JPS6011977A - 輪郭追跡方法 - Google Patents
輪郭追跡方法Info
- Publication number
- JPS6011977A JPS6011977A JP58119285A JP11928583A JPS6011977A JP S6011977 A JPS6011977 A JP S6011977A JP 58119285 A JP58119285 A JP 58119285A JP 11928583 A JP11928583 A JP 11928583A JP S6011977 A JPS6011977 A JP S6011977A
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- JP
- Japan
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- window
- windows
- contour
- pixels
- oilers
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(A)発明の技術分野
本発明は図形処理におい°ζ用いられる処理対象図形中
の輪郭を追跡する輪郭追跡方式に関する。
の輪郭を追跡する輪郭追跡方式に関する。
(B)技術の背景
コンピュータを利用した図形処理においては。
71−リソクス状に配列され2 hliデータによって
表される画素によって図形を表し処理を行うのであるが
5図形中の一部を切り出して2例えば、正規化・特徴抽
出・拡大等の処理を施すことがしばしばあり、このよう
な場合、切り出し範囲を指定するため一般に図形の輪郭
追跡とい・う手段が用いられている。
表される画素によって図形を表し処理を行うのであるが
5図形中の一部を切り出して2例えば、正規化・特徴抽
出・拡大等の処理を施すことがしばしばあり、このよう
な場合、切り出し範囲を指定するため一般に図形の輪郭
追跡とい・う手段が用いられている。
(C)従来技術と問題点
前記輪郭追跡のため、従来1輪郭を構成する輪郭図形画
素を3×3のウィンド−によって順次に追跡するという
T法が用いられていた。
素を3×3のウィンド−によって順次に追跡するという
T法が用いられていた。
ところが、2値データに変換する前の原図形に不明瞭な
部分があると、2値データに変換された後に画素の欠落
部分が生ずることがあり、このような場合には希望する
輪郭を完全に追跡することが出来ないという問題があっ
た。
部分があると、2値データに変換された後に画素の欠落
部分が生ずることがあり、このような場合には希望する
輪郭を完全に追跡することが出来ないという問題があっ
た。
(D)発明の目的
本発明の目的は、追跡対象とする図形の輪郭に欠落部分
があっても希望する輪郭を正しく追跡することの出来る
輪郭追跡方法を提供することにある。
があっても希望する輪郭を正しく追跡することの出来る
輪郭追跡方法を提供することにある。
(E)発明の構成
本発明になる輪郭追跡方法は、マトリックス状に配列さ
れ2値データによって表わされる画素のうち図形を構成
する図形画素であり且つ該図形の輪郭を構成する輪郭図
形画素に対し3×3のウィンドーとnを2以上の任意の
正の整数とする(2n+1 ) X (2n+1 )の
ウィンドーとを重ねて設定し、前記各々のウィンドー中
に互いに隣接して存在する図形画素の群数を剖赦し、前
記各々のウィンドー中の前記群数がいずれも1の場合に
は前記3×3のウィンドーを用い、3×3のウィンドー
中の前記群数が1で(2n+I ) X (2n+1
)のウィンドー中の前記群数が2の場合には前回用いた
うインF−が3×3であれば(2n+1 ) X (2
n+1)のウィンドーを用い前回用いたウィンドーが(
2n+1 ) X (2n4−1 )であれば3×3の
ウィンドーを用い、3×3のウィン(−一部の前記群数
が1で(2n+1 ) x (2n+1 )のウィンド
ー中の前記群数が3の場合には5×5のウィンドーをも
ちいて前記輪郭図形画素を追跡するものである。
れ2値データによって表わされる画素のうち図形を構成
する図形画素であり且つ該図形の輪郭を構成する輪郭図
形画素に対し3×3のウィンドーとnを2以上の任意の
正の整数とする(2n+1 ) X (2n+1 )の
ウィンドーとを重ねて設定し、前記各々のウィンドー中
に互いに隣接して存在する図形画素の群数を剖赦し、前
記各々のウィンドー中の前記群数がいずれも1の場合に
は前記3×3のウィンドーを用い、3×3のウィンドー
中の前記群数が1で(2n+I ) X (2n+1
)のウィンドー中の前記群数が2の場合には前回用いた
うインF−が3×3であれば(2n+1 ) X (2
n+1)のウィンドーを用い前回用いたウィンドーが(
2n+1 ) X (2n4−1 )であれば3×3の
ウィンドーを用い、3×3のウィン(−一部の前記群数
が1で(2n+1 ) x (2n+1 )のウィンド
ー中の前記群数が3の場合には5×5のウィンドーをも
ちいて前記輪郭図形画素を追跡するものである。
(F)発明の実施例
以下1本発明の要旨を実施例によって具体的に説明する
。
。
第1図は処理対象図形の一部を示し、○印は図形画素を
表し、X印は2値データに変換する前の原図形に不明瞭
な部分があたために生じた図形画素の欠落部分を示す。
表し、X印は2値データに変換する前の原図形に不明瞭
な部分があたために生じた図形画素の欠落部分を示す。
なお、X印が図形画素の欠落部分であるが、もともと非
図形画素すなわち背景画素であるかは。
図形画素すなわち背景画素であるかは。
オペレータの判断によるべきものであるが、1画素の大
きさは通常0.1 ミリメートル程度であり。
きさは通常0.1 ミリメートル程度であり。
したがって2図形画素に挟まれた1画素ないし3画素程
度の幅の背景画素は図形画素の欠落部分と見なすのが曹
通である。
度の幅の背景画素は図形画素の欠落部分と見なすのが曹
通である。
第1図は1画素分の1陥の欠落部分がある場合の例であ
り、このような場合には3×3のウィンドーと5×5の
ウィンドーとを設定し、第2図に示すように、◎印の輪
郭画素を右上から順番に追跡しで4番目の輪郭画素まで
達したものとしてその後の追跡方法を説明する。
り、このような場合には3×3のウィンドーと5×5の
ウィンドーとを設定し、第2図に示すように、◎印の輪
郭画素を右上から順番に追跡しで4番目の輪郭画素まで
達したものとしてその後の追跡方法を説明する。
第2図のような状態においてば3×3のウィンド“−八
および5×5のつ・インド−B中に互いに隣接して存在
する図形画素の群数(以下オイラー数と称する)はいず
れも1であるから、このあと3×3のウィンドー八を用
いる。
および5×5のつ・インド−B中に互いに隣接して存在
する図形画素の群数(以下オイラー数と称する)はいず
れも1であるから、このあと3×3のウィンドー八を用
いる。
第3図のような状態においては3×3のウィンドーΔお
よび5×5のウィンドー中のオイラー数はそれぞれ1お
よび2であり、またこの場合。
よび5×5のウィンドー中のオイラー数はそれぞれ1お
よび2であり、またこの場合。
前回用いたウィンドーは3×3であるから、このあと5
×5のウィンドーBを用いる。
×5のウィンドーBを用いる。
次に第4図のような状態においては3×3のウィンドー
Aおよび5×5のウィンl−−B中のオイラー数はそれ
ぞれ1および2であり、前回用いたウィンド−は5×5
であるから、このあと3×3のウィンドー八を用いる。
Aおよび5×5のウィンl−−B中のオイラー数はそれ
ぞれ1および2であり、前回用いたウィンド−は5×5
であるから、このあと3×3のウィンドー八を用いる。
また、第5図のような例においζは3×3のウィンドー
Δおよび5×5のウィンドー中のオイラー数はそれぞれ
jおよび3であるから、このあと5×5のウィンF’
−Bを用いる。
Δおよび5×5のウィンドー中のオイラー数はそれぞれ
jおよび3であるから、このあと5×5のウィンF’
−Bを用いる。
なお、各ウィンドーによる追跡は第6図(alおよび(
b)のように各ウィンドーの最外周の要素を右回りにザ
ーチすることによって行・う。ただし、ザーチを開始す
る画素ば、第7図に例示するように。
b)のように各ウィンドーの最外周の要素を右回りにザ
ーチすることによって行・う。ただし、ザーチを開始す
る画素ば、第7図に例示するように。
ウィンドーの最外周の要素に対応しすでに追跡した輪郭
画素のうち、背景画素に接する輪郭画素Cとする。
画素のうち、背景画素に接する輪郭画素Cとする。
前記実施例は処理対象図形に1画素の幅の欠落部分があ
る場合の例であるが、欠落部分の幅が2画素の場合には
、3×3のウィンド−と7×7のウィンド−、また欠落
部分の幅が3画素の場合には、3×3のウィンドーと9
×9のウィンドーを用いる。
る場合の例であるが、欠落部分の幅が2画素の場合には
、3×3のウィンド−と7×7のウィンド−、また欠落
部分の幅が3画素の場合には、3×3のウィンドーと9
×9のウィンドーを用いる。
第8図は本発明の方法を実行するために用いる装置の構
成例を示し、■は処理対象図形を読み取ってマトリック
ス状に配列される画素毎に2値データに変換する入力部
、2は入力部1によって得られた画素のうち図形を構成
する図形画素であり該図形の輪郭を構成する輪郭図形画
素に対し3×3のウィンドーとnを2以上の正の整数と
する(2n−N ) X (2n+1 )のウィド−と
を重ねて設定するウィンドー設定部、3は前記各々のウ
ィンドーの中のオイラー数を計数するオイラー数計数回
路、4ば前記各々のウィンドー中のオイラー数に応して
、前記各々のウィンドー中のオイラー数がいずれも1の
場合には前記3×3のウィンドーを用い、3×3のウィ
ンド−中のオイラー数が1で(2n4−1 ) X (
2n+1 )のウィンドー中のオイラー数が2の場合に
は前回用いたウィンドーが3×3であれば(2n+1
) X (2n+1 )のウィンドーを用い前回用いた
ウィンドーが(2n+1 ) X (2n+1)であれ
ば3×3のウィンドーを用い、3×3のウィンドー中の
オイラー数が1で(2n4−1)X (2n+l )の
ウィンドー中のオイラー数が3の場合には5×5のウィ
ンド−を用いるように決定するウィンドー決定回路、5
はウィンドー決定回路5によって決定されたウィンドー
を用い2第6図および第7図によって説明したようにし
て次の輪郭画素を追跡する追跡回路、6は追跡回路5が
追跡したりんかく画素を順次記憶するバッファ。
成例を示し、■は処理対象図形を読み取ってマトリック
ス状に配列される画素毎に2値データに変換する入力部
、2は入力部1によって得られた画素のうち図形を構成
する図形画素であり該図形の輪郭を構成する輪郭図形画
素に対し3×3のウィンドーとnを2以上の正の整数と
する(2n−N ) X (2n+1 )のウィド−と
を重ねて設定するウィンドー設定部、3は前記各々のウ
ィンドーの中のオイラー数を計数するオイラー数計数回
路、4ば前記各々のウィンドー中のオイラー数に応して
、前記各々のウィンドー中のオイラー数がいずれも1の
場合には前記3×3のウィンドーを用い、3×3のウィ
ンド−中のオイラー数が1で(2n4−1 ) X (
2n+1 )のウィンドー中のオイラー数が2の場合に
は前回用いたウィンドーが3×3であれば(2n+1
) X (2n+1 )のウィンドーを用い前回用いた
ウィンドーが(2n+1 ) X (2n+1)であれ
ば3×3のウィンドーを用い、3×3のウィンドー中の
オイラー数が1で(2n4−1)X (2n+l )の
ウィンドー中のオイラー数が3の場合には5×5のウィ
ンド−を用いるように決定するウィンドー決定回路、5
はウィンドー決定回路5によって決定されたウィンドー
を用い2第6図および第7図によって説明したようにし
て次の輪郭画素を追跡する追跡回路、6は追跡回路5が
追跡したりんかく画素を順次記憶するバッファ。
7は前記構成各部を制御する制御回路である。
(G)発明の効果
以」二説明したように1本発明によれば追跡対象とする
図形に欠落部分があっても希望する輪郭を正しく追跡す
ることが出来る。
図形に欠落部分があっても希望する輪郭を正しく追跡す
ることが出来る。
第1図は処理対象図形の例、第2図・第3図・第4図お
よび第5図はウィン1.−の決定法の説明図、第6図お
よび第7図は輪郭の追跡方法の説明図、第8図は本発明
の方法を実行するために用いる装置の構成例を示す。 茅 1 図 ××× 手 2 図 (J(Jす ¥ 3 図 ≠ 4− 図
よび第5図はウィン1.−の決定法の説明図、第6図お
よび第7図は輪郭の追跡方法の説明図、第8図は本発明
の方法を実行するために用いる装置の構成例を示す。 茅 1 図 ××× 手 2 図 (J(Jす ¥ 3 図 ≠ 4− 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 マl〜す・2クス状に配列され2値データによって表さ
れる画素のうち図形を構成する図形画素であり且つ該図
形の輪郭を構成する輪郭図形画素に対し3×3のウィン
ドーとnを2以上の任意の正の整数とする(2n+1
) X (2n4−1 )のウィンドーとを重ねて設定
し、前記各々のウィンドー中に互いに隣接して存在する
図形画素の群数を計数し。 前記各々のウィンドー中の前記群数がいずれも1の場合
には前記3×3のウィンドーを用い、3×3のウィンド
ー中の前記群数が1で(2n+1 ) X(2n+1)
のウィンドー中の前記群数が2の場合には前回用いたウ
ィンドーが3×3であれば(2n→−1’ ) X (
2n+1 )のウィンドーを用い前回用いたウィンドー
が(2n+1 ) X (2n+1 ’)であれば3×
3のウィンドーを用い、3×3のウィンドー中の前記群
数が1で(2n+1 ) X (2n→1)のウィンド
ー中の前記群数が3以上の場合には5×5のウィンドー
をもぢいて前記輪郭図形画素を追跡することを特徴とす
る輪郭追跡方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58119285A JPS6011977A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 輪郭追跡方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58119285A JPS6011977A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 輪郭追跡方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6011977A true JPS6011977A (ja) | 1985-01-22 |
Family
ID=14757605
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58119285A Pending JPS6011977A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 輪郭追跡方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6011977A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4616861A (en) * | 1984-07-23 | 1986-10-14 | Nifco, Inc. | Lock device |
US4657291A (en) * | 1985-04-24 | 1987-04-14 | Nifco, Inc. | Locking device |
US4660871A (en) * | 1985-04-01 | 1987-04-28 | Nifco, Inc. | Cam groove latch device |
US4688834A (en) * | 1985-08-05 | 1987-08-25 | Nifco Inc. | Locking device |
US4779906A (en) * | 1986-07-11 | 1988-10-25 | Nifco Inc. | Latch device |
DE102004036142B4 (de) * | 2004-07-26 | 2009-04-09 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauelement mit einer Metallisierung mit mehreren durch zumindest eine Barriereschicht getrennten Metallisierungsschichten sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
-
1983
- 1983-06-30 JP JP58119285A patent/JPS6011977A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4616861A (en) * | 1984-07-23 | 1986-10-14 | Nifco, Inc. | Lock device |
US4660871A (en) * | 1985-04-01 | 1987-04-28 | Nifco, Inc. | Cam groove latch device |
US4657291A (en) * | 1985-04-24 | 1987-04-14 | Nifco, Inc. | Locking device |
US4688834A (en) * | 1985-08-05 | 1987-08-25 | Nifco Inc. | Locking device |
US4779906A (en) * | 1986-07-11 | 1988-10-25 | Nifco Inc. | Latch device |
DE102004036142B4 (de) * | 2004-07-26 | 2009-04-09 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauelement mit einer Metallisierung mit mehreren durch zumindest eine Barriereschicht getrennten Metallisierungsschichten sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
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