JPH1190413A - 銅電解液中のひ素の除去方法 - Google Patents
銅電解液中のひ素の除去方法Info
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Abstract
除去する際に従来は電解液の一部を抜き出して浄液して
いたので、所定Ａｓを除去するためには浄液処理水量が
多くなっていた。 【解決手段】 銅電解液とひ素吸着用キレート樹脂を接
触させ、吸着後液を前記ひ素吸着用キレート樹脂から排
出した後、ひ素吸着用キレート樹脂に滞留している電解
液に、水洗することなく酸液で溶離を施し、溶離初期の
溶離後液を浄液する。
Description
の除去方法に関するものであり、より詳しく述べるなら
ば銅製錬等におけるＡｓ含有電解液等からＡｓを除去す
る際の処理液量を少なくする方法に関するものである。
４０〜５０ｇ／Ｌ、Ａｓ１〜２０ｇ／Ｌ、遊離（ｆ）硫
酸１５０〜２００ｇ／Ｌを含有している。この電解液か
らひ素を除去し、再度電解に戻す場合、例えばＡｓを５
ｇ／Ｌ以下に維持することが電気銅の品質などの面から
必要になる。ここで、浄液中のＡｓ濃度を５ｇ／Ｌ（５
×１０-3Ｔ／ｍ3 ）、アノードからのＡｓ溶出量を１０
Ｔ／月、Ａｓの浄液効率を７０％とすると、電解液の一
部約２９００ｍ3 ／月（≒１０（Ｔ／月）／５×１０-3
（Ｔ／ｍ3 ）×０．７０）を抜き出し、この２９００ｍ
3 ／月について浄液を施することが必要になる。
のＮｉを含有することもあるが、この銅電解液から上記
のように抜き出された２９００ｍ3 ／月全量あるいはそ
の一部についてＮｉを除去する浄液を行っていた。
するためには上記例で説明したように電解液をそのまま
抜き出しており、このために浄液水量が例えば２９００
ｍ3 ／月と多くなっているので、本発明は浄液水量を大
幅に低減することができる銅電解液中のひ素の除去方法
を提供することを目的とする。
る銅電解液と、例えば特開昭５８−６４１８０号に記載
された下記アミノポリアルコール基を有する樹脂などの
ひ素吸着用キレート樹脂を接触させ、吸着後液をひ素吸
着用キレート樹脂から排出した後、ひ素吸着後のキレー
ト樹脂を水洗することなく酸液で溶離を施し、溶離初期
の溶離後液を浄液することを特徴とする銅電解液中のひ
素の除去方法を提供するものである。なお式中Ｒはアル
キル基（Ｃn Ｈ2n+1）である。以下、本発明を詳細に説
明する。
合、通常は吸着終了後樹脂塔内に残留した処理液を溶離
液と混ざらないように、エアーパージしさらに水洗して
塔内から排除する。しかしながら、本発明者らの実験に
よると、ひ素吸着用キレート樹脂は水洗時に吸着した砒
素の一部が溶離し、残留液との分離ができないことが判
明した。水洗時に溶離する砒素量は種々工夫をしても全
吸着砒素量の３０％を下回ることはできなかった。一方
現状ではニッケルの除去は銅など他のイオンを除いた後
あるいは同時にしかできないため、除去すべきニッケル
量を含んだ電解液分はどうしても系外に排出する必要が
あった。そこで吸着後水洗工程なしで溶離し、溶離初期
の樹脂塔内に残留した電解液と一部溶離して濃度が上昇
した砒素を分離せずに、そのまま通常の浄液工程に送る
ことにより、浄液量を大幅に削減できるとともに、砒素
を効率よく除くことができる本発明方法に至った。
の酸、好ましくは３０〜５０ｇ／Ｌの濃度の硫酸あるい
は塩酸を含有する酸液であればよいが、上記のように溶
離後期の溶離後液（以下「溶離後期液」と略称する）は
Ａｓ濃度が低くかつ適量の酸を含有するので、これを必
要により酸を補加して、溶離に再使用すると、処理液総
量の増大を抑えることができる。この溶離液の好ましい
濃度はＡｓが０．１ｇ／Ｌ未満、遊離硫酸が３０〜５０
ｇ／Ｌ未満である。
レベルに維持するためには、硫化処理によりひ素及び銅
を除去し、その後脱硫を施した溶離後液を繰返し溶離に
使用することが好ましい。ここで硫化処理は硫化水素、
ＮａＨＳなどにより行う。この処理後、主として銅、ひ
素、ニッケルなどを含有する沈殿物を固液分離により分
離する。ろ液は溶存Ｈ2 Ｓを含有するために、硫酸銅溶
液などにより脱硫する。また、溶離後期後は消石灰など
で中和し、再利用することもできるが、この場合は添加
する硫酸量が増加する欠点がある。
と略称する）は上述のように比較的Ｃｕ及びＡｓ濃度が
高い。この溶離初期液は通例により脱砒電解、硫化及び
溶媒抽出などを施し、処理後の硫酸液は電解に戻す。
び溶離後期液中に移行し、上述のように回収されるが、
Ｎｉは砒素吸着用キレート樹脂に吸着されないのでほと
んどは吸着後液中に残留する。ここで、アノードからの
Ａｓ溶出量／（電解液中のＡｓ許容濃度×浄液でのＡｓ
除去率）をＡｓ基準浄液量（ＣｌAS）と表しアノードか
らのＮｉ溶出量／（電解液中のＮｉ許容濃度×浄液での
Ｎｉ除去率）をＮｉ基準浄液量（ＣｌNi）と表すと、Ｃ
ｌAS＞ＣｌNiの条件が充たされる場合に浄液量を減らす
効果がある。
い、また吸着を繰り返して行うと、樹脂塔内の樹脂が全
体として残存する溶存Ｈ2 Ｓにより黒く変色する場合が
ある。そこで、変色した樹脂を、Ｈ2 ＳＯ4 ，ＨＣｌ，
ＨＮＯ3 ，ＮａＯＨ，ＮＨ3などで再生し、その後樹脂
を分析した。その結果を次の表に示す。
て有効であることが分かる。また硝酸を用いて再生する
と、樹脂の色が黒色から元のベージュ色に戻る。これは
樹脂中に蓄積していた硫化銅が硝酸溶液中に溶解し、硫
化銅が分解して黒色から元のベージュ色に戻ったと考え
られる。以下、実施例により本発明を詳しく説明する。
０００ｃｃをキレート樹脂（製品名：ミヨ油脂Ｂ−１、
量１００ｃｃ，吸着能力Ａｓ２０ｇ／Ｒ）により吸着処
理したところ、に成分濃度及び量を示す吸着後液９２
０ｃｃが得られ、砒素が２ｇ樹脂に吸着された。この状
態で樹脂を水洗すると砒素が溶離してしまうが、水洗を
しないで、直ちに遊離硫酸濃度が３０ｇ／Ｌである溶離
液２００ｃｃ（）で溶離を行った。なお、この溶離液
は後述のように循環液である。
離初期液と同じくに示す溶離後期液が得られた。これ
らの液の合計量は２８０ｃｃ（Ａｓ量＝２ｇ）であり、
上述の従来法では同じ量のＡｓを処理するための液量が
４００ｃｃであったので、処理液量が３０％少なくなっ
た。一方、溶離後期液には２．４ｇのＮａＨＳを添加
して硫化を行い、次に固液分離により成分濃度及び量を
に示す硫化物７ｇを生成した。硫化物を分離した分離
後液はに示すように硫酸水溶液であるが、微量のＨ2
Ｓを含有するために脱硫化水素を行い、残留Ｈ2 Ｓを吸
着させた後、水５４ｃｃ及び硫酸２．４ｇを補加した溶
離液とした。
び溶離を１２回繰り返したとことろキレート樹脂が黒変
し、またＡｓ吸着効率の低下が目立ったので、樹脂１５
ｃｃ当り３ＮＨＮＯ3 水溶液１５０ｃｃで再生したとこ
ろ樹脂は元の色に戻った。
電解液中のＡｓを除去する際の処理水量を少なくして処
理コストを低減することができる。また溶離初期液及び
溶離後期液中のＡｓ濃度は銅電解液よりも高濃度となる
ために、ひ素除去コストが安くなる。また溶離液を繰り
返し使用すると（請求項２、３）、セミクローズド処理
系統となり、一層のコスト低減を図ることができる。最
後にキレート樹脂の再生（請求項４）によって、キレー
ト樹脂を長期に使用すると樹脂原単位も低く押さえるこ
とができる。
である。
Claims (4)
- 【請求項１】 銅及びひ素を含有する銅電解液とひ素吸
着用キレート樹脂を接触させ、吸着後液を前記ひ素吸着
用キレート樹脂から排出した後、前記ひ素吸着後のキレ
ート樹脂を水洗することなく酸液で溶離を施し、溶離初
期の溶離後液を浄液することを特徴とする銅電解液中の
ひ素の除去方法。 - 【請求項２】 溶離後期の溶離後液を繰返し溶離用酸液
として使用することを特徴とする請求項１記載の銅電解
液中のひ素の除去方法。 - 【請求項３】 溶離後期の溶離後液に硫化処理してひ素
を除去し、その後脱硫し、ダミー樹脂工程を通液後、溶
離後液を繰返し溶離に使用することを特徴とする請求項
２記載の銅電解液中のひ素の除去方法。 - 【請求項４】 キレート樹脂を硝酸処理または酸化処理
により再生し、その後吸着及び溶離を行うことを特徴と
する請求項３記載の銅電解液中のひ素の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27824197A JP3784940B2 (ja) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | 銅電解液中のひ素の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27824197A JP3784940B2 (ja) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | 銅電解液中のひ素の除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1190413A true JPH1190413A (ja) | 1999-04-06 |
| JP3784940B2 JP3784940B2 (ja) | 2006-06-14 |
Family
ID=17594596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27824197A Expired - Fee Related JP3784940B2 (ja) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | 銅電解液中のひ素の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3784940B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010100524A (ja) * | 2010-01-25 | 2010-05-06 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | スコロダイトの製造方法及び洗浄方法 |
| US9233863B2 (en) | 2011-04-13 | 2016-01-12 | Molycorp Minerals, Llc | Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species |
| JP2016222997A (ja) * | 2015-06-03 | 2016-12-28 | 住友金属鉱山株式会社 | 砒素の回収方法 |
| US9975787B2 (en) | 2014-03-07 | 2018-05-22 | Secure Natural Resources Llc | Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions |
-
1997
- 1997-09-25 JP JP27824197A patent/JP3784940B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
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| US9233863B2 (en) | 2011-04-13 | 2016-01-12 | Molycorp Minerals, Llc | Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species |
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| US10577259B2 (en) | 2014-03-07 | 2020-03-03 | Secure Natural Resources Llc | Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions |
| JP2016222997A (ja) * | 2015-06-03 | 2016-12-28 | 住友金属鉱山株式会社 | 砒素の回収方法 |
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|---|---|
| JP3784940B2 (ja) | 2006-06-14 |
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