化物層Bを形成
される。その後見料テーブ(21jは、次の室(6)に
導入され、その水冷片ヤン(18)の周而4回IT!I
J科二?■1−1ぞの間(、そ17)1力がらt、:
pi L−。
で来る潤11′)剤の蒸9f、がその全邑酬化物層)3
の表面に(’J)?7 L7、そσ)5款着膜Cが形成
され5る3、この喝含、全村1ゼ化’l’qIM n
Ci予め↓′J空トで形+1’、”、きね、その表面は
、潤滑剤の蒸′((、の密着11:をl(l[’i!i
ずイ)異′11すがt「いので、その蒸、(〆、 Mf
;sの該金九酸化1′1層表向にη1する化学+”+I
r を段着が良好で、’=1’ *’i性、而1L)、
・、耗・+7+□の優れた蒸オニt’ I11!、’L
が被覆形成されることと411′る0、かくして、その
製品磁’yj、 ’j’ −ブ■゛が該巻き取り)−、
+ +−チー(17)にイ()ら才[る 。
の表面に(’J)?7 L7、そσ)5款着膜Cが形成
され5る3、この喝含、全村1ゼ化’l’qIM n
Ci予め↓′J空トで形+1’、”、きね、その表面は
、潤滑剤の蒸′((、の密着11:をl(l[’i!i
ずイ)異′11すがt「いので、その蒸、(〆、 Mf
;sの該金九酸化1′1層表向にη1する化学+”+I
r を段着が良好で、’=1’ *’i性、而1L)、
・、耗・+7+□の優れた蒸オニt’ I11!、’L
が被覆形成されることと411′る0、かくして、その
製品磁’yj、 ’j’ −ブ■゛が該巻き取り)−、
+ +−チー(17)にイ()ら才[る 。
4r)、2図は(の製品1〆(5、し−フープPを示す
。
。
本発明によ才1ば、1:ζ金!+(鶴↑′1:ダ、l、
i 1lAj l;j、上記実施例のようi、−、、斜
めな5)”′I膜に限らず、ル”4空蒸3″F ?、1
4やスバパ・クリング法により垂直薄11・(に形Tr
’;、 t、、てもよい。又、;イタ金属1!n:p什
物層も、」−記イ1(11法に代えスバツ々リング法に
よる他、蒸着法や反応性〃くオ′1法に71、り形成し
、てもJ、い。又−1−記のfli、′l i)、+:
t、、↓゛l空−1・で仕叙ヨー1に作成し、−貫1で
!4 ’A〜(、−触ねさ−t* itいで製造する最
も好ましい手段であるが、必ずし7もこねに限らず、不
iす(続で外気に触れさ・ぜても酸化物層が、金属磁t
’l:薄膜の表面全面6゛被覆形成(7たものが迅速、
確実にでき、本発明の目的とする構成の磁気記録体を1
d産できることは云うまでもない。
i 1lAj l;j、上記実施例のようi、−、、斜
めな5)”′I膜に限らず、ル”4空蒸3″F ?、1
4やスバパ・クリング法により垂直薄11・(に形Tr
’;、 t、、てもよい。又、;イタ金属1!n:p什
物層も、」−記イ1(11法に代えスバツ々リング法に
よる他、蒸着法や反応性〃くオ′1法に71、り形成し
、てもJ、い。又−1−記のfli、′l i)、+:
t、、↓゛l空−1・で仕叙ヨー1に作成し、−貫1で
!4 ’A〜(、−触ねさ−t* itいで製造する最
も好ましい手段であるが、必ずし7もこねに限らず、不
iす(続で外気に触れさ・ぜても酸化物層が、金属磁t
’l:薄膜の表面全面6゛被覆形成(7たものが迅速、
確実にでき、本発明の目的とする構成の磁気記録体を1
d産できることは云うまでもない。
次に、−り記第1図の装置を使用12.9 II m厚
のPK“1゛基何テープ−F−にpo−,50,N、1
合金を、15 D D Aの厚さに斜め蒸着し、その蒸
着膜の」−向に種々の酸化物を使用し、厚さを変えて夫
々の酸化物J:+7を形成し、次いでその酸化物層の表
向に2 +ttf類の潤滑剤を厚さを変えてその夫]こ
の蒸着膜を形成した各種の本発明磁気テープにつき、弓
イン千幅にスリットしてVH8H8家庭用ビデタデツギ
り、スチル担止スず命を測定した。スチル再生寿命とし
ては、最初の担止出力が半分になる士での時間を測定し
た。
のPK“1゛基何テープ−F−にpo−,50,N、1
合金を、15 D D Aの厚さに斜め蒸着し、その蒸
着膜の」−向に種々の酸化物を使用し、厚さを変えて夫
々の酸化物J:+7を形成し、次いでその酸化物層の表
向に2 +ttf類の潤滑剤を厚さを変えてその夫]こ
の蒸着膜を形成した各種の本発明磁気テープにつき、弓
イン千幅にスリットしてVH8H8家庭用ビデタデツギ
り、スチル担止スず命を測定した。スチル再生寿命とし
ては、最初の担止出力が半分になる士での時間を測定し
た。
比較のため、酸化物層及び潤滑剤蒸着膜又はいづれか1
方を欠いた夫々の磁気テープ酸化物層の代りに金属粒子
の層と(また磁気・ンーーーブ0、−□ぎ、[司(X:
kニスづル(種牛に命を・1llli定した。
方を欠いた夫々の磁気テープ酸化物層の代りに金属粒子
の層と(また磁気・ンーーーブ0、−□ぎ、[司(X:
kニスづル(種牛に命を・1llli定した。
そσ)結果を1・゛記表1に示す。
表1
゛ X 庖13を基準値OdBとしたl、l、、の相
対値り記から明r:)かな通り、本発明に係る磁気テー
プは、ぞのスチル再生h゛命が著しく優れている。イー
σ)再生出力は、そのM’74滑剤蒸着膜を備えた場合
酸化物Jfjの膜ルfが500λ;上では減少が認めら
れなかった。これは潤滑剤蒸着膜を欠(Or酸化物層の
厚さ500Xの再生出力が−4clBであるサンプル煮
12と対比(−7で明らかなように、潤滑剤の蒸着膜を
設けた/、−めヘッドとのなじみが改善され、その担止
出力が10が維持されるものと考かられる。従って、一
般に本発明ではそのjlyさ約5ooX以下であること
が好まし2い。、 又、比較のためサンプル煮1の本発明の蒸着膜に代えぞ
の塗布膜とするときは、そのスチル再生寿命は3m1n
であり、効果がなかった。
対値り記から明r:)かな通り、本発明に係る磁気テー
プは、ぞのスチル再生h゛命が著しく優れている。イー
σ)再生出力は、そのM’74滑剤蒸着膜を備えた場合
酸化物Jfjの膜ルfが500λ;上では減少が認めら
れなかった。これは潤滑剤蒸着膜を欠(Or酸化物層の
厚さ500Xの再生出力が−4clBであるサンプル煮
12と対比(−7で明らかなように、潤滑剤の蒸着膜を
設けた/、−めヘッドとのなじみが改善され、その担止
出力が10が維持されるものと考かられる。従って、一
般に本発明ではそのjlyさ約5ooX以下であること
が好まし2い。、 又、比較のためサンプル煮1の本発明の蒸着膜に代えぞ
の塗布膜とするときは、そのスチル再生寿命は3m1n
であり、効果がなかった。
このように本発明に、1、る々きは、見料面上に金属磁
性薄膜を形成し、/、・7ものの而−にに金属酸化物層
を積層形成し、その金属酸化物層の[−面に高級脂肪酸
系潤滑剤の蒸着11’Jを形成し。
性薄膜を形成し、/、・7ものの而−にに金属酸化物層
を積層形成し、その金属酸化物層の[−面に高級脂肪酸
系潤滑剤の蒸着11’Jを形成し。
た磁気記録体としたので、そのスチル再生寿命は著しく
向上し、その製造は、金属酸化層で金属磁性薄膜全面を
迅速確実に被覆t7たものが迅速に得らね、犬hL生産
が可能であり、、走行性、耐摩耗性が良好である等の効
果を有する。
向上し、その製造は、金属酸化層で金属磁性薄膜全面を
迅速確実に被覆t7たものが迅速に得らね、犬hL生産
が可能であり、、走行性、耐摩耗性が良好である等の効
果を有する。
第1図は本発明の磁気記録体の製造法を実施する装置の
1部を截除した側面線図、第2図はその製品の1部を截
除した斜面図を示す。 (1)・・・貞望処理容器 f41 (5) f61・・・室 a・・・磁性金属 1)・・・金属酸化物 C・・・品級脂R1酸系潤渭剤 121+・・・左利 d・・・製品 A・・・磁性金属薄膜 11・・・金属酸化物層 C・・・潤滑剤蒸着膜 外2名
1部を截除した側面線図、第2図はその製品の1部を截
除した斜面図を示す。 (1)・・・貞望処理容器 f41 (5) f61・・・室 a・・・磁性金属 1)・・・金属酸化物 C・・・品級脂R1酸系潤渭剤 121+・・・左利 d・・・製品 A・・・磁性金属薄膜 11・・・金属酸化物層 C・・・潤滑剤蒸着膜 外2名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 、、1 基材面に形成した金属磁性薄膜面上に、金属酸
化物層を形成し、その金属酸化物層表面に高級脂肪酸系
潤滑剤の蒸着膜を形成し7て成る耐摩耗性磁気記録体。 2 該金属酸化物層の厚ざは、約500A以下である訪
3′I錆求の範囲1項に記載の耐摩耗性磁気記録体。 3 基材向上に金属磁性薄膜を形成することと該金属磁
性薄膜面上に金属酸化物バ・1をf(i合形成オること
ど、該金属酸化物層表面に高級脂肪酸系潤滑剤の蒸着膜
を形成することとを連続的に真空下に於て行なうことを
特徴とする耐摩4:1巳性磁気記録体の製ili法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58028466A JPS59154642A (ja) | 1983-02-24 | 1983-02-24 | 耐摩耗性磁気記録体並にその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58028466A JPS59154642A (ja) | 1983-02-24 | 1983-02-24 | 耐摩耗性磁気記録体並にその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59154642A true JPS59154642A (ja) | 1984-09-03 |
Family
ID=12249427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58028466A Pending JPS59154642A (ja) | 1983-02-24 | 1983-02-24 | 耐摩耗性磁気記録体並にその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59154642A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61115229A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-02 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
JPS61204832A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS62120630A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | Nec Corp | 磁気記憶体およびその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5255603A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-07 | Nec Corp | Magnetic memory element and production of same |
-
1983
- 1983-02-24 JP JP58028466A patent/JPS59154642A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5255603A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-07 | Nec Corp | Magnetic memory element and production of same |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61115229A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-02 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
JPS61204832A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH0465446B2 (ja) * | 1985-03-06 | 1992-10-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | |
JPS62120630A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | Nec Corp | 磁気記憶体およびその製造方法 |
JPH0534727B2 (ja) * | 1985-11-20 | 1993-05-24 | Nippon Electric Co |
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