JPH0558063B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0558063B2 JPH0558063B2 JP11019985A JP11019985A JPH0558063B2 JP H0558063 B2 JPH0558063 B2 JP H0558063B2 JP 11019985 A JP11019985 A JP 11019985A JP 11019985 A JP11019985 A JP 11019985A JP H0558063 B2 JPH0558063 B2 JP H0558063B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- channel
- plate
- film thickness
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 22
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 22
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は真空蒸着装置に関し、特に蒸着膜厚を
一定制御することができる真空蒸着装置に関す
る。
一定制御することができる真空蒸着装置に関す
る。
（従来の技術）
従来の真空蒸着装置の概要を第４図に示す。蒸
着室２は、蒸発槽３、ヒータボツクス４、チヤン
ネル６及びシヤツタ７から構成され、連続蒸着ラ
インでは、通板された巻付ロール９に巻付けられ
た板５がチヤンネル６出口で蒸発金属１０で蒸着
され、系外へ出される構成となつている。
着室２は、蒸発槽３、ヒータボツクス４、チヤン
ネル６及びシヤツタ７から構成され、連続蒸着ラ
インでは、通板された巻付ロール９に巻付けられ
た板５がチヤンネル６出口で蒸発金属１０で蒸着
され、系外へ出される構成となつている。
蒸着室２全体は、真空槽１内にあり、真空槽１
は真空排気できる排気ライン８が接続されてい
る。
は真空排気できる排気ライン８が接続されてい
る。
蒸着室２で蒸着めつきされた金属薄板５は、板
幅方向（通板方向に対して垂直）にめつき膜厚分
布が、第５図に示すようにめつき条件によつて
様々に変化することがテストで判明した。
幅方向（通板方向に対して垂直）にめつき膜厚分
布が、第５図に示すようにめつき条件によつて
様々に変化することがテストで判明した。
このように膜厚分布が変わることに対して先に
本発明者らは、めつき条件（板幅、蒸発量）に対
して真空槽圧力を変えて膜厚分布を均一する手段
を提案した。（特願昭59−113195参照）しかしな
がら上記提案方法では、排気系のバルブ操作が煩
雑になる嫌いがあるという欠点があつた。
本発明者らは、めつき条件（板幅、蒸発量）に対
して真空槽圧力を変えて膜厚分布を均一する手段
を提案した。（特願昭59−113195参照）しかしな
がら上記提案方法では、排気系のバルブ操作が煩
雑になる嫌いがあるという欠点があつた。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、連続蒸着めつきラインにおいて、板
幅方向のめつき膜厚分布を均一化するために行つ
ていた真空槽圧力制御の代りに蒸着室の蒸気流動
検討をもとに別機構を蒸着室のチヤンネル出口に
設け、簡単にめつき膜厚分布制御を行うことので
きる真空蒸着装置を提供しようとするものであ
る。
幅方向のめつき膜厚分布を均一化するために行つ
ていた真空槽圧力制御の代りに蒸着室の蒸気流動
検討をもとに別機構を蒸着室のチヤンネル出口に
設け、簡単にめつき膜厚分布制御を行うことので
きる真空蒸着装置を提供しようとするものであ
る。
（本発明者らの知見）
本発明者らは、板幅方向の膜厚分布には、チヤ
ンネル内圧力と真空槽圧力との差の値が効くこと
を見出した。すなわち、第１図に示すように、真
空槽圧力をチヤンネル内圧力と比べ、極端に低く
すると板両端から蒸気がリークして板両端の膜厚
分布が平均より低くなる（第１図ｂ参照）一方、
真空槽圧力をチヤンネル内圧力に近づけると蒸着
時の縮流の影響により板両端の膜厚分布が平均よ
り高くなる（第１図ａ参照）従つて、チヤンネル
内圧力に対して適切な真空槽圧力により膜厚分布
を均一化することが可能となることを確認した。
ンネル内圧力と真空槽圧力との差の値が効くこと
を見出した。すなわち、第１図に示すように、真
空槽圧力をチヤンネル内圧力と比べ、極端に低く
すると板両端から蒸気がリークして板両端の膜厚
分布が平均より低くなる（第１図ｂ参照）一方、
真空槽圧力をチヤンネル内圧力に近づけると蒸着
時の縮流の影響により板両端の膜厚分布が平均よ
り高くなる（第１図ａ参照）従つて、チヤンネル
内圧力に対して適切な真空槽圧力により膜厚分布
を均一化することが可能となることを確認した。
そしてこのチヤンネル内圧力は、蒸発量Ｇと蒸
着面積Acによつて決まる。Ｇ／Acを蒸着速度と
いうが、蒸着速度が大きくなるに従いチヤンネル
内の蒸気圧力が高くなる。
着面積Acによつて決まる。Ｇ／Acを蒸着速度と
いうが、蒸着速度が大きくなるに従いチヤンネル
内の蒸気圧力が高くなる。
従つて、蒸着面積を変えればチヤンネル内の蒸
気圧力は変化する。そこで、従来真空槽圧力で膜
厚分布均一化を計つていたのに対して、真空槽圧
力は変えずに蒸着面積を蒸発量に応じて変化させ
ることによつて、めつき膜厚の分布制御を行うこ
とができるという知見に達した。
気圧力は変化する。そこで、従来真空槽圧力で膜
厚分布均一化を計つていたのに対して、真空槽圧
力は変えずに蒸着面積を蒸発量に応じて変化させ
ることによつて、めつき膜厚の分布制御を行うこ
とができるという知見に達した。
（問題点を解決するための手段）
本発明は上記の知見に基づいて完成されたもの
であつて連続真空蒸着装置において、蒸発槽と蒸
着対象物とを結ぶチヤンネル出口に、蒸着対象物
進行方向に沿い移動可能で蒸着面積を任意に変え
得る制御板を設けたことを特徴とする真空蒸着装
置である。
であつて連続真空蒸着装置において、蒸発槽と蒸
着対象物とを結ぶチヤンネル出口に、蒸着対象物
進行方向に沿い移動可能で蒸着面積を任意に変え
得る制御板を設けたことを特徴とする真空蒸着装
置である。
本発明装置は連続真空蒸着めつきラインに有利
に適用しうる。
に適用しうる。
以下、本発明装置の一実施態様を第２図に従つ
て詳述する。第２図において、ａは側面図、ｂは
平面図、ｃは蒸着速度制御板の詳細図である。
て詳述する。第２図において、ａは側面図、ｂは
平面図、ｃは蒸着速度制御板の詳細図である。
第２図において、第４図と同一符号に第４図と
同一部分を示す。
同一部分を示す。
蒸発は従来と同じく蒸発槽３内の溶融した金属
の表面からその飽和温度より低い圧力に保持され
たチヤンネル６に向つて行われる。溶融金属への
加熱はヒータ（図示せず）で行う。蒸気１０はシ
ヤツタ７を通りチヤンネル６へ流出し、チヤンネ
ル出口部で蒸着対象の金属薄板５へ蒸着される。
の表面からその飽和温度より低い圧力に保持され
たチヤンネル６に向つて行われる。溶融金属への
加熱はヒータ（図示せず）で行う。蒸気１０はシ
ヤツタ７を通りチヤンネル６へ流出し、チヤンネ
ル出口部で蒸着対象の金属薄板５へ蒸着される。
チヤンネル６の出口と蒸着対象とする金属薄板
５との間にチヤンネル６の出口面積を変化させ該
金属薄板５への蒸着面積を任意に変更し得る蒸着
速度制御板Ｐを設ける。
５との間にチヤンネル６の出口面積を変化させ該
金属薄板５への蒸着面積を任意に変更し得る蒸着
速度制御板Ｐを設ける。
この蒸着速度制御板Ｐは、蒸発量、板幅に応じ
てチヤンネル６の出口面積を変化させ得るよう
に、該制御板ＰにラツクＲを付設し、系外（蒸着
室装置外）の駆動装置が連がる駆動軸１１のピニ
オンＳと歯合せ、該軸１１を回転させることによ
り制御板Ｐをチヤンネル６内に進退させることが
できるようにしている。蒸着速度制御板Ｐは蒸着
対象の金属薄板５とチヤンネル６間から蒸気が漏
れないよう極力〓間を小さくする構造とすべきで
ある。
てチヤンネル６の出口面積を変化させ得るよう
に、該制御板ＰにラツクＲを付設し、系外（蒸着
室装置外）の駆動装置が連がる駆動軸１１のピニ
オンＳと歯合せ、該軸１１を回転させることによ
り制御板Ｐをチヤンネル６内に進退させることが
できるようにしている。蒸着速度制御板Ｐは蒸着
対象の金属薄板５とチヤンネル６間から蒸気が漏
れないよう極力〓間を小さくする構造とすべきで
ある。
蒸着対象物の幅と蒸着する膜厚が決まると蒸発
流量が決まる。蒸着速度制御板位置により蒸着面
積が決まり、蒸着速度も決まる。
流量が決まる。蒸着速度制御板位置により蒸着面
積が決まり、蒸着速度も決まる。
従つて、上記制御板の位置を選択することによ
つてチヤンネル内圧力が決まり、真空槽圧力に対
し適正な圧力とすることが可能となり、板幅方向
の膜厚分布の均一化を行うことができる。
つてチヤンネル内圧力が決まり、真空槽圧力に対
し適正な圧力とすることが可能となり、板幅方向
の膜厚分布の均一化を行うことができる。
第３図は本発明装置の他の実施態様を示す図
で、第２図に示すような巻付けロール９を用いな
い場合の態様を示す図である。第３図のａ，ｂ及
びｃは、第２図のａ，ｂ及びｃにそれぞれ該当す
る。
で、第２図に示すような巻付けロール９を用いな
い場合の態様を示す図である。第３図のａ，ｂ及
びｃは、第２図のａ，ｂ及びｃにそれぞれ該当す
る。
第３図は、第２図の巻付けロール９がない以外
は第２図と基本的に同一構造であり、その操作及
び効果は第２図のものと同様である。
は第２図と基本的に同一構造であり、その操作及
び効果は第２図のものと同様である。
第１図は本発明装置の基礎となつた知見を示す
図表、第２，３図はそれぞれ本発明の実施態様を
示す図、第４図は従来のめつき装置を示す図、第
５図は従来装置の欠点を示す図表である。
図表、第２，３図はそれぞれ本発明の実施態様を
示す図、第４図は従来のめつき装置を示す図、第
５図は従来装置の欠点を示す図表である。
Claims (1)
- １ 連続真空蒸着装置において、蒸発槽と蒸着対
象物とを結ぶチヤンネル出口に、蒸着対象物進行
方向に沿い移動可能で蒸着面積を任意に変え得る
制御板を設けたことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11019985A JPS61270371A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11019985A JPS61270371A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270371A JPS61270371A (ja) | 1986-11-29 |
| JPH0558063B2 true JPH0558063B2 (ja) | 1993-08-25 |
Family
ID=14529558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11019985A Granted JPS61270371A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61270371A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102016012779A1 (de) | 2015-11-02 | 2017-05-04 | Fanuc Corporation | Offline-Roboterprogrammiervorrichtung |
-
1985
- 1985-05-24 JP JP11019985A patent/JPS61270371A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102016012779A1 (de) | 2015-11-02 | 2017-05-04 | Fanuc Corporation | Offline-Roboterprogrammiervorrichtung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61270371A (ja) | 1986-11-29 |
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