JPS63192858A - 連続式真空蒸着装置 - Google Patents

連続式真空蒸着装置

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JPS63192858A
JPS63192858A JP2358487A JP2358487A JPS63192858A JP S63192858 A JPS63192858 A JP S63192858A JP 2358487 A JP2358487 A JP 2358487A JP 2358487 A JP2358487 A JP 2358487A JP S63192858 A JPS63192858 A JP S63192858A
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plate
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metal vapor
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JP2358487A
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Kenichi Yanagi
謙一 柳
Heizaburo Furukawa
古川 平三郎
Toshio Taguchi
田口 俊夫
Etsuro Hirai
悦郎 平井
Takuya Aiko
愛甲 琢哉
Norio Tsukiji
築地 憲夫
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nippon Steel Nisshin Co Ltd
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nisshin Steel Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は連続式真空蒸着装置に関し、特に該装置の金属
蒸気の付着量制御装置、さらに詳細には、付着量分布制
御装置に関するものである。
〔従来の技術〕
帯鋼等の基板に連続的に、例えば亜鉛等の金属をメッキ
する手段として連続式真空蒸着装置が使用されている。
この従来の連続式真空蒸着装置の概略構成を第5図によ
って説明する。
第5図において、1は帯鋼(蒸着基板〕、2は複数のシ
ール室からなる真空シール装置、3は蒸着室、4は構鋼
1をガイドして通板させる巻付ロール、5は溶融し次金
属(例えば亜鉛など)、6はその金属蒸気、7は溶融金
属の浴槽、8は浴槽7で発生し次金属蒸気6を帯鋼1ま
で導くダクト(チャンネル)、9はヒータ、1゜はシャ
ッタ、11はシャッタ1oの開閉装置(シリンダ〕、1
2はジャツメ1oの開口部、13は金属の溶解炉、14
はスノクール、15は管、16は弁、17は真空ポンプ
である。なお2は金属蒸気6の流れ方向を示す。
この装置においては、溶融し几金属5の蒸気6t−真空
条件下で発生させ、該蒸気6t−ダクト8t−介して浴
槽7から帯鋼1に導くように構成されている。
帯鋼1に蒸着させるに必要な金属蒸気量〔蒸発量〕は、
浴槽7内に設置し次ヒータ9の電力と、浴槽7出口に設
置したシャッタ10i、例えば、シリンダ等の開閉装置
11で開閉して開口部12の面積を変えることにより制
御できるように構成されている。
また、前記浴槽7への溶融金属5は蒸着室3下部の溶解
炉13から圧力差によシスノーケル14を介して吸引供
給されるようになっている。
蒸着室3は管15及び弁16t−介して真空ポンプ17
に接続し、通常、溶融金属5の飽和蒸気圧力により低い
圧力に輩素(kh )等の不活性ガスを介して保持され
ている。
従来の連続式真空蒸着装置は以上の構成であるから、運
転に際しては、製造指令(鋼種、板幅、板厚、通板速度
、目襟蒸着量等)にもとづいて設定された蒸着速度(単
位面積、単位時間当りの蒸着量)に対応して蒸着室杢の
圧力を設定すると共に、蒸着金属の所:g!蒸発量にな
るようにヒータ9の電力とシャツタ10開度を調整する
ことにより帯鋼1表面の蒸着量、すなわち蒸着膜厚金目
標値に制御するようにし友ものである。
〔発明が解決しようとする問題点] しかしながら、前記従来装置では、シャッタ10の開口
部12t−通過した後のダクト8内での金属蒸気6の流
れが変化する次め、帯鋼1表面の蒸着金属の膜厚分布が
いつも一定とはならず、とくに板幅方向の分布に関して
は、第3図、第4図の実機における計測データを示す図
表中、点線&1.a1で示すようにばらつきが発生し、
メッキ成品の品質低下ならびに蒸着むらによる蒸着金属
の歩留りが低下するという問題かあつ九。
とくに、シャッタ開度か大きい場合には均一に近かった
が、シャッタ開度が小さい場合には膜厚分布のばらつき
が大きかった。
〔発明の目的〕
本発明はかかる問題に鑑み、つねに膜厚分布を均一に制
御し、メッキ成品の品質向上を図ると共に、蒸着金属の
歩留りを向上させコスト低減が可能な連続式真空蒸着装
置を提供しようとするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は前記問題を解決するために、シャッタ面内に多
孔板からなる整流板を取付けて金属蒸気の流れを均一化
させ、蒸着II[Jt分布を均一にするように真空蒸着
装置を構成させたものである。
すなわち本発明は、真空条件下で溶融金属を蒸発させる
浴槽及び該金属蒸気を蒸着基板まで導くダクト及び前記
浴槽の出口にあってその開口面積を自在に制御し得るシ
ャッタを具備してなる連続式真空蒸着装置において、前
記ジャツメ面内に多孔板からなる整流板を取付けてなる
ことt−特徴とする連続式真空蒸着装置である。
〔作用〕
シャッタ面内に多孔板からなる整流板を設けることによ
p1ダクト内の金属蒸気の流れが均一化し、その結果、
蒸着基板への蒸着膜厚分布を均一にすることができる。
〔実施例〕
以下、図面によって本発明を具体的に説明する。
第1図は本発明の一実施例に係る連続式真空蒸着装置の
蒸着室及び蒸発槽の概略構成図、第2図は第1図中入−
ム矢視による整流板の正面図を示す0図中、従来装置(
第5図)と同一部材には同一符号を付し、重複する詳細
構成説明は省略する。
第1図において、本発明装置は、従来装置菖5図〕にお
けるシャッタ面内に1枚以上(例示の場合は1枚)の、
後述する第2図に示し几ような多孔板からなる整流板2
0を取付けてダクト8内の金属蒸気6の流れを均一に整
流させることによって、蒸着膜鳳分布金均−化させよう
とするものである。
ここで、前記整流板20の孔の配列及び数量に関しては
、本発明者らが種々実験の結果決定されたもので、ここ
では1枚の場合について述べることとする。前記整流板
20のうち、ダクト8g:面側は@2図に示すように多
数の孔21をほぼ等ビジチで置設し、−“方ダクト8天
井面側の孔21の配列及びピッチ線1列おきに開孔せず
、天井側部の開口比を底面側部の開口比より小さくする
。このように開孔することによって蒸着膜厚分布が、第
3図、第4図中実線1rt 。
b、で示すように、従来装置の場合の分有曲線al。
alにくらべて艮好な均一度が得られることが実機にお
いて立征され友、第3図は目標蒸着膜厚が30μ、第4
図は50μの場合の板幅方向の膜厚分布の実測値を示す
以上、整流板20t−1枚使用する場合について説明し
友が、上述した整流板t−2枚以上使用してもよく、同
様に1枚の整流板の厚さt−2枚分の厚さにしてもよい
更に上記においては整流板の孔を不均一にあけ次場合に
ついて説明し九が、整流板全体にわ皮って均一に孔をあ
け友ものをほぼ同様な効果を奏する。
〔発明の効果〕
以上詳細に説明したように本発明装置では、金属蒸気(
Zn等)6を蒸着基板(帯鋼等)の蒸着面へ導くシャッ
タ面内に開孔ピッチが均一あるいは不均一な多孔板から
なる1枚以上の整流板20を取付けて金属蒸気6のダク
ト8内の流れの乱れを均一に整流することによって、蒸
着膜厚を均一化することが可能となり、メッキ成品の品
質向上ならびに蒸気金属(Zn等)5の歩留りを向上さ
せコスト低減を図ることがで1!友。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る連続式真空蒸着装置の
概略構成図、第2図は、第1図中人−人矢視による整流
板の正面図、第3図、第4図は実機における板幅方向の
蒸着膜厚分布曲線の計測データを示す図表、第5図は従
来の連続式真空蒸着装置の概略構成図上水す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空条件下で溶融金属を蒸発させる浴槽及び該金属蒸気
    を蒸着基板まで導くダクト及び前記浴槽の出口にあつて
    その開口面積を自在に制御し得るシャッタを具備してな
    る連続式真空蒸着装置において、前記シヤツタ面内に多
    孔板からなる整流板を取付けてなることを特徴とする連
    続式真空蒸着装置。
JP62023584A 1987-02-05 1987-02-05 連続式真空蒸着装置 Expired - Lifetime JPH0735566B2 (ja)

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JPS63192858A true JPS63192858A (ja) 1988-08-10
JPH0735566B2 JPH0735566B2 (ja) 1995-04-19

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63192859A (ja) * 1987-02-05 1988-08-10 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 連続式真空蒸着装置
CN114639797A (zh) * 2021-06-26 2022-06-17 宁德时代新能源科技股份有限公司 负极极片的处理方法、钠金属负极极片及相关装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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