JPS58105284A - 文字パタ−ンの拡大方式 - Google Patents
文字パタ−ンの拡大方式Info
- Publication number
- JPS58105284A JPS58105284A JP56204635A JP20463581A JPS58105284A JP S58105284 A JPS58105284 A JP S58105284A JP 56204635 A JP56204635 A JP 56204635A JP 20463581 A JP20463581 A JP 20463581A JP S58105284 A JPS58105284 A JP S58105284A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- character pattern
- edges
- interpolation
- outline
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Image Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ドツト構成の文字パターンを拡大する方法
に関する。
に関する。
ドツト構成の文字パターンを拡大する場合、単純に拡大
したのではエツジ部が粗くなって−しまい、文字の美観
が損なわれてしまう。この発明はかかる事情からなされ
たものであり、文字パターンをスムーズに拡大するよう
にしたものである。
したのではエツジ部が粗くなって−しまい、文字の美観
が損なわれてしまう。この発明はかかる事情からなされ
たものであり、文字パターンをスムーズに拡大するよう
にしたものである。
以下にこの発明を説明する。
この発明は、ドツト構成の文字パターンを拡大する方法
に関し、文字パターンをマスク法で輪郭追跡を行なうこ
とにより輪郭データを得ると共に１この輪郭データから
順次エツジを抽出し、各隣り合ったエツジ間の傾斜が水
平又は垂直の場合は直線補間を行ない、その他の場合に
は所宇の演算式によって求められる補間ステップでスム
ージング補間を行なって後に、得られた補間曲線内を埋
め込むようにしたものである。
に関し、文字パターンをマスク法で輪郭追跡を行なうこ
とにより輪郭データを得ると共に１この輪郭データから
順次エツジを抽出し、各隣り合ったエツジ間の傾斜が水
平又は垂直の場合は直線補間を行ない、その他の場合に
は所宇の演算式によって求められる補間ステップでスム
ージング補間を行なって後に、得られた補間曲線内を埋
め込むようにしたものである。
すなわち、第１図はこの発明の処理工程を示すものであ
るが、この発明では先ずマスク法によって文字パターン
の輪郭追跡を行なう（ステップ８６ 、８７ ）。ここ
ｋおいて、マスク法は第２回内に示すような９個の整列
されたマスクＭＳ及びＭ１〜Ｍ８で成るマスク枠ＭＰを
用い、中心のマスりＭＳを基準として文字パターンの適
歯なドツトに位置合せすると共に、マスクＭ１〜Ｍ８の
順番に文字パターン内か文字パターン外かを判別する。
るが、この発明では先ずマスク法によって文字パターン
の輪郭追跡を行なう（ステップ８６ 、８７ ）。ここ
ｋおいて、マスク法は第２回内に示すような９個の整列
されたマスクＭＳ及びＭ１〜Ｍ８で成るマスク枠ＭＰを
用い、中心のマスりＭＳを基準として文字パターンの適
歯なドツトに位置合せすると共に、マスクＭ１〜Ｍ８の
順番に文字パターン内か文字パターン外かを判別する。
しかして、マスクＭｌ〜Ｍ８のうち文字パターンの内外
を区別する境界と判別された方向にマスクＭ８を移動し
、このような判別動作及び移動を繰返して探索するとと
Ｋより、マスクＭＳの軌跡が文字パターンの輪郭となる
。第２図（Ｂ）の矢印Ａ１、Ａ２．・・・がマスクＭＳ
の軌跡を示しており、その停止位置のマスクＭＳに対応
するドツトが文字パターンの輪郭となる。したがって、
このように文字の輪郭を辿ることができる。一方、予め
文字パターンのエツジを求めておく（ステップＳ２）。
を区別する境界と判別された方向にマスクＭ８を移動し
、このような判別動作及び移動を繰返して探索するとと
Ｋより、マスクＭＳの軌跡が文字パターンの輪郭となる
。第２図（Ｂ）の矢印Ａ１、Ａ２．・・・がマスクＭＳ
の軌跡を示しており、その停止位置のマスクＭＳに対応
するドツトが文字パターンの輪郭となる。したがって、
このように文字の輪郭を辿ることができる。一方、予め
文字パターンのエツジを求めておく（ステップＳ２）。
この場合、最初に文字パターン（輪郭曲線）中の水平部
の抽出を行ない（ステップ８３）、次いで文字パターン
（輪郭−ＩＩ）中の垂直部の抽出を行なって稜（ステッ
プ８４）、両者の論理積からエツジを抽出する。第３図
はかかるエツジの抽出を駅間するためのパターン図であ
り、文字パターンの水平部は左下り＠線のドラ）ＤＩ〜
Ｄ５・、 Ｄ６ 、 Ｄ７ 。
の抽出を行ない（ステップ８３）、次いで文字パターン
（輪郭−ＩＩ）中の垂直部の抽出を行なって稜（ステッ
プ８４）、両者の論理積からエツジを抽出する。第３図
はかかるエツジの抽出を駅間するためのパターン図であ
り、文字パターンの水平部は左下り＠線のドラ）ＤＩ〜
Ｄ５・、 Ｄ６ 、 Ｄ７ 。
Ｄ８〜Ｄｌｌ 、 ＤＩ２ 、 ＤＩ３ 、 ＤＩ４
、 ＤＩ８ 、 ＤＩ９ 、 Ｄ山〜Ｄ２２．Ｄ２３〜
Ｄ２７．Ｄ２８．Ｄ２９〜Ｄ３１がこれに相当し、文字
パターンの垂直部は右下り斜線のドラ） ＤＩ 、 Ｄ
６ 、 Ｄ７ 、 Ｄ８ 、 Ｄｌｌ 、 ＤＩ２ 、
ＤＩ３ 、 ＤＩ４〜Ｄ１Ｂ 、 Ｄ２０ 、 Ｄ２
２ 、 Ｄ２７ 、 Ｄ２８ 、 Ｄ３１〜Ｄ３２がこ
れに相当する。よって、水平部及び垂直部の論理積をと
るとドツトＤＩ 、 Ｄ６〜Ｄ８ 、 ＤＩｌ〜Ｄ１４
゜ＤＩ８．Ｄ２０．Ｄ２２．Ｄ２７．Ｄ２Ｂ、Ｄ３１が
残り、これが文字パターン拡大時におけるエツジとなる
。かくして、エツジが求められると次にエツジ間のスム
ージング補間を行なうために、文字の輪郭追跡を行なう
（ステップ８２）。この場合、エツジとエツジの間が水
平又は垂直になっている時は直線で、単純に拡大する。
、 ＤＩ８ 、 ＤＩ９ 、 Ｄ山〜Ｄ２２．Ｄ２３〜
Ｄ２７．Ｄ２８．Ｄ２９〜Ｄ３１がこれに相当し、文字
パターンの垂直部は右下り斜線のドラ） ＤＩ 、 Ｄ
６ 、 Ｄ７ 、 Ｄ８ 、 Ｄｌｌ 、 ＤＩ２ 、
ＤＩ３ 、 ＤＩ４〜Ｄ１Ｂ 、 Ｄ２０ 、 Ｄ２
２ 、 Ｄ２７ 、 Ｄ２８ 、 Ｄ３１〜Ｄ３２がこ
れに相当する。よって、水平部及び垂直部の論理積をと
るとドツトＤＩ 、 Ｄ６〜Ｄ８ 、 ＤＩｌ〜Ｄ１４
゜ＤＩ８．Ｄ２０．Ｄ２２．Ｄ２７．Ｄ２Ｂ、Ｄ３１が
残り、これが文字パターン拡大時におけるエツジとなる
。かくして、エツジが求められると次にエツジ間のスム
ージング補間を行なうために、文字の輪郭追跡を行なう
（ステップ８２）。この場合、エツジとエツジの間が水
平又は垂直になっている時は直線で、単純に拡大する。
そし【、エツジとエツジとの間が傾斜している時は、次
の演算式によってスムージングを行なう。たとえば、第
３図におけるエツジＤ６の座標を（Ｘ□、ｙｌ）とし、
隣りのエツジＤ７の座標を（Ｘ２ ｔ ｙ２ ）とする
と、なるステップで順次補間する。ここに、である。第
４ｖＡは４倍に拡大した文字パターンを示すものであり
、 Ｅｌ〜Ｅ６がそれぞれエツジとなっている。
の演算式によってスムージングを行なう。たとえば、第
３図におけるエツジＤ６の座標を（Ｘ□、ｙｌ）とし、
隣りのエツジＤ７の座標を（Ｘ２ ｔ ｙ２ ）とする
と、なるステップで順次補間する。ここに、である。第
４ｖＡは４倍に拡大した文字パターンを示すものであり
、 Ｅｌ〜Ｅ６がそれぞれエツジとなっている。
このよ５にして、エツジ間のスムージング補間が簀子す
ると、次に第４図の斜線の如く輪郭の中を糠める（ステ
ップ８７〜８９）。これにより、スムーズに拡大された
文字パターンを得ることができる。
ると、次に第４図の斜線の如く輪郭の中を糠める（ステ
ップ８７〜８９）。これにより、スムーズに拡大された
文字パターンを得ることができる。
以′上のよ５にこの発明によれば、文字パターンのエツ
ジ部をスムージング処理して所望の倍率に拡大すること
ができる。
ジ部をスムージング処理して所望の倍率に拡大すること
ができる。
＃１４１図はこの発明方法の処理を水すフローチャート
、第２１９（Ａ） 、 （）ｌ）はこの発明の輪郭追跡
を説明するための図、第３図はこの発明によるエツジの
抽出を説明するための図、第４図はこの発明による拡大
パターンの一例を示す図である。 ８１〜Ｓ９・・・処理ステップ、 ＭＳ 、 Ｍｌ〜Ｍ
８・・・マスク、ＭＦ・・・マスク枠、 Ｅｌ〜Ｅ６・
・・エツジ。
、第２１９（Ａ） 、 （）ｌ）はこの発明の輪郭追跡
を説明するための図、第３図はこの発明によるエツジの
抽出を説明するための図、第４図はこの発明による拡大
パターンの一例を示す図である。 ８１〜Ｓ９・・・処理ステップ、 ＭＳ 、 Ｍｌ〜Ｍ
８・・・マスク、ＭＦ・・・マスク枠、 Ｅｌ〜Ｅ６・
・・エツジ。
Claims (1)
- ドツト構成の文字パターンを拡大する方法において、前
記文字パターンをマスク法で輪郭追跡を行なうことによ
り輪郭データを得ると共に、この輪郭データから順次エ
ツジを抽出し、前記各隣り合ったエツジ間の傾斜が水平
又は垂直の場合は直線補間な行ない、その他の場合には
所定演算式によって求められる補間ステップでスムージ
ング補間を行なって後に、得られた補間曲線内を埋め込
むようｋしたことを特徴とする文字パターンの拡大方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56204635A JPS58105284A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 文字パタ−ンの拡大方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56204635A JPS58105284A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 文字パタ−ンの拡大方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58105284A true JPS58105284A (ja) | 1983-06-23 |
| JPS6310433B2 JPS6310433B2 (ja) | 1988-03-07 |
Family
ID=16493734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56204635A Granted JPS58105284A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 文字パタ−ンの拡大方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58105284A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009044432A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Kenwood Corp | 字幕補正表示方法 |
| JP2009095864A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Aida Eng Ltd | サーボプレス |
-
1981
- 1981-12-18 JP JP56204635A patent/JPS58105284A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009044432A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Kenwood Corp | 字幕補正表示方法 |
| JP2009095864A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Aida Eng Ltd | サーボプレス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6310433B2 (ja) | 1988-03-07 |
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