JPS6310433B2 - - Google Patents

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JPS6310433B2
JPS6310433B2 JP56204635A JP20463581A JPS6310433B2 JP S6310433 B2 JPS6310433 B2 JP S6310433B2 JP 56204635 A JP56204635 A JP 56204635A JP 20463581 A JP20463581 A JP 20463581A JP S6310433 B2 JPS6310433 B2 JP S6310433B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
interpolation
character pattern
edges
mask
horizontal
Prior art date
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Expired
Application number
JP56204635A
Other languages
English (en)
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JPS58105284A (ja
Inventor
Akira Toda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP56204635A priority Critical patent/JPS58105284A/ja
Publication of JPS58105284A publication Critical patent/JPS58105284A/ja
Publication of JPS6310433B2 publication Critical patent/JPS6310433B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ドツト構成の文字パターンを拡大す
るための文字パターン拡大方式に関する。
一般に、ドツト構成の文字パターンを拡大する
場合、単純に拡大したのではエツジ部が粗くなつ
てしまい、文字の美観が損なわれてしまう。
本発明はかかる事情からなされたものであり、
文字パターンをスムーズに拡大するようにしたも
のである。
以下に本発明を説明する。
本発明は、ドツト構成の文字パターンを拡大す
る文字パターン拡大方式に関し、文字パターンを
含む領域上でマスク法で輪郭追跡を行うことによ
り輪郭データを得ると共に、この輪郭データから
順次エツジを抽出し、各隣り合つたエツジ間の傾
斜が水平又は垂直のときは直線補間を行い、水平
又は垂直でないときには所定の補間ステツプでス
ムージング補間を行い、得られた補間領域内を埋
め込むようにしたものである。
第1図は本発明の文字パターン拡大方式におけ
る処理工程を説明するための図である。
図において、スタートステツプS1で文字パタ
ーン拡大装置の動作を開始し、先ずステツプS2
で文字パターンのエツジの抽出を開始する。な
お、ここで言うエツジとはコーナーエツジのこと
である。
文字パターンのエツジの抽出は、最初に文字パ
ターン(輪郭曲線)中の水平部の抽出を行い(ス
テツプS3)、次いで文字パターン中の垂直部の
抽出を行い(ステツプS4)、抽出した水平部と
垂直部との論理積からエツジを抽出する(ステツ
プS5)。
この場合の水平部、垂直部の抽出について説明
すると、例えば、第2図Aに示すような9個の整
列されたマスクMS及びM1〜M8からなるマス
ク枠MFのマスクM3またはM7と中心のマスク
MSで水平部の抽出を、マスクM5またはM1と
中心のマスクMSで垂直部の抽出を行う。例え
ば、背景を白、文字パターンを黒とすると、先
ず、所定領域の走査を行つて最初に当たつた黒の
位置にマスク枠MFのマスクMSを位置させる。
水平部はマスクを水平に動かしたとき、MSが黒
でM3またはM7が白か否かで検出することがで
き、同様に垂直部はマスクを垂直に動かしたと
き、MSが黒でM5またはM1が白か否かで検出
することができる。こうして水平、垂直が検出さ
れれば、これらの論理積をとることによりエツジ
を抽出することができる。
さらに、輪郭追跡について説明すると、中心の
マスクMSを基準として文字パターンの適当なド
ツトに位置合わせすると共に、マスクM1〜M8
の順番に文字パターン内か文字パターン外かを判
別する。例えば、M2が白でM1が黒の場合には
M1はパターンの境界であると判断され、マスク
MSはM1の位置へ動かされる。このようなプロ
セスでマスクM1〜M8のうち文字パターンの内
外を区別する境界と判別された方向にマスクMS
を移動し、このような判別動作及び移動を繰り返
して探索が行われる。その結果、マスクMSの軌
跡が文字パターンの輪郭となる。第2図Bの矢印
A1,A2,…がマスクMSの軌跡を示してお
り、この軌跡のA1,A4で水平部を、A5で垂
直部を、A2,A3で傾斜部を検出することがで
きる。そして停止位置のマスクMSに対応するド
ツトが文字パターンの輪郭となり、こうして文字
の輪郭を辿ることができる。
第3図は前述のエツジの抽出を説明するパター
ン図である。
図において、文字パターンの水平部は左下りの
ハツチングを施したドツトD1〜D5,D6,D
7,D8〜D11,D12,D13,D14,D
18,D19,D20〜D22,D23〜D2
7,D28,D29〜D31がこれに相当し、文
字パターンの垂直部は右下りのハツチングを施し
たドツトD1,D6,D7,D8,D11,D1
2,D13,D14〜18,D20,D22,D
27,D28,D31〜D32がこれに相当す
る。この水平部及び垂直部の論理積をとるとドツ
トD1,D6〜D8,D11〜D14,D18,
D20,D22,D27,D28,D31が残
り、これが文字パターン拡大時における基本のエ
ツジとなる。
次にステツプS6で輪郭補間を開始し、エツジ
間補間を行う(ステツプS7)。エツジ間補間は、
前述のようにしてエツジ間が水平又は垂直である
ことが検出されたときは、直線で単純に拡大す
る。そして、エツジとエツジとの間が傾斜してい
ることが検出されたときは、次の演算式によつて
スムージングを行う。たとえば、第3図における
エツジD6の座標を(X1,Y1)とし、隣りのエ
ツジD7の座標を(X2,Y2)とすると、 X=X1+αi ……(1) Y=Y1+(Y2−Y1/X2−X1)・αi ……(2) なるステツプで順次補間する。ここに、 0≦αi≦(X2−X1)・n αi:整数,n:拡大倍率 である。例えば、D6とD7とではX2−X1=1、
Y2−Y1=1であるので、拡大倍率を4とすると、
0≦αi≦4となり、αiとしては0,1,2,3,
4をとり得る。その結果、傾きが1で4倍に拡大
することができる。
こうしてエツジ間の傾斜を検出し、エツジ間の
スムージング補間が完了し、輪郭が確定すると補
間領域内の埋め込みを行つて文字の拡大が完了す
る。(ステツプS8,S9)。
第4図は4倍に拡大した文字パターンを示すも
のであり、E1〜E6をそれぞれエツジとする10
個のドツトからなる元の文字パターンが、斜線部
分のように拡大されれたことを示している。
次に本発明の文字パターンの拡大を行うための
処理回路について第5図のブロツク図により説明
する。
図において、制御回路1はROMまたはRAM
に処理プログラムが書き込まれたものであり、こ
のプログラムにしたがつて文字パターン拡大のた
めの処理が実行される。画像入力装置2は文字パ
ターンを読み取つてメモリに入力させるためのも
のであり、メモリ4〜6は読み込んだデータ、或
いは演算回路3による演算結果を記憶しておくた
めのものである。インターフエース7は演算さ
れ、拡大された文字パターンをプリンタ8でプリ
ントアウトするか、あるいはデイスプレイ9に表
示させるためのものである。
次に作用を説明する。
画像入力装置2により拡大すべき文字パターン
が描かれた領域を走査して画像データが読み取ら
れ、読み取られた画像データは、例えばメモリ4
に書き込まれる。制御回路1からの指令により、
メモリ4のデータが読み出され、演算回路3にお
けるマスク法による処理で文字パターンデータの
輪郭追跡が行われ、水平部、垂直部の検出が行わ
れる。そして検出結果について論理積をとること
によりエツジの抽出が行われ、抽出結果が例えば
メモリ5に書き込まれる。次に、演算回路3では
メモリ5に書き込まれたエツジデータについて、
隣り合うエツジ間が水平か垂直であれば単純にド
ツトを拡大率倍し、傾斜している場合は、(1),(2)
式に基づく拡大処理を行つてエツジ間補間を行つ
て輪郭を確定すると共に、この内部を埋め込む処
理を行つて拡大した文字パターンデータをメモリ
6に書き込む。こうして得られた文字パターンデ
ータを必要に応じてメモリ6から読み出してプリ
ントアウト、または表示する。
以上のようにこの発明によれば、文字パターン
のエツジ部をスムージング処理して所望の倍率に
拡大することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を説明するための図、
第2図A,Bはマスク法による輪郭追跡を説明す
るための図、第3図は本発明によるエツジの抽出
を説明するための図、第4図は本発明による拡大
パターンの一例を示す図、第5図は文字パターン
拡大装置の構成を示すブロツク図である。 S1〜S9…処理ステツプ、MS,M1〜M8
…マスク、MF…マスク枠、E1〜E6…エツ
ジ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ドツト構成の文字パターンを含む領域上でマ
    スク法により輪郭追跡する輪郭追跡手段と、輪郭
    追跡により得られた輪郭データから順次エツジを
    抽出するエツジ抽出手段と、抽出したエツジ間の
    補間を行うエツジ間補間手段と、補間手段により
    得られた補間領域内を埋め込むための埋め込み手
    段とを備え、前記補間手段はマスク移動軌跡によ
    りエツジ間の傾斜を検出し、各隣り合つたエツジ
    間の傾斜が水平又は垂直であることが検出された
    ときは直線補間を行い、水平または垂直でないこ
    とが検出されたときは所定の補間ステツプでスム
    ージング補間を行うことを特徴とする文字パター
    ン拡大方式。
JP56204635A 1981-12-18 1981-12-18 文字パタ−ンの拡大方式 Granted JPS58105284A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56204635A JPS58105284A (ja) 1981-12-18 1981-12-18 文字パタ−ンの拡大方式

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56204635A JPS58105284A (ja) 1981-12-18 1981-12-18 文字パタ−ンの拡大方式

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58105284A JPS58105284A (ja) 1983-06-23
JPS6310433B2 true JPS6310433B2 (ja) 1988-03-07

Family

ID=16493734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56204635A Granted JPS58105284A (ja) 1981-12-18 1981-12-18 文字パタ−ンの拡大方式

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5061778B2 (ja) * 2007-08-08 2012-10-31 株式会社Jvcケンウッド 字幕補正表示方法
JP5013606B2 (ja) * 2007-10-17 2012-08-29 アイダエンジニアリング株式会社 サーボプレス

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Publication number Publication date
JPS58105284A (ja) 1983-06-23

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