JPH01152262A - ウエブに被覆を形成する方法および装置 - Google Patents

ウエブに被覆を形成する方法および装置

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JPH01152262A
JPH01152262A JP63249188A JP24918888A JPH01152262A JP H01152262 A JPH01152262 A JP H01152262A JP 63249188 A JP63249188 A JP 63249188A JP 24918888 A JP24918888 A JP 24918888A JP H01152262 A JPH01152262 A JP H01152262A
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coating
gas
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JP63249188A
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English (en)
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Ashok W Vaidya
アショク ワスデオ バイディア
James L S Wales
ジェームス ランス サンダー ウェールズ
Robert A Woolley
ロバート アレックス ウーリー
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EMI Group Ltd
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Thorn EMI PLC
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates

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  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はウェブ上に被覆を形成する方法および装置に関
する。特に、本発明は可撓性の基体上にFl 112を
蒸着することに関し、例えばコバルト・ニッケルのよう
な磁性材料の蒸着された薄膜を記録媒体とする記録用テ
ープを作製するために使用するのに適している。
可撓性材料のウェブには、例えばアイ・イー・アール・
イー会議録第54号1983年によるビデオおよびデー
タ記録に関する第4回国際会議の議事録に発表されたワ
イ・マエザワばかによる「蒸着による金属薄膜テープ」
という論文に記載されているようなロールコーティング
装置で金属薄膜が連続的に被覆されうる。この装置では
、プラスチック・ウェブが蒸着源の上方に配置された回
転冷却ドラムにきつく巻きつけられる。蒸着時のプラス
チック・ウェブ材料は、凝縮金属からのおよび蒸着速度
にともなって増大する放射熱からの非常に高い熱負荷を
受取り、高いコーティング速度で動作する場合には、こ
の熱負荷がウェブ材料にドラム上でしわをつけたり折り
目をつけ、永久的な…傷を与えることになりうる0例え
ば記録用テープのための12μのポリエチレン・テレフ
タレートよりなるウェブにコバルト・ニッケルのt O
Onm膜を被覆する場合には、そのウェブに対する被M
(コーティング)の直lvi!速度が約10メ一トル/
分を超えると上述のような永久的なjp傷が生ずること
が一般に認められている。ウェブと冷却ドラムとの間の
熱伝導が被覆時におけるウェブの温度上昇を規制するの
に重要な役割を果し、かつ所定のウェブ・改組合せに対
する被覆速度に対する上限を設定する。
回転ドラムが固定冷却ガイドに置換された他の被M装置
が米国特許第4451501号に開示されている。その
装置でも、ウェブとガイドとの間の熱転4がウェブの温
度上昇を規制するのに同様に重要な役割を果す。
本発明の1つの目的はウェブと冷却部材との間に増大さ
れた熱伝導を有する改良された真空蒸着装置を提供する
ことである。
従来の被覆装置は比較的ffl+6の大きい条件下で回
転ドラムまたは固定冷却ガイドと接触したウェブと協働
する。加熱されたウェブがドラムまたは冷却ガイドと摩
擦接触した状態で横方向に膨張することに基因してその
ウェブの付加的な折目が導入されうる。
本発明の他の目的は、ウェブに被IWを形成するための
装置において、被覆を被着すべきウェブを被覆被着ステ
ーションに送る手段と、 前記被覆被着ステーションにおいて前記ウェブを支持す
る手段と、 前記被覆被着ステーションにおいて前記ウェブに被IW
を添着する手段と、 前記ウェブと前記支持手段との間の?■域内にガスを駆
動する手段を具備する改良された蒸着装置を提供するこ
とである。
このようにして、受容しうる晶質の被覆されたウェブの
作製速度が高められうる。
ガスは1以上の細いジェット(噴流)および/または1
以上の広い流れの形で注入されうる。あるいは、そのガ
スは1つの点または線に集結されるようにして注入され
てもよい、好ましくは、前記ガス駆動手段は、ウェブと
前記支持手段がそれら間に効果的な接触を生ずるために
収斂する領域にガスの1つのジェットまたは複数の離間
されたジェットを注入するための手段を具備する。付加
的にまたは代替的に、上記ガス駆動手段はガスの流れを
出すための少なくとも1つの開孔を有するノズルにガス
を流すための導管を具備する。
好ましくは、注入手段は、前記収斂領域から遠隔の巻取
りゾーンへのガスの漏洩を防止しかつウェブと支持手段
の間のガスの捕捉を向上させるようになされている。こ
のようにして、この注入手段は支持手段とウェブとの間
に親密嵌着し、巻取りゾーン圧力を実質的に上昇させる
ことなしに高い圧力が収容されうるようになされうる。
好ましくは、前記支持手段は多孔質材料よりなる少なく
とも1つの部分を有し、かつ前記注入手段はその多孔質
の部分を通じてガスを駆動するための手段を具備してい
る。
本発明はウェブを金属化するのに特に適している。従っ
て、好ましくは、本発明の装置は被覆被着ステーション
でウェブに金層化蒸気を適用するための手段を具備する
。しかし、本発明はウェブに非金属材料を被覆する適当
な方法にも適用しうる。
前記支持手段は冷却手段を有する回転可能なドラムまた
は静止したガイド・プレートを具備しうる。後者の場合
には、本発明によって得られるウェブと支持手段との間
の軽減された1’?!1’fA効果のために、機械的振
動装置を設ける必要をなくしうる。
本発明は、ウェブに被覆を形成する方法においC1 被覆を被着すべきウェブを被覆被着ステーションに送り
、 前記被rii被着ステーションにおいて前記ウェブを支
持し、 前記ウェブと前記被覆被着ステージ巧ンにおいて前記ウ
ェブを支持する手段との間の領域内にガスを駆動し、 m1記被覆被着ステーシッンにおいて前記ウェブに被覆
を添着することよりなるウェブに被覆を形成する方法を
も提供する。
好ましくは、この方法は、ウェブと支持手段がそれら間
に有効な接触を生じさせるために収斂する領域にガスの
1つのジェットまたは複数の離間されたジェットを注入
することを含む。
また好ましくは、この方法は、ガスの流れを流出させる
ための少なくとも1つの開孔を有するノズルまで導管に
沿ってガスを流すことを含む。
この方法は支持手段の少なくとも1つの多孔質部分を通
じてガスを駆動することを含んでいてもよい。
本発明では、被覆材料に適した任意のガスが用いられう
る。蒸着によって材料を沈積させるのに適しうる他のガ
スとしては酸素、アルゴンおよび水蒸気がある。
本発明路;金属化されたウェブの作製(例えば磁気記録
テープ、コンデンサおよび他の電子部品、あるいは装飾
用フィルムを製造する場合)および非金属材料を被覆さ
れたウェブの作製(例えば光学的記録テープを製造する
場合)に適用しうる。
以下図面を参照して本発明の実施例につき説明しよう。
第1図の装置のレイアウトは、磁性膜を蒸着した記録テ
ープを作成するための従来の半連続ロールコーティング
装置と一般的に同様である。従って、プラスチックベー
スフィルムのウェブが、供給スプールlから、内部に冷
却流体を連続的に循環される中空の回転冷却ドラム3を
通って巻取りスプール2に供給される。典型的にはコバ
ルト・ニッケル合金である原料金属4が電子ビーム・ヒ
ータ(図示せず)によってるつぼ5内で加熱され、この
場合、マスク・シールド6は、その原料金属がプラスチ
ック・ウェブ材料にこのウェブ材料が大きい入射角でド
ラムと接触しているあいだに蒸着されるようにする。ゴ
ムニップローラ7がウェブ材料をドラムに軽く押しつけ
る。ドラム幅は典型的には730fiのオーダーであっ
て、幅700鰭のウェブに被着できるようにし、ドラム
直径は典型的には1.5メートルのオーダーである。こ
の構体が2つの隔室を有する蒸着チャンバに1(g付け
られている。右側の隔室8は蒸着ゾーンであり、その中
にるつぼ5、電子ビーム・ヒータおよびシールド6が収
納されている。左側の隔室9は巻取りゾーンであり、こ
の中には供給スプールおよび巻取りスプール1,2と、
ニンブローラが入れられている。S取りゾーンには公知
の態様で付加的なガイドおよびテンシラン・ローラが設
けられうる。蒸着および巻取りゾーンは壁部分IOおよ
び11によって分離されており、ドラム面に近接して熱
伝導の小さいシール12.13が設けられており、巻取
りゾーンから蒸着ゾーン内への汚染物質の侵入を最少比
に抑える。蒸着ゾーンと巻取りゾーンは出口管14.1
5によって真空ポンプ(図示せず)に別々に連結するこ
とができ、被IW作業に先立って、各ゾーンは通常約1
O−4ミリバールの圧力まで引かれる。上述した構成要
素は、ベースフィルムが被覆時にドラムの周面に親密に
摩擦接触して走行する従来の”A’Rに用いられてい本
発明のこの実施例では、ウェブが冷却ドラム上に配置さ
れる位置においてベースフィルムとそのドラムの間にガ
スを注入する手段が設けられる。
噴射ノズル1Gがウェブの全幅・を実質的に横切って、
この位置におけるウェブとドラムとの間に配:6されて
いる。第2図に示されたノズル16は、テーパをつけら
れた土壁および下壁を具備して閉塞された中空構造を存
している。典型的には直径が1.5龍でピッチが15■
鴫の取出穴16aの列が正面壁に設けられ、ノズルの後
壁に連結された取入管17がチャンバの外側におけるガ
ス供給源Gに連通している。ノズル16の寸法と、それ
のドラム3およびベースフィルムに対する位置決めは、
ノズル出口とドラム/ベースフィルムとの間の170隙
(ギャップ)が約1−一となるように選定される。
コバルト・ニッケルを沈積するためのガス供給源は適当
に通常の雰囲気であり、ガスの導入はニードル弁18に
よって制御されうる。取入管はチャンバの1つの壁を貫
通しており、適当な真空シール19が設けられている。
蒸着に先立って、ニードル弁18が閉塞され、蒸着ゾー
ンと巻取りゾーンが両方とも約10−4ミリバールの圧
力まで脱気される0次に、1−10ミリバールのオーダ
ーの局部化された圧力でベースフィルムとドラムとの間
の領域式に空気を噴射するためにニードル弁が開かれ、
この空気の噴射が被覆作業全体にわたって維持される。
このような空気の噴射がベースフィルムと冷却ドラムと
の間の境界面における熱の伝4を助長することが認めら
れ、ベースフィルムを破…させることなしに、30〜9
0メ一トル/分のウェブ速度で12マイクロメートルの
ポリエチレン・テレフタレートのベースフィルムに11
00nのコバルト・ニッケルを被覆することができた。
このように被覆されたウェブから分離された記録テープ
は満足しうる性能を有していた。それとは対照的に、従
来の条件下で作業°する場合には、被1!作業の全体に
わたヮて弁18が完全に閉塞され、被覆工程を10メ一
トル/分より速い速度で実行しようとすると、ベースフ
ィルムが永久的な折れ目やしわをつけられて著しいt]
傷を受けた。空気を噴射することにより、ベースフィル
ムの被覆時にそのベースフィルムとドラムの対向面間に
薄いエア・フィルムおよび/またはエア・ポケットが生
じ、このフィルム/ポケットが、そのドラムとベースフ
ィルムの対向面に微細な表面凹凸が存在していても、そ
のベースフィルムとドラムの間に連続した熱転、isを
設け、それによりこれらの対向面間の熱伝導を増大させ
るものと考えられる。ガスを噴射しない場合とガスを噴
射した場合との比較的な摩擦値を測定するとエア・フィ
ルムが存在することがわかる。ガスを噴射しない場合に
は、摩擦係数の測定値は0.26であったが、ガスを噴
射した場合には、そのPJ擦係数は0.OI以下に低下
する。第3図は空気噴射の4つの値に対するウェブ速度
の関数としてドラム・ウェブ間のPIf擦を示すグラフ
であり、ウェブのそれがドラムを離れるときのテンショ
ンは50kgfである。また、ドラムとウェブの熱転m
の測定値は、ガス噴射した場合には少なくとも10倍改
停されることを示している。
少量の空気が伝導シール12.13を通じて蒸着ゾーン
内に漏れかつベースフィルムの側部から漏れるが、この
ような漏れはコバルト・ニッケルを被着されたフィルム
の特性には嬰影響を及ぼすことはなかった。蒸着ゾーン
内に他の雰囲気が必要とされる場合には、酸素、アルゴ
ンまたは水蒸気のような他のガスを噴射しうる。
ゴムニップローラフの位置において、ベースフィルムが
ドラムに接触するが、驚くべきことには、この接触はエ
アフィルムが蒸着ゾーンに到達するのを妨げる障壁を与
えないことが理解されるであろう、ニップローラを用い
た場合に得られる満足な結果は、そのよう°な接触が実
際には完全ではなく、熱を伝4するエアフィルムを与え
かつウェブがニップローラを離れた後で非常に小さい摩
擦をもってドラム上を通過するのに十分な空気が、互い
に接触する凹凸間の微小空乏内で圧縮されることによる
ものと考えられる。しかし、ニップローラは本発明にと
って不可欠なものではなく、他の実施例では、そのニッ
プローラの代りに、巻取りゾーンにおけるドラムの下流
に配置されたモータで駆動されるキャプスタン・モータ
が用いられうる。
真空蒸fJ技術の多くの用途では大きい入射角を必要と
しない、そのような用途としては、アルミ化された装飾
用箔およびコンデンサや他の電気部品に使用するための
金属化されたプラスチックフィルムを含む0本発明は第
4図の装置に示されているようにこのような用途に容易
に適用されうるちのであり、第4図の’21では、巻取
りゾーン9が蒸着ゾーン8の直接上方に存在し、るつぼ
5と蒸着源4は被覆時にベースフィルムを最大限カバー
するためにドラム軸線の直接下方に存在している。第4
図では第1図に対応する参照番号を用いている。
本発明の他の実施例は回転冷却ドラムに関して固定した
冷却ガイドを利用しうる。従来の構成では、米国特許第
4451501号に開示されているように、ウェブは固
定した冷却ガイドに摺動接触して進行し、かつ摩擦を許
容レベルに軽減するために、その冷却ガ・イドを機械的
に振動させるための手段が設けられていた。
第5図はコバルト・ニッケル記録媒体をウェブにM着す
るのに適した本発明の実施例を示している。蒸着チャン
バはM着ゾーン21の上方に配置された巻取りゾーン2
0を具備している。プラスチック・ウェブが供給スプー
ル22から固定した凸状冷却ガイド23を通って巻取り
スプール24に巻取られる。凸状のガイドの下方のモー
タで駆動されるキャプスタン25がウェブの速度を制御
し、ウェブの上流にガイドローラ2Gが設けられている
。凸状のガイド23は中空状であり、冷却流体は取入口
23Aおよび取出口23Bを通じて連続的に循環する。
そのガイドは蒸着るつぼ27の上方に配置されており、
かつシールド28を組合せて、大きい入射角度で蒸着す
るのに適した輪郭となされている。固定ガイドの入口面
29にはテーバがつけられており、第2rgJのインダ
クタと一般的に同様の構造を有するガス・インゼクタノ
ズル30が被覆工程時にウェブと入口面29との間にガ
スを噴射して、固定ガイドとプラスチックウェブの間の
境界面に薄いエアフィルムが形成されるようになされて
いる。
壁31,32は、熱伝導の小さいシール33.34とと
もに、巻取りゾーンと蒸着ゾーンを分離しており、これ
らのゾーンを別々に脱気するための取出口35および3
6が設けられている。ウェブと固定ガイドとの間の境界
面における薄いエアフィルムは、本発明の前述した実施
例と同様に、蒸発した金属が凝縮する場合にガイド23
に改良された熱伝導を与え、それによりベースフィルム
を破損することなしにより高い巻取り速度を可能にする
。さらに、ウェブは実質的に摩擦のない状態でガイドを
通り、ガイドを機械的に振動させる必要はない。
固定した冷却ガイドを用い、大きい入射角を必要としな
い用途に適した本発明の実施例が第6図に示されている
。冷却ガイドは、被覆時にベースフィルムを最大限にカ
バーするために、シールドをともなわないで、実質的に
水平に取付けられている。第6図は第5図と同様の参照
番号を用いており、装飾用のアルミ化された箔の高速被
覆に適している。第5図および第6図のガス噴射ノズル
には第1図および第4図の実施例と同様のB様でガス取
入管が設けられており、通常の空気雰囲気または他の適
当なガスと同様に連通しうる。
図示された実施例に対する変形例では、ドラムまたは固
定支持体は、ドラム/支持体とベースフィルムの間にガ
ス層または膜を形成するためにガスが通過される多孔質
材料で形成される。この特徴はガスのノズル噴射に加え
てまたはそれに代えて設けられうる。第7図〜第1O図
に例示されているような支持体/ドラムの適当な構造を
生ずるために、適当な形式の多孔質焼結金属、多孔質炭
素または多孔質セラミック(例えば炭化ケイ素材料)が
用いられうる。
このようにして、第7図では、支持体40は、多孔質の
外側M41と、圧力ガスがチャンネル44に供給されそ
の多孔質層41を通じて流出してベースフィルム45を
浮揚させている場合に、多孔質支持体から水冷チャンバ
43に熱を伝導するための金属レバー42を有している
第8図では、支持体50は多孔質の外側層51と、ガス
供給チャンバ53を有し、その外側層にはこれを冷却す
るための水を運ぶ管52が埋設されている。
第9図では、支持体60の外表面が例えば多孔質材料の
部分61および62で形成され、それらの部分はそれぞ
れそれに関連された別々のガスチャンネル63および6
4と、水冷却チャンバ66に熱を伝導するための金属バ
ー65を有している。
各ガスチャンネルは必要に応じて支持体60のまわりの
ガス流に振動を与えるために別々に供給されうる。
第10図では、支持体70は多孔質の外側層71と、流
体が冷媒としておよびガス供給源として機能するための
チャンバ72を有している。このようにして、冷媒およ
び動作温度は例えば1〜10ミリバールの適当な蒸気圧
が支持体とベースフィルムとの間に発生されるように選
択される。1つの適当な冷媒は水であり、それの蒸気圧
は0℃で約6ミリバール、10℃で12ミリバール、2
0℃で23ミリバールである。
流れが必要とされない領域における多孔質材料の表面は
塗料または樹脂でシールされうる。あるいは、その表面
は気孔を閉塞するように機械加工されうる。
第11図は本発明による装置の他の変形例を示しており
、これはベースフィルムと支持体との間のガスの駆動を
行うための他の機構を具備している。この実施例の特徴
は、前述した構成(すなわちノズル噴射と多孔質支持体
)のいずれか一方または両方に加えであるいはそれに代
えて用いられうる。ウェブ80と支持体81の間の収斂
の領域は、支持体81とこれに先行するアイドラーロー
ラ83に緩く嵌着するラード82内に収納される。
フード82は、供給管84を有する供給源(図示せず)
によって適当な圧力のガスを充満した状態に維持される
。低伝導シール85はチャンバ圧力に悪影響を及ぼすこ
となしにフード82内で高い圧力を使用できるようにす
る。この装置は、蒸着領域内へのガスの漏洩をほとんど
許容しえないシングルチャンバ型真空メタライザの場合
に特に有益である。フード82は単体として作成されて
もよくあるいはアクセスを容易にするために2つの部分
(図示のように)に分割されてもよい。
この構成の1つの利点は、別々の巻取りゾーンおよび蒸
着ゾーンに代えて、真空状態の単一のゾーンを設けるこ
とができるという点である。
本発明の他の実施例も当業者には明らかとなるであろう
が、本発明は広範囲の被覆原材料および広範囲の可tp
性ウェブ材料に使用するのに適している。
【図面の簡単な説明】
第1図は記録用テープを作成するのに適したロールコー
ティング装置の概略側面図、第2図は噴射ノズルとガス
取入管の斜視図、第3図は第1図の装;dに関連した摩
擦測定値のグラフ、第4図は装飾用フィルムを作成する
のに適したロールコーティング装置の概略側面図、第5
図は記録用テープを作成するのに適した固定ガイド・コ
ーティング装置の概略側面図、第6図は装飾用フィルム
の作成に適した固定ガイド・コーティング装置の概略側
面図、第7図〜第10図は本発明による装置の変形例を
示す図、第11図は本発明による装置の他の変形例を示
す図である。 図面において、■は供給スプール、2は巻取りスプール
、3は回転冷却ドラム、4は原料金属、5はるつぼ、6
はシールド、7はゴムニップローラ、1Gはノズル、1
日はニードル弁、19は真空シール、20は巻取りゾー
ン、21は蒸着ゾーン、22は供給スプール、23はガ
イド、24は巻取りスプール、25はキャプスタン、2
6はガイドローラ、27は蒸着るつぼ、28はシールド
、30はインゼクタノズル、40は支持体、41は多孔
質、42は金属レバー、43は水冷チャンバ、44はチ
啼ンネル、45はベースフィルム、50は支持体、51
は多孔’fFJ、52は管、53はガス供給チャンバ、
60は支持体、63.64はガスチャンネル、65は金
属バー、6Gは水冷却チャンバ、70は支持体、71は
多孔質層、72はチャンバ、80はウェブ、81は支持
体、82はフードをそれぞれ示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ウェブに被覆を形成するための装置において、被覆
    を被着すべきウェブを被覆被着ステーションに送る手段
    と、 前記被覆被着ステーションにおいて前記ウェブを支持す
    る手段と、 前記被覆被着ステーションにおいて前記ウェブに被覆を
    添着する手段と、 前記ウェブと前記支持手段との間の領域内にガスを駆動
    する手段を具備するウェブに被覆を形成する装置。 2、前記駆動手段は、前記ウェブと前記支持手段がそれ
    ら間に有効な接触を生ずるように収斂する領域に1つの
    ジェットまたは複数の離間したジェットを噴射するため
    の手段を具備している請求項1の装置。 3、前記駆動手段は、前記ウェブと前記支持手段がそれ
    ら間に有効な接触を生ずるように収斂する領域を収容す
    る手段と、この収容手段内にガスの適当な圧力を維持す
    るための手段を具備する請求項1または2の装置。 4、前記駆動手段が、ガスの流れを取出すための少なく
    とも1つの開孔を有するノズルにガスを送る導管を具備
    している請求項1〜3のうちの1つに記載された装置。 5、前記支持手段が多孔質材料の少なくとも1つの部分
    を具備しており、前記駆動手段はその多孔質部分を通じ
    てガスを駆動するための手段を具備している請求項1〜
    4のうちの1つに記載された装置。 6、前記被覆被着ステーションにおいて前記ウェブに金
    属化蒸気を適用するための手段を具備した請求項1〜5
    のうちの1つに記載された装置。 7、前記支持手段が冷却手段を有する回転ドラムを具備
    している請求項1〜6のうちの1つに記載された装置。 8、前記支持手段が固定したガイドプレートを具備して
    いる請求項1〜6のうちの1つに記載された装置。 9、ウェブに被覆を形成する方法において、被覆を被着
    すべきウェブを被覆被着ステーションに送り、 前記被覆被着ステーシヨンにおいて前記ウェブを支持し
    、 前記ウェブと前記被覆被着ステーションにおいて前記ウ
    ェブを支持する手段との間の領域内にガスを駆動し、 前記被覆被着ステーションにおいて前記ウェブに被覆を
    添着することよりなるウェブに被覆を形成する方法。 10、前記ウェブと前記支持手段がそれら間に有効な接
    触を生ずるように収斂する領域に1つのジェットまたは
    複数の離間したジェットを噴射することを含む請求項9
    の方法。 11、前記ウェブと前記支持手段がそれら間に有効な接
    触を生ずるように収斂する領域閉じ込め、かつその領域
    を適当な圧力のガスで充満した状態に維持することを含
    む請求項9または10の方法。 12、ガスの流れを取出すための少なくとも1つの開孔
    を有するノズルにガスを導管に沿って送ることを含む請
    求項9〜11のうちの1つに記載された方法。 13、前記支持体の少なくとも1つの多孔質部分を通じ
    てガスを駆動することを含む請求項9〜12のうちの1
    つに記載された方法。 14、前記被覆被着ステーションにおいて前記ウェブに
    金属化蒸気を適用することを含む請求項9〜13のうち
    の1つに記載された方法。 15、冷却手段を有する回転ドラムである支持手段を設
    けることを含む請求項9〜14のうちの1つに記載され
    た方法。 16、固定ガイドプレートである支持手段を設けること
    を含む請求項9〜14のうちの1つに記載された方法。 17、請求項1〜8のうちの1つに記載され装置および
    /または請求項9〜16のうちの1つに記載された方法
    によって製造された被覆ウェブ。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009060597A1 (ja) * 2007-11-06 2009-05-14 Panasonic Corporation 薄膜形成装置及び薄膜の形成方法
WO2009104382A1 (ja) * 2008-02-20 2009-08-27 パナソニック株式会社 薄膜形成装置および薄膜形成方法
JP2010235968A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 真空処理装置
WO2010122742A1 (ja) 2009-04-22 2010-10-28 パナソニック株式会社 薄膜形成装置および薄膜形成方法
WO2011093073A1 (ja) 2010-01-26 2011-08-04 パナソニック株式会社 薄膜の製造装置、薄膜の製造方法及び基板搬送ローラ
WO2013076922A1 (ja) * 2011-11-22 2013-05-30 パナソニック株式会社 基板搬送ローラ、薄膜の製造装置及び薄膜の製造方法
CN103380231A (zh) * 2011-06-15 2013-10-30 松下电器产业株式会社 基板输送辊、薄膜制造装置以及薄膜制造方法
JP2016538518A (ja) * 2013-11-13 2016-12-08 サンドビック マテリアルズ テクノロジー ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング シート状材料を処理する装置及び方法
US9770890B2 (en) 2013-05-30 2017-09-26 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Apparatus and method for manufacturing thin film, electro-chemical device and method for manufacturing electro-chemical device
JP2020159552A (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 フォン アルデンヌ アセット ゲーエムベーハー ウント コー カーゲー 温度制御ローラ、輸送構成及び真空構成
WO2022225731A1 (en) * 2021-04-21 2022-10-27 Applied Materials, Inc. Material deposition apparatus, method of depositing material on a substrate, and material deposition system

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4128382C1 (ja) * 1991-08-27 1992-07-02 Leybold Ag, 6450 Hanau, De
DE4203632C2 (de) * 1992-02-08 2003-01-23 Applied Films Gmbh & Co Kg Vakuumbeschichtungsanlage
DE4207525C2 (de) * 1992-03-10 1999-12-16 Leybold Ag Hochvakuum-Beschichtungsanlage
DE4222013A1 (de) * 1992-07-04 1994-01-05 Leybold Ag Vorrichtung zur Vakuumbeschichtung von Folien
MY143286A (en) * 1996-05-21 2011-04-15 Panasonic Corp Thin film, method and apparatus for forming the same, and electronic component incorporating the same
GB2326647B (en) * 1997-06-25 2001-12-19 Gen Vacuum Equipment Ltd Apparatus for and method of vacuum metallizing
DE19853418B4 (de) * 1998-11-19 2013-09-26 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Vakuum-Beschichtungsanlage und Verfahren zum Beschichten einer Folie mit einer solchen Vakuum-Beschichtungsanlage
AU3085300A (en) * 1999-03-23 2000-10-09 Viktor Ivanovich Dikarev Method for the vacuum arc-processing of a metallic wire (cable, strip), device for realising the same and variants
US6833031B2 (en) 2000-03-21 2004-12-21 Wavezero, Inc. Method and device for coating a substrate
US6461667B1 (en) * 2000-04-04 2002-10-08 Eastman Kodak Company Apparatus and method for vapor depositing lubricant coating on a web
US6436739B1 (en) * 2000-04-27 2002-08-20 The Regents Of The University Of California Thick adherent dielectric films on plastic substrates and method for depositing same
WO2002070778A1 (en) * 2001-03-05 2002-09-12 Applied Process Technologies Apparatus and method for web cooling in a vacuum coating chamber
US7025833B2 (en) * 2002-02-27 2006-04-11 Applied Process Technologies, Inc. Apparatus and method for web cooling in a vacuum coating chamber
US7758699B2 (en) * 2003-06-26 2010-07-20 Superpower, Inc. Apparatus for and method of continuous HTS tape buffer layer deposition using large scale ion beam assisted deposition
US20040261707A1 (en) * 2003-06-26 2004-12-30 Venkat Selvamanickam Apparatus for and method of cooling and positioning a translating substrate tape for use with a continuous vapor deposition process
DE102004050821A1 (de) * 2004-10-19 2006-04-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und Verfahren zum Kühlen bandförmiger Substrate
US20070137568A1 (en) * 2005-12-16 2007-06-21 Schreiber Brian E Reciprocating aperture mask system and method
US7763114B2 (en) * 2005-12-28 2010-07-27 3M Innovative Properties Company Rotatable aperture mask assembly and deposition system
CN101889103B (zh) * 2007-12-05 2011-12-28 松下电器产业株式会社 薄膜形成装置和薄膜形成方法
US20100028533A1 (en) * 2008-03-04 2010-02-04 Brent Bollman Methods and Devices for Processing a Precursor Layer in a Group VIA Environment
US20090325340A1 (en) * 2008-06-30 2009-12-31 Mohd Aslami Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels
WO2010067603A1 (ja) 2008-12-10 2010-06-17 パナソニック株式会社 薄膜の形成方法
US20110081487A1 (en) * 2009-03-04 2011-04-07 Brent Bollman Methods and devices for processing a precursor layer in a group via environment
US20100291308A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-18 Veeco Instruments Inc. Web Substrate Deposition System
US8225527B2 (en) 2010-07-08 2012-07-24 Aventa Technologies Llc Cooling apparatus for a web deposition system
DE102012207172A1 (de) * 2012-04-30 2013-10-31 Osram Gmbh Vorrichtung und verfahren zur oberflächenbehandlung eines substrats und verfahren zum herstellen eines optoelektronischen bauelements
DE102012013726B4 (de) 2012-07-11 2021-03-18 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zum Kühlen bandförmiger Substrate
DE102013212395A1 (de) 2013-06-27 2014-12-31 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Kühlen eines bandförmigen Substrates
WO2016108257A1 (ja) * 2014-12-29 2016-07-07 ソニー株式会社 磁気記録媒体およびその製造方法、ならびに成膜装置
DE102018111105A1 (de) 2018-05-09 2019-11-14 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zum Beschichten eines bandförmigen Substrates
DE102018113039A1 (de) * 2018-05-31 2019-12-05 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Verfahren und Vakuumanordnung
DE102019102008A1 (de) 2019-01-28 2020-07-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zum Beschichten eines bandförmigen Substrates
DE102021207398A1 (de) * 2021-07-13 2023-01-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates
CN113832435A (zh) * 2021-11-29 2021-12-24 江苏卓高新材料科技有限公司 锂离子电池集流体的制造设备

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3245334A (en) * 1962-08-27 1966-04-12 Du Pont Noncontacting sealing method and apparatus
US3414048A (en) * 1967-12-26 1968-12-03 United States Steel Corp Contact drum and method for heat exchange with traveling strip
US4354686A (en) * 1979-07-06 1982-10-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Contact-free sealing member
JPS5798133A (en) * 1980-12-05 1982-06-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic recording medium
JPS57179952A (en) * 1981-04-24 1982-11-05 Fuji Photo Film Co Ltd Method and apparatus for magnetic recording medium
JPS58111127A (ja) * 1981-12-24 1983-07-02 Ulvac Corp 耐摩耗性磁気記録体の製造法

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009060597A1 (ja) * 2007-11-06 2009-05-14 Panasonic Corporation 薄膜形成装置及び薄膜の形成方法
WO2009104382A1 (ja) * 2008-02-20 2009-08-27 パナソニック株式会社 薄膜形成装置および薄膜形成方法
JP2010235968A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 真空処理装置
WO2010122742A1 (ja) 2009-04-22 2010-10-28 パナソニック株式会社 薄膜形成装置および薄膜形成方法
JP4657385B2 (ja) * 2009-04-22 2011-03-23 パナソニック株式会社 薄膜形成装置および薄膜形成方法
CN102378826A (zh) * 2009-04-22 2012-03-14 松下电器产业株式会社 薄膜形成装置及薄膜形成方法
JPWO2010122742A1 (ja) * 2009-04-22 2012-10-25 パナソニック株式会社 薄膜形成装置および薄膜形成方法
US9340865B2 (en) 2010-01-26 2016-05-17 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Thin film-manufacturing apparatus,thin film-manufacturing method,and substrate-conveying roller
WO2011093073A1 (ja) 2010-01-26 2011-08-04 パナソニック株式会社 薄膜の製造装置、薄膜の製造方法及び基板搬送ローラ
CN103380231A (zh) * 2011-06-15 2013-10-30 松下电器产业株式会社 基板输送辊、薄膜制造装置以及薄膜制造方法
WO2013076922A1 (ja) * 2011-11-22 2013-05-30 パナソニック株式会社 基板搬送ローラ、薄膜の製造装置及び薄膜の製造方法
US8697582B2 (en) 2011-11-22 2014-04-15 Panasonic Corporation Substrate conveying roller, thin film manufacturing device, and thin film manufacturing method
US9770890B2 (en) 2013-05-30 2017-09-26 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Apparatus and method for manufacturing thin film, electro-chemical device and method for manufacturing electro-chemical device
JP2016538518A (ja) * 2013-11-13 2016-12-08 サンドビック マテリアルズ テクノロジー ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング シート状材料を処理する装置及び方法
JP2020159552A (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 フォン アルデンヌ アセット ゲーエムベーハー ウント コー カーゲー 温度制御ローラ、輸送構成及び真空構成
WO2022225731A1 (en) * 2021-04-21 2022-10-27 Applied Materials, Inc. Material deposition apparatus, method of depositing material on a substrate, and material deposition system

Also Published As

Publication number Publication date
US5076203A (en) 1991-12-31
DE3872339T2 (de) 1993-01-14
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ES2032566T3 (es) 1993-02-16
DE3872339D1 (de) 1992-07-30
EP0311302A1 (en) 1989-04-12

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