JPS58116B2 - 感知増幅器 - Google Patents
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- JPS58116B2 JPS58116B2 JP54088394A JP8839479A JPS58116B2 JP S58116 B2 JPS58116 B2 JP S58116B2 JP 54088394 A JP54088394 A JP 54088394A JP 8839479 A JP8839479 A JP 8839479A JP S58116 B2 JPS58116 B2 JP S58116B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/403—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh
- G11C11/404—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh with one charge-transfer gate, e.g. MOS transistor, per cell
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4091—Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Read Only Memory (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電荷貯蔵型記憶セルから読取られた信号とダ
ミー・セルからの基準信号との差に応答して感知動作を
行なう差動型の感知増幅器に関するものである。
ミー・セルからの基準信号との差に応答して感知動作を
行なう差動型の感知増幅器に関するものである。
1個の電界効果トランジスタ(FET )及びキャパシ
タから成る謂ゆる1素セルの記憶内容を感知するために
、このようなセルが多数接続されているビット線を2つ
のセグメントに分けて、これらの間に差動型の感知増幅
器を接続し、一方のセグメントからの記憶セル読取り信
号と他方のセグメントからの基準信号との間の電位差を
利用して感知動作を行なうような技術は既によく知られ
ている。
タから成る謂ゆる1素セルの記憶内容を感知するために
、このようなセルが多数接続されているビット線を2つ
のセグメントに分けて、これらの間に差動型の感知増幅
器を接続し、一方のセグメントからの記憶セル読取り信
号と他方のセグメントからの基準信号との間の電位差を
利用して感知動作を行なうような技術は既によく知られ
ている。
また、基準信号を供給するための手段として、各ビット
線セグメントに1個ずつダミー・セルを接続しておくこ
とも知られている。
線セグメントに1個ずつダミー・セルを接続しておくこ
とも知られている。
このようなダミー・セルによって供給される基準信号の
電位は、記憶セルの2進1及び2進0の電位の中間値に
設定されるのが普通であり、例えば特開昭50−460
49号公報に記載されているような特別の充電回路を利
用して、ダミー・セルを上述の基準電位に光電すること
が行なわれた。
電位は、記憶セルの2進1及び2進0の電位の中間値に
設定されるのが普通であり、例えば特開昭50−460
49号公報に記載されているような特別の充電回路を利
用して、ダミー・セルを上述の基準電位に光電すること
が行なわれた。
しかしながら、ダミー・セル充電回路を余分に設けるこ
とは、電力消費や集積度の点で余り望ましくない。
とは、電力消費や集積度の点で余り望ましくない。
従って本発明の目的は、感知動作後にビット線に残って
いる電位を利用してダミー・セルを簡単に充電し得るよ
うな感知増幅器を提供するにある。
いる電位を利用してダミー・セルを簡単に充電し得るよ
うな感知増幅器を提供するにある。
この目的は、感知増幅器の2つの節点間即ち2つのビッ
ト線セグメント間にスイッチング素子を接続し、感知動
作後に両セグメントに電位差が存在している状態におい
てこのスイッチング素子を導通させて両セグメントの電
位を平衡化し、この平衡化された電位を利用してダミー
・セルを充電することにより達成される。
ト線セグメント間にスイッチング素子を接続し、感知動
作後に両セグメントに電位差が存在している状態におい
てこのスイッチング素子を導通させて両セグメントの電
位を平衡化し、この平衡化された電位を利用してダミー
・セルを充電することにより達成される。
本発明に従う感知増幅器は、電荷貯蔵型の記憶セルに貯
蔵されている電荷のレベルによって表わされる2進情報
に応答して感知及び再書込みを行なう。
蔵されている電荷のレベルによって表わされる2進情報
に応答して感知及び再書込みを行なう。
本発明の良好な実施例においては、この感知増幅器は一
対のダミー・セル及び一対のパケット・プリケート型増
幅器を含み、これらは電界効果トランジスタであっても
よい複数の能動ゲート素子から成る動的ラッチ回路の両
側に各々接続される。
対のダミー・セル及び一対のパケット・プリケート型増
幅器を含み、これらは電界効果トランジスタであっても
よい複数の能動ゲート素子から成る動的ラッチ回路の両
側に各々接続される。
記憶配列ビット/感知線は2つのセグメントへ分割され
、その一方のセグメントは感知増幅器の一方の側に接続
され且つ他方のセグメントは感知増幅器の他方の側に接
続される。
、その一方のセグメントは感知増幅器の一方の側に接続
され且つ他方のセグメントは感知増幅器の他方の側に接
続される。
本発明の感知増幅器の動作は予備充電サイクル、感知サ
イクル、再書込みサイクル及び復帰サイクルの順で繰返
され、全サイクルの終了時に元の状態に戻る。
イクル、再書込みサイクル及び復帰サイクルの順で繰返
され、全サイクルの終了時に元の状態に戻る。
本発明の感知増幅器においては、両方のビット線セグメ
ントを最初のレベルへ予備バイアスするのに、再書込み
後に一方のビット線セグメントに残っている電位が使用
される。
ントを最初のレベルへ予備バイアスするのに、再書込み
後に一方のビット線セグメントに残っている電位が使用
される。
従って、ビット/感知線上の予備充電レベルの制御を良
好に行なうことができ、また電力に対する要求もがなり
減少される。
好に行なうことができ、また電力に対する要求もがなり
減少される。
これと同時に、ダミー・セルは平衡化されたビット/感
知線の電位へ充電される。
知線の電位へ充電される。
以下、添付図面を参照して本発明の良好な実施例につい
て詳しく説明する。
て詳しく説明する。
第1図は、これまでの公知技術におけるよりも更に小さ
な電荷量を検出することができ、先行技術における電力
消費の主因となっていた直流電力の消費がなく、更にダ
ミー・セルの充電を簡単に行なえる感知増幅器を示した
ものである。
な電荷量を検出することができ、先行技術における電力
消費の主因となっていた直流電力の消費がなく、更にダ
ミー・セルの充電を簡単に行なえる感知増幅器を示した
ものである。
図示の如く、差動感知増幅器10は、パケットブリゲー
ト(以下、BBと略す)型に配置された増幅器14A及
び14B間に相互接続された動的ラッチ回路12を含ん
でいる。
ト(以下、BBと略す)型に配置された増幅器14A及
び14B間に相互接続された動的ラッチ回路12を含ん
でいる。
BB増幅器14A及び14Bは、動的ラッチ回路120
両側において予備増幅を行なうのに用いられ、ラッチ回
路12の端子16A及び16Bへ各々接続されると共に
、等しいビット/感知線セグメント18A及び18Bを
介して電荷貯蔵型記憶セル20A及び20Bへ各々接続
される。
両側において予備増幅を行なうのに用いられ、ラッチ回
路12の端子16A及び16Bへ各々接続されると共に
、等しいビット/感知線セグメント18A及び18Bを
介して電荷貯蔵型記憶セル20A及び20Bへ各々接続
される。
これらのセル20A及び20Bは各々ワード線15A及
び15Bにも接続される。
び15Bにも接続される。
記憶配列中の図示のビット/感知線には記憶セル20A
及び20B並びに図示されていない複数の記憶セルの他
に、これらと同一の2個のダミー・セル23A及び23
Bも接続される。
及び20B並びに図示されていない複数の記憶セルの他
に、これらと同一の2個のダミー・セル23A及び23
Bも接続される。
ダミー・セル23Aは能動素子22A及びキャパシタ3
6Aより成り、ダミー・セル23Bは能動素子22B及
びキャパシタ36Bより成る。
6Aより成り、ダミー・セル23Bは能動素子22B及
びキャパシタ36Bより成る。
素子22Aはビット/感知線セグメント18A、ダミー
・ワード線26A及びキャパシタ36Aに接続され、素
子22Bはビット/感知線セグメント18B、ダミー・
ワード線26B及びキャパシタ36Bに接続される。
・ワード線26A及びキャパシタ36Aに接続され、素
子22Bはビット/感知線セグメント18B、ダミー・
ワード線26B及びキャパシタ36Bに接続される。
これらのダミー・セル23A及び23Bは、動的ラッチ
回路12をセットするための基準レベルを設定するのに
用いられる。
回路12をセットするための基準レベルを設定するのに
用いられる。
BB増幅器14Aは能動素子24A及び38A並びにキ
ャパシタ42Aから成り、同様にBB増幅器14Bは能
動素子24B及び38B並びにキャパシタ42Bから成
る。
ャパシタ42Aから成り、同様にBB増幅器14Bは能
動素子24B及び38B並びにキャパシタ42Bから成
る。
動的ラッチ回路12は、電界効果トランジスタであって
もよい能動素子28,30及び32の配列から成る。
もよい能動素子28,30及び32の配列から成る。
予備充電信号vPO源は能動素子24A及び24Bのゲ
ートに接続され、ビット/感知線を予備充電するのに用
いられる。
ートに接続され、ビット/感知線を予備充電するのに用
いられる。
この電圧信号VPは、図示されていない独立したパルス
源から得られる。
源から得られる。
再分布電圧VRDの源は能動素子34のゲートに接続さ
れ、基準電圧VRの源は能動素子38A及び38Bのゲ
ートに接続され、そしてランプ電圧VLHの源は能動素
子32のゲートに接続される。
れ、基準電圧VRの源は能動素子38A及び38Bのゲ
ートに接続され、そしてランプ電圧VLHの源は能動素
子32のゲートに接続される。
これらのVRD、VR及びVLHのための電源は第1図
には示されていない。
には示されていない。
第2図は、上述の各電圧の他に、アクセスされたワード
線の電圧VWL、ダミー・ワード線の電圧VWLD並び
に動的ラッチ回路12の節点16A及び16Bにおける
電圧の信号波形を示したものである。
線の電圧VWL、ダミー・ワード線の電圧VWLD並び
に動的ラッチ回路12の節点16A及び16Bにおける
電圧の信号波形を示したものである。
次に、第1図の感知増幅器10の動作について順次説明
する。
する。
まず予備充電電圧vP及び基準電圧VRが印加されて、
予備充電用の素子24A及び24B並びに転送用の素子
38A及び38Bがメーン・オンされる。
予備充電用の素子24A及び24B並びに転送用の素子
38A及び38Bがメーン・オンされる。
かくして、予備充電サイクルが開始される。
この結果、素子38A及び38Bがカット・オフされる
まで、(正の)電荷が素子24A及び38A並びに24
B及び38Bを介してビット/感知線に印加される。
まで、(正の)電荷が素子24A及び38A並びに24
B及び38Bを介してビット/感知線に印加される。
ビット/感知線が充電によって呈する電位はVRによっ
て決定される。
て決定される。
次いで、VRは接地レベルへ戻され、これにより素子3
8A及び38Bはターン・オフされる。
8A及び38Bはターン・オフされる。
これと同時に、キャパシタ42A及び44A間並びにキ
ャパシタ42B及び44B間(44A及び44Bは浮遊
節点容量である)において電荷の再分布が生じ、その結
果、節点16A及び16Bの電荷が低下する(第2図の
ラッチ節点電圧波形を参照されたい)。
ャパシタ42B及び44B間(44A及び44Bは浮遊
節点容量である)において電荷の再分布が生じ、その結
果、節点16A及び16Bの電荷が低下する(第2図の
ラッチ節点電圧波形を参照されたい)。
予備充電用素子24A及び24Bは、VPが依然として
印加されているためにオン状態にあり、従って、節点電
圧をその元のレベルへ再充電する。
印加されているためにオン状態にあり、従って、節点電
圧をその元のレベルへ再充電する。
次いで、予備充電電圧VPは減勢され、その結果、素子
24A及び24Bがターン・オフされて、ビット/感知
線セグメント18A及び18Bを充電した状態で予備充
電サイクルが終了する。
24A及び24Bがターン・オフされて、ビット/感知
線セグメント18A及び18Bを充電した状態で予備充
電サイクルが終了する。
この時、転送用素子38A及び38Bは上述のように、
既にターン・オフされている。
既にターン・オフされている。
読取りサイクルは、基準電圧VRをオンにして素子38
A及び38Bを再び以前のカット・オフに近い状態へ戻
すことによって開始される。
A及び38Bを再び以前のカット・オフに近い状態へ戻
すことによって開始される。
その場合に、キャパシタ42A及び44A間並びにキャ
パシタ42B及び44B間における電荷の再分布のため
に、節点16A及び16Bにおける節点電圧が上昇する
。
パシタ42B及び44B間における電荷の再分布のため
に、節点16A及び16Bにおける節点電圧が上昇する
。
アクセスされたワード線と、感知増幅器10に関してア
クセスされた側とは反対の側にあるビット/感知線に関
連するダミー・ワード線とが付勢される。
クセスされた側とは反対の側にあるビット/感知線に関
連するダミー・ワード線とが付勢される。
ダミー・セルは1本のビット/感知線毎に設けられた付
加的な1ビツトであり、これに記憶される電位の大きさ
は、通常の記憶セルにおいて2進情報を表わすのに用い
られる2種類の電圧レベルの中間にある。
加的な1ビツトであり、これに記憶される電位の大きさ
は、通常の記憶セルにおいて2進情報を表わすのに用い
られる2種類の電圧レベルの中間にある。
これは、ラッチ回路12をセットするための必要な基準
レベルを設定するのに用いられる。
レベルを設定するのに用いられる。
本発明に従うダミー・セルの充電方式については、あと
で説明する。
で説明する。
以下の説明では、記憶セル20Aがアクセスされ且つセ
ル20Aの貯蔵キャパシタ21Aには電荷が貯蔵されて
いない(2進”0”を表わす)ものとする。
ル20Aの貯蔵キャパシタ21Aには電荷が貯蔵されて
いない(2進”0”を表わす)ものとする。
セル20Aに接続されているワード線15Aが付勢され
ると、分布されたビット/感知線キャパシタンスからア
クセスされた記憶セル20Aの貯蔵キャパシタ21Aへ
電荷が流れ込み、その結果、このキャパシタ21Aの両
端の電位差が増大し、且つビット/感知線18Aの電位
が減少する。
ると、分布されたビット/感知線キャパシタンスからア
クセスされた記憶セル20Aの貯蔵キャパシタ21Aへ
電荷が流れ込み、その結果、このキャパシタ21Aの両
端の電位差が増大し、且つビット/感知線18Aの電位
が減少する。
ビット/感知線18Aにおけるこの電位降下により、電
荷転送用素子38Aはこれまでよりも強く導通するよう
になる。
荷転送用素子38Aはこれまでよりも強く導通するよう
になる。
節点16Aにおける電位は、ビット/感知線18Aにお
ける電位よりも大きいので、電荷転送用素子38Aが再
びカット・オフに近い状態へ戻るまで、節点16Aから
ビット/感知線18Aへ電荷が流れる。
ける電位よりも大きいので、電荷転送用素子38Aが再
びカット・オフに近い状態へ戻るまで、節点16Aから
ビット/感知線18Aへ電荷が流れる。
分布されたビット/感知線キャパシタンスにおける正味
の電荷量は変化しないので、基本的には、節点16Aで
失なわれた電荷は、アクセスされた越境セル20Aの貯
蔵キャパシタ21Aにおいて得られた電荷に等しい。
の電荷量は変化しないので、基本的には、節点16Aで
失なわれた電荷は、アクセスされた越境セル20Aの貯
蔵キャパシタ21Aにおいて得られた電荷に等しい。
従って、電荷が失なわれたことによる節点16Aでの電
位降下は、貯蔵キャパシタ21Aのキャパシタンスと節
点16Aにおけるキャパシタンスとの比によって掛算さ
れた電位増加(アクセスされた記憶セル20Aの貯蔵キ
ャパシタ21Aに生じる)に等しい。
位降下は、貯蔵キャパシタ21Aのキャパシタンスと節
点16Aにおけるキャパシタンスとの比によって掛算さ
れた電位増加(アクセスされた記憶セル20Aの貯蔵キ
ャパシタ21Aに生じる)に等しい。
もし節点16Aにおけるキャパシタンスが貯蔵キャパシ
タ21Aのキャパシタンスに関して妥当な値(即ち、2
乃至3倍)に保たれるならば、最初ビット/感知線18
Aに生じる感知信号(一般に、ビット/感知線のキャパ
シタンスは貯蔵キャパシタのキャパシタンスよりも極め
て大きいのでこの感知信号は小さい)は、節点16Aに
おいて大きな信号へ翻訳される。
タ21Aのキャパシタンスに関して妥当な値(即ち、2
乃至3倍)に保たれるならば、最初ビット/感知線18
Aに生じる感知信号(一般に、ビット/感知線のキャパ
シタンスは貯蔵キャパシタのキャパシタンスよりも極め
て大きいのでこの感知信号は小さい)は、節点16Aに
おいて大きな信号へ翻訳される。
素子38Aは、節点16Aの電位がビット/感知線18
Aの電位よりも大きいものである限り、カット・オフに
近い状態に保たれる。
Aの電位よりも大きいものである限り、カット・オフに
近い状態に保たれる。
上述のプロセスは、ダミー・セル23Bが既に付勢され
ている反対側のビット/感知線18Bにおいても同様で
あるが、ダミー・セル23Bは半分だけ充電されるので
、その節点電位即ち節点16Bの電位も節点16Aに比
べて半分だけ降下する。
ている反対側のビット/感知線18Bにおいても同様で
あるが、ダミー・セル23Bは半分だけ充電されるので
、その節点電位即ち節点16Bの電位も節点16Aに比
べて半分だけ降下する。
この様子は、第2図において2種類のラッチ節点電圧曲
線によって示されている。
線によって示されている。
ラッチ節点16A及び16Bに比較的大きな差信号が生
じた状態で、素子32に接続されているVLH線が付勢
されて、この素子32をターン・オンする。
じた状態で、素子32に接続されているVLH線が付勢
されて、この素子32をターン・オンする。
第2図に示されるように、VLHはランプ信号であるた
め、素子32は徐々にターン・オンされて、ドレイン節
点17におけるキャパシタンスを放電する。
め、素子32は徐々にターン・オンされて、ドレイン節
点17におけるキャパシタンスを放電する。
この時、素子28のゲート電位(節点16Bの電位)は
素子30のゲート電位(節点16Aの電位)よりも高い
ので、ドレイン節点17の電位が減少するにつれて、素
子28がターン・オンする点に近づく。
素子30のゲート電位(節点16Aの電位)よりも高い
ので、ドレイン節点17の電位が減少するにつれて、素
子28がターン・オンする点に近づく。
素子28がターン・オンすると、節点16Aは素子28
及び32を介して放電を始め、そしてその電位がビット
/感知線18Aの電位よりも低くなると、ビット/感知
線18Aは素子38A、28及び32を介して放電を始
める。
及び32を介して放電を始め、そしてその電位がビット
/感知線18Aの電位よりも低くなると、ビット/感知
線18Aは素子38A、28及び32を介して放電を始
める。
節点16Aの電位が素子30の閾値電圧よりも小さい値
でもって節点17の電位に追随するように、ランプ電圧
VLHによって放電率が決定されるならば、素子30が
ターン・オンすることはない。
でもって節点17の電位に追随するように、ランプ電圧
VLHによって放電率が決定されるならば、素子30が
ターン・オンすることはない。
ビット/感知線18A(及びアクセスされた記憶セルの
貯蔵キャパシタ)は接地電位まで十分に放電される。
貯蔵キャパシタ)は接地電位まで十分に放電される。
かくして、動的ラッチ回路12が直流電力を消費するこ
となくセットされたことになる。
となくセットされたことになる。
最初、アクセスされた記憶セルは電荷を貯蔵していなか
ったので、この記憶セルは感知動作の以前の状態に戻さ
れている。
ったので、この記憶セルは感知動作の以前の状態に戻さ
れている。
即ち、アクセスされた記憶セルに情報が再書込みされて
いる。
いる。
アクセスされたワード線は接地電位に復帰され、記憶セ
ルの能動素子がターン・オフされる。
ルの能動素子がターン・オフされる。
ランプ電圧VLHも接地電位に復帰され、素子32をタ
ーン・オフする。
ーン・オフする。
一方のビット/感知線18Aが接地電位にあり且つ他方
のビット/感知線18Bが高電位にある状態でVRD線
が付勢され、これにより素子34がターン・オンされる
。
のビット/感知線18Bが高電位にある状態でVRD線
が付勢され、これにより素子34がターン・オンされる
。
これらのビット/感知線18A及び18Bのキャパシタ
ンス間において、素子38A、34及び38Bを介して
電荷の再分布が生じる。
ンス間において、素子38A、34及び38Bを介して
電荷の再分布が生じる。
線18Bの電位は以前の値の半分まで低下し、一方、線
18Aの電位はこれと同じ値まで上昇する。
18Aの電位はこれと同じ値まで上昇する。
かくして、ダミー・セル23Bの貯蔵キャパシタ36B
には、半分の電荷即ち通常の記憶セルの電位の半分が貯
蔵される。
には、半分の電荷即ち通常の記憶セルの電位の半分が貯
蔵される。
ダミー・ワード線26Bは零電圧へ復帰され、これによ
り素子22Bはターン・オフされる。
り素子22Bはターン・オフされる。
素子34もターン・オフされる。
高電位に保たれていたビット/感知線の電位を低くする
ことは、次のような目的のためにも望ましいものである
。
ことは、次のような目的のためにも望ましいものである
。
両方のビット/感知線を同じレベルに設定すると、次の
予備充電サイクル時に素子38A及び38Bが同じカッ
ト・オフ状態へ駆動され得る。
予備充電サイクル時に素子38A及び38Bが同じカッ
ト・オフ状態へ駆動され得る。
VR線は零電圧へ復帰されてもされなくてもよい(素子
38A及び38Bはオンに保たれてもよい)。
38A及び38Bはオンに保たれてもよい)。
かくして、アクセスされた記憶セル及びダミー・セルが
各々の初期状態へ復帰された状態、即ち、記憶されてい
た情報がセルへ再書込みされた状態で、サイクルが終了
する。
各々の初期状態へ復帰された状態、即ち、記憶されてい
た情報がセルへ再書込みされた状態で、サイクルが終了
する。
もしアクセスされた記憶セルに電荷が貯蔵されていたな
らば(2進“1”の記憶に対応する)、ビット/感知線
の電位は、アクセスされたワード線が付勢された後も実
質的に変化しない。
らば(2進“1”の記憶に対応する)、ビット/感知線
の電位は、アクセスされたワード線が付勢された後も実
質的に変化しない。
勿論、この時素子38Aはカット・オフに近い状態に保
たれ、そして節点16A及びビット/感知線18A間に
は、電荷の転送が殆んど又は全く生じない。
たれ、そして節点16A及びビット/感知線18A間に
は、電荷の転送が殆んど又は全く生じない。
従って、節点16Aは節点16Bよりも高い電位を有し
、且つラッチ回路12は上述とは反対の状態にセットさ
れる。
、且つラッチ回路12は上述とは反対の状態にセットさ
れる。
即ち、素子28はオフにされ且つ素子30はオフにされ
る。
る。
ビット/感知線18Aは高電位に保たれる。
次いで、前と同様にしてサイクルが続けられ、アクセス
された記憶セルには高レベルの電位が再書込みされる。
された記憶セルには高レベルの電位が再書込みされる。
上述の実施例においては、キャパシタ42A及び42B
を介して節点16A及び16Bへ電圧ブースト(より高
い電位)を供給するために、VR線はパルス付勢されて
いたが、このようなパルス付勢を用いない実施例も可能
である。
を介して節点16A及び16Bへ電圧ブースト(より高
い電位)を供給するために、VR線はパルス付勢されて
いたが、このようなパルス付勢を用いない実施例も可能
である。
同様なブーストは、VR線からキャパシタ42A及び4
2Bを分離することによって与えられ得る。
2Bを分離することによって与えられ得る。
この場合これらのキャパシタは独立的にパルス付勢され
るが、一方、VR線は一定の直流電位に保たれる。
るが、一方、VR線は一定の直流電位に保たれる。
また、これらの節点においてより高い電位を得るために
、それらを素子24A及び24Bを介してより高い値に
充電することもでき、かくして、キャパシタ42A及び
42Bを使用する必要がな(なる。
、それらを素子24A及び24Bを介してより高い値に
充電することもでき、かくして、キャパシタ42A及び
42Bを使用する必要がな(なる。
この時、VR線は直流電位レベルを有していてもよい。
VR線もパルス付勢することは、節点16A及び16B
において十分な電位差が確立された後での電荷転送の停
止に対して望ましい効果を有する。
において十分な電位差が確立された後での電荷転送の停
止に対して望ましい効果を有する。
しかしながら、このようなパルス付勢はオーバーシュー
ト雑音の如き別の望ましくない効果を有する場合がある
。
ト雑音の如き別の望ましくない効果を有する場合がある
。
このような悪影響を少しでも少なくして電荷転送を停止
するためには、例えば、望ましい時間にビット/感知線
の電位を上昇させればよい。
するためには、例えば、望ましい時間にビット/感知線
の電位を上昇させればよい。
これにより、転送用素子38A又は38Bは、節点16
A及び16Bにおいて設定された電位差を失なうことな
くカット・オフされる。
A及び16Bにおいて設定された電位差を失なうことな
くカット・オフされる。
以上のように、本発明の感知増幅器は、電荷貯蔵型記憶
セルに対する感知及び再書込み回路として働くだけでな
く、感知動作後に両方のビット線セグメントの電位に高
低の差がある状態で両セグメント間の素子34を導通さ
せることによりビット線セグメントの電位を平衡化し、
こめ平衡化された電位でダミー・セルの充電を行なわせ
ることかできるものである。
セルに対する感知及び再書込み回路として働くだけでな
く、感知動作後に両方のビット線セグメントの電位に高
低の差がある状態で両セグメント間の素子34を導通さ
せることによりビット線セグメントの電位を平衡化し、
こめ平衡化された電位でダミー・セルの充電を行なわせ
ることかできるものである。
なお、上述の実施例では、負荷素子のない動的ラッチ回
路が使用されていたが、勿論普通の静的ラッチ回路が使
用されてもよい。
路が使用されていたが、勿論普通の静的ラッチ回路が使
用されてもよい。
第1図は本発明の良好な実施例を示す回路図、第2図は
第1図の回路におけるパルス・シーケンスを示す信号波
形図である。 10……感知増幅器、12……動的ラッチ回路、14A
、14B……BB増幅器、16A、16B……ラッチ節
点、18A、18B……ビツト/感知線、20A、20
B……記憶セル、23A。 23B……ダミー・セル
第1図の回路におけるパルス・シーケンスを示す信号波
形図である。 10……感知増幅器、12……動的ラッチ回路、14A
、14B……BB増幅器、16A、16B……ラッチ節
点、18A、18B……ビツト/感知線、20A、20
B……記憶セル、23A。 23B……ダミー・セル
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 電荷貯蔵型記憶セル及び感知動作時に基準電位を供
給するためのダミー・セルが各々接続されている第1ビ
ツト線セグメントと第2ビツト線セグメントとの間に設
けられ、一方のビット線セグメントからの記憶セル読取
り信号と他方のビット線セグメントからの上記基準電位
との間の電位差に応答して該電位差を更に増大するよう
に働くラッチ回路を有する感知増幅器において、 上記ラッチ回路の動作終了後に上記ビット線セグメント
間に増大された電位差が存在している状態で導通状態に
されて上記ビット線セグメントの電位を平衡化するため
のスイッチング素子を上記第1ビツト線セグメントと上
記第2ビツト線セグメントとの間に接続し、該スイッチ
ング素子によって平衡化された電位を上記基準電位とし
て上記ダミー・セルに書込むようにしたことを特徴とす
る感知増幅器。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/491,023 US3949381A (en) | 1974-07-23 | 1974-07-23 | Differential charge transfer sense amplifier |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5512600A JPS5512600A (en) | 1980-01-29 |
| JPS58116B2 true JPS58116B2 (ja) | 1983-01-05 |
Family
ID=23950483
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7711975A Expired JPS5539075B2 (ja) | 1974-07-23 | 1975-06-24 | |
| JP54088394A Expired JPS58116B2 (ja) | 1974-07-23 | 1979-07-13 | 感知増幅器 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7711975A Expired JPS5539075B2 (ja) | 1974-07-23 | 1975-06-24 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3949381A (ja) |
| JP (2) | JPS5539075B2 (ja) |
| BE (1) | BE830434A (ja) |
| CA (1) | CA1058321A (ja) |
| CH (1) | CH594956A5 (ja) |
| DE (1) | DE2525225C2 (ja) |
| ES (1) | ES439584A1 (ja) |
| FR (1) | FR2280247A1 (ja) |
| GB (1) | GB1495063A (ja) |
| IT (1) | IT1039030B (ja) |
| NL (1) | NL7508612A (ja) |
| SE (1) | SE408500B (ja) |
| SU (1) | SU673202A3 (ja) |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1523752A (en) * | 1974-08-28 | 1978-09-06 | Siemens Ag | Dynamic semiconductor data stores |
| US4168537A (en) * | 1975-05-02 | 1979-09-18 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Nonvolatile memory system enabling nonvolatile data transfer during power on |
| JPS51139220A (en) * | 1975-05-28 | 1976-12-01 | Hitachi Ltd | Sense amplifier |
| US4158891A (en) * | 1975-08-18 | 1979-06-19 | Honeywell Information Systems Inc. | Transparent tri state latch |
| US3983544A (en) * | 1975-08-25 | 1976-09-28 | International Business Machines Corporation | Split memory array sharing same sensing and bit decode circuitry |
| DE2541686A1 (de) * | 1975-09-18 | 1977-03-24 | Siemens Ag | Regenerierschaltung fuer ladungsgekoppelte elemente |
| US4031415A (en) * | 1975-10-22 | 1977-06-21 | Texas Instruments Incorporated | Address buffer circuit for semiconductor memory |
| US4039861A (en) * | 1976-02-09 | 1977-08-02 | International Business Machines Corporation | Cross-coupled charge transfer sense amplifier circuits |
| JPS5922316B2 (ja) * | 1976-02-24 | 1984-05-25 | 株式会社東芝 | ダイナミツクメモリ装置 |
| US4038567A (en) * | 1976-03-22 | 1977-07-26 | International Business Machines Corporation | Memory input signal buffer circuit |
| US4045783A (en) * | 1976-04-12 | 1977-08-30 | Standard Microsystems Corporation | Mos one transistor cell ram having divided and balanced bit lines, coupled by regenerative flip-flop sense amplifiers, and balanced access circuitry |
| US4028557A (en) * | 1976-05-21 | 1977-06-07 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Dynamic sense-refresh detector amplifier |
| US4081701A (en) * | 1976-06-01 | 1978-03-28 | Texas Instruments Incorporated | High speed sense amplifier for MOS random access memory |
| JPS52152128A (en) * | 1976-06-14 | 1977-12-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Minute signal detection circuit |
| DE2630797C2 (de) * | 1976-07-08 | 1978-08-10 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Funktionsgenerator zur Erzeugung einer Spannung an einem Knoten, an den den Bitleitungen eines MOS-Speichers zugeordnete Flip-Flops aus MOS-Transistoren angeschlossen sind |
| US4113880A (en) * | 1976-11-17 | 1978-09-12 | The Upjohn Company | 2'-Hydroxy-3'-carboxy-5'-nitrooxanilate compounds, compositions, and methods of use |
| DE2712735B1 (de) * | 1977-03-23 | 1978-09-14 | Ibm Deutschland | Lese-/Schreibzugriffschaltung zu Speicherzellen eines Speichers und Verfahren zu ihrem Betrieb |
| JPS53123039A (en) * | 1977-04-01 | 1978-10-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Detection circuit for signal voltage |
| US4134151A (en) * | 1977-05-02 | 1979-01-09 | Electronic Memories & Magnetics Corporation | Single sense line memory cell |
| DE2801255C2 (de) * | 1978-01-12 | 1984-06-28 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Bewerterschaltung für symmetrisch strukturierte Halbleiterspeicher mit Ein-Transistor-Speicherelementen |
| US4162416A (en) * | 1978-01-16 | 1979-07-24 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Dynamic sense-refresh detector amplifier |
| JPS5817997B2 (ja) * | 1978-03-31 | 1983-04-11 | 株式会社日立製作所 | メモリシステム |
| US4160275A (en) * | 1978-04-03 | 1979-07-03 | International Business Machines Corporation | Accessing arrangement for memories with small cells |
| DE2919166C2 (de) * | 1978-05-12 | 1986-01-02 | Nippon Electric Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Speichervorrichtung |
| US4239993A (en) * | 1978-09-22 | 1980-12-16 | Texas Instruments Incorporated | High performance dynamic sense amplifier with active loads |
| US4370575A (en) * | 1978-09-22 | 1983-01-25 | Texas Instruments Incorporated | High performance dynamic sense amplifier with active loads |
| JPS5545188A (en) * | 1978-09-27 | 1980-03-29 | Nec Corp | Dynamic random access memory unit |
| JPS5931155B2 (ja) * | 1979-10-11 | 1984-07-31 | インターナシヨナルビジネス マシーンズ コーポレーシヨン | 感知増幅回路 |
| US4279023A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-14 | International Business Machines Corporation | Sense latch |
| EP0084844B1 (en) * | 1982-01-20 | 1986-07-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fet circuits |
| JPS61145794A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-03 | Nec Corp | 半導体メモリの駆動方法 |
| US4816706A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-28 | International Business Machines Corporation | Sense amplifier with improved bitline precharging for dynamic random access memory |
| US5270591A (en) * | 1992-02-28 | 1993-12-14 | Xerox Corporation | Content addressable memory architecture and circuits |
| US5532623A (en) * | 1994-10-21 | 1996-07-02 | Waferscale Integration, Inc. | Sense amplifier with read current tracking and zero standby power consumption |
| US5525918A (en) * | 1994-12-27 | 1996-06-11 | Alliance Semiconductor Corporation | Pre-sense amplifier for monolithic memories |
| KR100264075B1 (ko) * | 1997-06-20 | 2000-08-16 | 김영환 | 전하 증폭 비트 라인 센스 앰프 |
| US7023243B2 (en) * | 2002-05-08 | 2006-04-04 | University Of Southern California | Current source evaluation sense-amplifier |
| US6606049B1 (en) * | 2002-08-02 | 2003-08-12 | Ami Semiconductor, Inc. | Analog to digital converters based on transconveyance amplifiers |
| US7263016B1 (en) | 2004-06-07 | 2007-08-28 | Virage Logic Corporation | Method and system for pre-charging and biasing a latch-type sense amplifier |
| JP4964225B2 (ja) * | 2006-03-01 | 2012-06-27 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体記憶装置 |
| CN103559903B (zh) * | 2013-10-25 | 2016-09-28 | 中国科学院微电子研究所 | 一种灵敏放大器 |
| US11037621B2 (en) * | 2018-12-26 | 2021-06-15 | Micron Technology, Inc. | Sensing techniques using a charge transfer device |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3514765A (en) * | 1969-05-23 | 1970-05-26 | Shell Oil Co | Sense amplifier comprising cross coupled mosfet's operating in a race mode for single device per bit mosfet memories |
| US3678473A (en) * | 1970-06-04 | 1972-07-18 | Shell Oil Co | Read-write circuit for capacitive memory arrays |
| BE789500A (fr) * | 1971-09-30 | 1973-03-29 | Siemens Ag | Memoire a semiconducteurs avec elements de memorisation a un seul transistor |
| US3760381A (en) * | 1972-06-30 | 1973-09-18 | Ibm | Stored charge memory detection circuit |
| US3771147A (en) * | 1972-12-04 | 1973-11-06 | Bell Telephone Labor Inc | Igfet memory system |
-
1974
- 1974-07-23 US US05/491,023 patent/US3949381A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-05-26 CH CH670475A patent/CH594956A5/xx not_active IP Right Cessation
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- 1979-07-13 JP JP54088394A patent/JPS58116B2/ja not_active Expired
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