JPH1172449A - 蛍光ｘ線分析方法および装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析方法および装置Info
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- JPH1172449A JPH1172449A JP9232309A JP23230997A JPH1172449A JP H1172449 A JPH1172449 A JP H1172449A JP 9232309 A JP9232309 A JP 9232309A JP 23230997 A JP23230997 A JP 23230997A JP H1172449 A JPH1172449 A JP H1172449A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定する
蛍光Ｘ線分析において、試料の高さを簡単かつ適切に設
定できる蛍光Ｘ線分析方法および装置を提供する。 【解決手段】 測定中心Ｑに位置する試料部位から発生
する蛍光Ｘ線５の強度を測定する蛍光Ｘ線分析方法にお
いて、測定中心Ｑに向けてレーザ光１４を照射し、試料
１を上下させて、測定中心Ｑを直下に臨む撮像手段１２
からの画像において、試料表面１ａにおけるレーザ光１
４の照射点を画像の中心に位置させることにより、画像
の中心に見える試料表面１ａの点を測定中心Ｑに位置さ
せる。
蛍光Ｘ線分析において、試料の高さを簡単かつ適切に設
定できる蛍光Ｘ線分析方法および装置を提供する。 【解決手段】 測定中心Ｑに位置する試料部位から発生
する蛍光Ｘ線５の強度を測定する蛍光Ｘ線分析方法にお
いて、測定中心Ｑに向けてレーザ光１４を照射し、試料
１を上下させて、測定中心Ｑを直下に臨む撮像手段１２
からの画像において、試料表面１ａにおけるレーザ光１
４の照射点を画像の中心に位置させることにより、画像
の中心に見える試料表面１ａの点を測定中心Ｑに位置さ
せる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料から発生する
蛍光Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ線分析において、試料
の高さを簡単かつ適切に設定できる蛍光Ｘ線分析方法お
よび装置に関するものである。
蛍光Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ線分析において、試料
の高さを簡単かつ適切に設定できる蛍光Ｘ線分析方法お
よび装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】蛍光Ｘ線分析装置においては、試料の測
定部分が位置すべき測定中心が設定されており、その測
定中心めがけて１次Ｘ線が照射され、その測定中心に位
置する試料の測定部分から発生する蛍光Ｘ線が検出手段
に入射するように、Ｘ線源や検出手段が設定されてい
る。したがって、試料表面やその深さ方向への近傍（以
下、試料部位という）から発生する蛍光Ｘ線の強度を測
定する際には、ＸＹステージやＺステージ等を用いて試
料を固定した試料台を移動等させることにより、試料表
面上の任意の測定点を測定中心に位置させて、発生する
蛍光Ｘ線の強度を測定する必要がある。
定部分が位置すべき測定中心が設定されており、その測
定中心めがけて１次Ｘ線が照射され、その測定中心に位
置する試料の測定部分から発生する蛍光Ｘ線が検出手段
に入射するように、Ｘ線源や検出手段が設定されてい
る。したがって、試料表面やその深さ方向への近傍（以
下、試料部位という）から発生する蛍光Ｘ線の強度を測
定する際には、ＸＹステージやＺステージ等を用いて試
料を固定した試料台を移動等させることにより、試料表
面上の任意の測定点を測定中心に位置させて、発生する
蛍光Ｘ線の強度を測定する必要がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、例えば、試料
が平滑な板状でないような場合には、試料表面上の任意
の測定点を測定中心に位置させることは、特に高さ方向
において、容易でない。
が平滑な板状でないような場合には、試料表面上の任意
の測定点を測定中心に位置させることは、特に高さ方向
において、容易でない。
【０００４】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、試料から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定する蛍
光Ｘ線分析において、試料の高さを簡単かつ適切に設定
できる蛍光Ｘ線分析方法および装置を提供することを目
的とする。
もので、試料から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定する蛍
光Ｘ線分析において、試料の高さを簡単かつ適切に設定
できる蛍光Ｘ線分析方法および装置を提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１の方法では、前記測定中心に、試料表面の
任意の点を位置させるにあたり、前記測定中心に向けて
レーザ光を照射し、試料を上下させて、前記測定中心を
直下に臨むように設置した撮像手段により得られた画像
において、試料表面におけるレーザ光の照射点を画像の
中心に位置させることにより、画像の中心に見える試料
表面の点を前記測定中心に位置させる。
に、請求項１の方法では、前記測定中心に、試料表面の
任意の点を位置させるにあたり、前記測定中心に向けて
レーザ光を照射し、試料を上下させて、前記測定中心を
直下に臨むように設置した撮像手段により得られた画像
において、試料表面におけるレーザ光の照射点を画像の
中心に位置させることにより、画像の中心に見える試料
表面の点を前記測定中心に位置させる。
【０００６】請求項１の方法によれば、撮像手段により
得られた画像において、レーザ光の照射点を画像の中心
に位置させることにより、画像の中心に見える試料表面
の点を前記測定中心に位置させるので、試料の高さ設定
を視覚的に認識して簡単かつ適切に行うことができる。
得られた画像において、レーザ光の照射点を画像の中心
に位置させることにより、画像の中心に見える試料表面
の点を前記測定中心に位置させるので、試料の高さ設定
を視覚的に認識して簡単かつ適切に行うことができる。
【０００７】請求項２の装置は、まず、試料が固定され
る試料台と、測定中心に向けて１次Ｘ線を照射するＸ線
源と、その測定中心に位置する試料部位から発生する蛍
光Ｘ線の強度を測定する検出手段とを備えている。そし
て、前記測定中心に向けてレーザ光を照射するレーザ光
源と、前記測定中心を直下に臨むように設置され、試料
表面を撮像して画像データを生成する撮像手段とを備え
ている。また、試料台について、基準となる位置からの
水平面内で直交する２方向への移動量を示すＸＹ座標を
変化させる平行移動調整器と、基準となる位置からの高
さ方向への移動量を示すＺ座標を変化させる高さ調整器
とを備えている。請求項２の装置によっても、前記請求
項１の方法と同様の作用効果がある。
る試料台と、測定中心に向けて１次Ｘ線を照射するＸ線
源と、その測定中心に位置する試料部位から発生する蛍
光Ｘ線の強度を測定する検出手段とを備えている。そし
て、前記測定中心に向けてレーザ光を照射するレーザ光
源と、前記測定中心を直下に臨むように設置され、試料
表面を撮像して画像データを生成する撮像手段とを備え
ている。また、試料台について、基準となる位置からの
水平面内で直交する２方向への移動量を示すＸＹ座標を
変化させる平行移動調整器と、基準となる位置からの高
さ方向への移動量を示すＺ座標を変化させる高さ調整器
とを備えている。請求項２の装置によっても、前記請求
項１の方法と同様の作用効果がある。
【０００８】請求項３の装置は、請求項２の装置におい
て、さらに、試料台について、水平面内での回転角度を
示すθ座標を変化させる回転角調整器と、水平面からの
回転角度を示すφ座標を変化させる傾斜角調整器とを備
えている。請求項３の装置によれば、試料が平滑な板状
でないような場合にも、高さ方向を含め、試料の位置、
姿勢を簡単かつ適切に設定できる。
て、さらに、試料台について、水平面内での回転角度を
示すθ座標を変化させる回転角調整器と、水平面からの
回転角度を示すφ座標を変化させる傾斜角調整器とを備
えている。請求項３の装置によれば、試料が平滑な板状
でないような場合にも、高さ方向を含め、試料の位置、
姿勢を簡単かつ適切に設定できる。
【０００９】請求項４の装置は、請求項２または３の装
置において、さらに、前記撮像手段により得られた画像
において、試料表面におけるレーザ光の照射点を画像の
中心に位置させるように、前記高さ調整器を制御する制
御手段を備えている。請求項４の装置によれば、制御手
段により、試料表面におけるレーザ光の照射点を画像の
中心に位置させるので、いっそう簡単に試料の高さ設定
を行うことができる。
置において、さらに、前記撮像手段により得られた画像
において、試料表面におけるレーザ光の照射点を画像の
中心に位置させるように、前記高さ調整器を制御する制
御手段を備えている。請求項４の装置によれば、制御手
段により、試料表面におけるレーザ光の照射点を画像の
中心に位置させるので、いっそう簡単に試料の高さ設定
を行うことができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態の蛍光
Ｘ線分析方法を説明する。まず、この方法で用いる駆動
系座標（Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ，φ）について説明する。この
方法では、試料１を固定した試料台２を、移動、回転さ
せるが、図１に実線で示すように、後述するこの方法に
用いる装置の平行移動調整器７、高さ調整器８、回転角
調整器９および傾斜角調整器１０がすべて所定の初期状
態である場合の試料台２の上面の中心Ｔの位置を原点Ｏ
T とし、その原点ＯT から、図１に２点鎖線で示す移
動、回転後の試料台２の上面の中心Ｔの位置までの、水
平左方向（Ｘ軸）での移動量をＸ座標、紙面に垂直で奥
に向かう方向（Ｙ軸）での移動量をＹ座標、高さ方向
（Ｚ軸）での移動量をＺ座標とする。これら駆動系座標
のＸＹＺ軸および原点ＯT は、試料台２の移動、回転の
影響を受けず、空間に固定されている。また、前記初期
状態から、移動、回転後の試料台２の、水平面内での回
転角度をθ座標、水平面からの回転角度（傾斜角）をφ
座標とする。
Ｘ線分析方法を説明する。まず、この方法で用いる駆動
系座標（Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ，φ）について説明する。この
方法では、試料１を固定した試料台２を、移動、回転さ
せるが、図１に実線で示すように、後述するこの方法に
用いる装置の平行移動調整器７、高さ調整器８、回転角
調整器９および傾斜角調整器１０がすべて所定の初期状
態である場合の試料台２の上面の中心Ｔの位置を原点Ｏ
T とし、その原点ＯT から、図１に２点鎖線で示す移
動、回転後の試料台２の上面の中心Ｔの位置までの、水
平左方向（Ｘ軸）での移動量をＸ座標、紙面に垂直で奥
に向かう方向（Ｙ軸）での移動量をＹ座標、高さ方向
（Ｚ軸）での移動量をＺ座標とする。これら駆動系座標
のＸＹＺ軸および原点ＯT は、試料台２の移動、回転の
影響を受けず、空間に固定されている。また、前記初期
状態から、移動、回転後の試料台２の、水平面内での回
転角度をθ座標、水平面からの回転角度（傾斜角）をφ
座標とする。
【００１１】次に、この方法に用いる蛍光Ｘ線分析装置
について説明する。図１に示すように、この装置は、ま
ず、試料１が固定される試料台２と、測定中心Ｑに向け
て１次Ｘ線３を照射するＸ線源４と、前記測定中心Ｑに
位置する試料部位から発生する蛍光Ｘ線５の強度を測定
する検出手段６とを備えている。そして、試料台２につ
いて、前記駆動系座標のＸＹ座標を変化させる平行移動
調整器７と、Ｚ座標を変化させる高さ調整器８と、θ座
標を変化させる回転角調整器９と、φ座標を変化させる
傾斜角調整器１０とを備えている。平行移動調整器７、
高さ調整器８および回転角調整器９は、傾斜角調整器１
０の上面に垂直な軸Ｈを中心軸として構成されている。
について説明する。図１に示すように、この装置は、ま
ず、試料１が固定される試料台２と、測定中心Ｑに向け
て１次Ｘ線３を照射するＸ線源４と、前記測定中心Ｑに
位置する試料部位から発生する蛍光Ｘ線５の強度を測定
する検出手段６とを備えている。そして、試料台２につ
いて、前記駆動系座標のＸＹ座標を変化させる平行移動
調整器７と、Ｚ座標を変化させる高さ調整器８と、θ座
標を変化させる回転角調整器９と、φ座標を変化させる
傾斜角調整器１０とを備えている。平行移動調整器７、
高さ調整器８および回転角調整器９は、傾斜角調整器１
０の上面に垂直な軸Ｈを中心軸として構成されている。
【００１２】より具体的に試料台２から下の構成を説明
すると、まず、試料台２は、その下の回転角調整器９の
上面に固定されている。回転角調整器９は円柱状で、そ
の中心軸Ｈ回りに、その下の平行移動調整器７の上部７
ａに対し、パルスモータおよびウォームギア等により、
回転自在である。すなわち、回転角調整器９により、試
料台２について、水平面内での初期状態からの回転角度
を示すθ座標を変化させることができる。平行移動調整
器上部７ａは、下部７ｂに対して前記中心軸Ｈに垂直で
紙面に沿う方向にパルスモータおよびボールねじ等によ
り移動自在に設置され、平行移動調整器下部７ｂは、そ
の下の高さ調整器上部８ａに対して前記中心軸Ｈおよび
紙面に垂直な方向にパルスモータおよびボールねじ等に
より移動自在に設置されている。すなわち、平行移動調
整器７の調整により、試料台２について、原点ＯT から
のＸ軸およびＹ軸での移動量を示すＸＹ座標を変化させ
ることができる。
すると、まず、試料台２は、その下の回転角調整器９の
上面に固定されている。回転角調整器９は円柱状で、そ
の中心軸Ｈ回りに、その下の平行移動調整器７の上部７
ａに対し、パルスモータおよびウォームギア等により、
回転自在である。すなわち、回転角調整器９により、試
料台２について、水平面内での初期状態からの回転角度
を示すθ座標を変化させることができる。平行移動調整
器上部７ａは、下部７ｂに対して前記中心軸Ｈに垂直で
紙面に沿う方向にパルスモータおよびボールねじ等によ
り移動自在に設置され、平行移動調整器下部７ｂは、そ
の下の高さ調整器上部８ａに対して前記中心軸Ｈおよび
紙面に垂直な方向にパルスモータおよびボールねじ等に
より移動自在に設置されている。すなわち、平行移動調
整器７の調整により、試料台２について、原点ＯT から
のＸ軸およびＹ軸での移動量を示すＸＹ座標を変化させ
ることができる。
【００１３】高さ調整器上部８ａは、下部８ｂに対して
前記中心軸Ｈ方向にパルスモータおよびボールねじ等に
より移動自在に設置され、下部８ｂは、その下の傾斜角
調整器上部１０ａに固定されている。すなわち、高さ調
整器８により、試料台２について、原点ＯT からのＺ軸
での移動量を示すＺ座標を変化させることができる。傾
斜角調整器上部１０ａは、下部１０ｂに対して前記測定
中心Ｑを中心とする円弧に沿ってパルスモータおよびウ
ォームギア等により移動自在に設置され、下部１０ｂ
は、その下の装置の基台等に固定されている。すなわ
ち、傾斜角調整器１０により、試料台２について、水平
面からの回転角度を示すφ座標を変化させることができ
る。
前記中心軸Ｈ方向にパルスモータおよびボールねじ等に
より移動自在に設置され、下部８ｂは、その下の傾斜角
調整器上部１０ａに固定されている。すなわち、高さ調
整器８により、試料台２について、原点ＯT からのＺ軸
での移動量を示すＺ座標を変化させることができる。傾
斜角調整器上部１０ａは、下部１０ｂに対して前記測定
中心Ｑを中心とする円弧に沿ってパルスモータおよびウ
ォームギア等により移動自在に設置され、下部１０ｂ
は、その下の装置の基台等に固定されている。すなわ
ち、傾斜角調整器１０により、試料台２について、水平
面からの回転角度を示すφ座標を変化させることができ
る。
【００１４】なお、以上のような構成においては、傾斜
角調整器１０が初期状態になくその上面が水平でないと
きには、前記平行移動調整器７、高さ調整器８および回
転角調整器９の中心軸Ｈが駆動系座標のＺ軸と一致しな
いので、平行移動調整器上部７ａの移動量、高さ調整器
上部８ａの移動量および回転角調整器９の回転角度は、
Ｘ座標、Ｚ座標およびθ座標のそれぞれの変化量に一致
しない。両者間の換算は、制御手段１１により、幾何学
的な関係から周知の方法でなされ、操作者は、制御手段
１１への入力により、各座標を独立に変化させることが
できる。
角調整器１０が初期状態になくその上面が水平でないと
きには、前記平行移動調整器７、高さ調整器８および回
転角調整器９の中心軸Ｈが駆動系座標のＺ軸と一致しな
いので、平行移動調整器上部７ａの移動量、高さ調整器
上部８ａの移動量および回転角調整器９の回転角度は、
Ｘ座標、Ｚ座標およびθ座標のそれぞれの変化量に一致
しない。両者間の換算は、制御手段１１により、幾何学
的な関係から周知の方法でなされ、操作者は、制御手段
１１への入力により、各座標を独立に変化させることが
できる。
【００１５】また、この装置は、前記測定中心Ｑを直下
に臨むように設置され、試料表面１ａを撮像して画像を
生成するＣＣＤ等の撮像手段１２と、その画像を表示す
るＣＲＴ等の画像表示手段１３と、測定中心Ｑに向けて
レーザ光１４を照射するレーザ光源１５とを備えてい
る。画像表示手段１３に表示される画像においては、図
２に示すように、測定中心Ｑは画像の中心にあり、画像
の縦方向（上方向）はＹ方向に合致し、画像の左方向は
Ｘ方向に合致する。さらに、前記制御手段１１は、撮像
手段１２により得られた画像において、試料表面１ａに
おけるレーザ光１４の照射点を画像の中心に位置させる
ように、前記高さ調整器８を制御する。
に臨むように設置され、試料表面１ａを撮像して画像を
生成するＣＣＤ等の撮像手段１２と、その画像を表示す
るＣＲＴ等の画像表示手段１３と、測定中心Ｑに向けて
レーザ光１４を照射するレーザ光源１５とを備えてい
る。画像表示手段１３に表示される画像においては、図
２に示すように、測定中心Ｑは画像の中心にあり、画像
の縦方向（上方向）はＹ方向に合致し、画像の左方向は
Ｘ方向に合致する。さらに、前記制御手段１１は、撮像
手段１２により得られた画像において、試料表面１ａに
おけるレーザ光１４の照射点を画像の中心に位置させる
ように、前記高さ調整器８を制御する。
【００１６】この装置を用いて、本実施形態の方法で
は、以下のように、試料の位置、姿勢の設定を行う。
今、図１に実線で示すように、平行移動調整器７等がす
べて所定の初期状態にあるとし、試料台２に試料１が載
置されたとする。操作者は、まず、図２（ａ）に示すよ
うに、画像表示手段１３に表示された試料表面１ａにお
いて、任意の測定点Ｐ1 に狙いをつけ、制御手段１１
（図１）により、ＸＹ座標を変化させ、図２（ｂ）に示
すように、測定点Ｐ1 を画像の中心に位置させる。この
画像を生成する撮像手段１２（図１）は測定中心Ｑを直
下に臨むように設置され、測定中心Ｑは画像の中心にあ
るから、この状態で、測定点Ｐ1 は、少なくとも測定中
心Ｑの直上または直下に位置しており、あとは高さを調
整すれば、測定中心Ｑに位置させることができる。
は、以下のように、試料の位置、姿勢の設定を行う。
今、図１に実線で示すように、平行移動調整器７等がす
べて所定の初期状態にあるとし、試料台２に試料１が載
置されたとする。操作者は、まず、図２（ａ）に示すよ
うに、画像表示手段１３に表示された試料表面１ａにお
いて、任意の測定点Ｐ1 に狙いをつけ、制御手段１１
（図１）により、ＸＹ座標を変化させ、図２（ｂ）に示
すように、測定点Ｐ1 を画像の中心に位置させる。この
画像を生成する撮像手段１２（図１）は測定中心Ｑを直
下に臨むように設置され、測定中心Ｑは画像の中心にあ
るから、この状態で、測定点Ｐ1 は、少なくとも測定中
心Ｑの直上または直下に位置しており、あとは高さを調
整すれば、測定中心Ｑに位置させることができる。
【００１７】次に、制御手段１１（図１）に高さ設定を
すべき旨を入力すると、図１に示すように、レーザ光源
１５から、測定中心Ｑに向けてレーザ光１４が照射さ
れ、図２（ｃ）に示すように、試料表面１ａにレーザ光
の照射点Ｌが現れる。レーザ光の照射点Ｌは、撮像手段
１２（図１）が撮像して生成する画像（画像表示手段１
３の画像）において、特徴的な例えば赤い色で現れるの
で、制御手段１１（図１）は、その画像における位置を
認識できる。もし、測定点Ｐ1 が測定中心Ｑに位置して
いれば、レーザ光の照射点Ｌも、画像表示手段１３の画
像において中心に位置するはずであるが、例えば、測定
点Ｐ1 が測定中心Ｑの直下に位置していれば、レーザ光
１４は測定中心Ｑを行き過ぎて（図１）、レーザ光の照
射点Ｌは、図２（ｃ）に示すように、試料表面１ａにお
いて測定点Ｐ1 よりも右側に位置することになる。逆
に、測定点Ｐ1 が測定中心Ｑの直上に位置していれば、
レーザ光の照射点Ｌは、測定点Ｐ1 よりも左側に位置す
ることになる。
すべき旨を入力すると、図１に示すように、レーザ光源
１５から、測定中心Ｑに向けてレーザ光１４が照射さ
れ、図２（ｃ）に示すように、試料表面１ａにレーザ光
の照射点Ｌが現れる。レーザ光の照射点Ｌは、撮像手段
１２（図１）が撮像して生成する画像（画像表示手段１
３の画像）において、特徴的な例えば赤い色で現れるの
で、制御手段１１（図１）は、その画像における位置を
認識できる。もし、測定点Ｐ1 が測定中心Ｑに位置して
いれば、レーザ光の照射点Ｌも、画像表示手段１３の画
像において中心に位置するはずであるが、例えば、測定
点Ｐ1 が測定中心Ｑの直下に位置していれば、レーザ光
１４は測定中心Ｑを行き過ぎて（図１）、レーザ光の照
射点Ｌは、図２（ｃ）に示すように、試料表面１ａにお
いて測定点Ｐ1 よりも右側に位置することになる。逆
に、測定点Ｐ1 が測定中心Ｑの直上に位置していれば、
レーザ光の照射点Ｌは、測定点Ｐ1 よりも左側に位置す
ることになる。
【００１８】そこで、制御手段１１（図１）は、Ｚ座標
を変化させ、すなわち、試料１を上下させて（この場合
は上昇させて）、図２（ｄ）に示すように、試料表面１
ａにおけるレーザ光の照射点Ｌを画像の中心に位置させ
る。これにより、測定点Ｐ1が測定中心Ｑに位置するこ
とになる。このように、本実施形態の方法によれば、撮
像手段１２（図１）により得られた画像において、レー
ザ光の照射点Ｌを画像の中心に位置させることにより、
画像の中心に見える測定点Ｐ1 を測定中心Ｑに位置させ
るので、試料１の高さ設定を視覚的に認識して簡単かつ
適切に行うことができる。なお、レーザ光の照射点Ｌを
画像の中心に位置させる手順は、上述のように制御手段
１１（図１）に自動的に行わせずに、操作者が、画像表
示手段１３の画像を見ながら、制御手段１１（図１）に
より、Ｚ座標を変化させ、すなわち、試料１を上下させ
て行ってもよい。
を変化させ、すなわち、試料１を上下させて（この場合
は上昇させて）、図２（ｄ）に示すように、試料表面１
ａにおけるレーザ光の照射点Ｌを画像の中心に位置させ
る。これにより、測定点Ｐ1が測定中心Ｑに位置するこ
とになる。このように、本実施形態の方法によれば、撮
像手段１２（図１）により得られた画像において、レー
ザ光の照射点Ｌを画像の中心に位置させることにより、
画像の中心に見える測定点Ｐ1 を測定中心Ｑに位置させ
るので、試料１の高さ設定を視覚的に認識して簡単かつ
適切に行うことができる。なお、レーザ光の照射点Ｌを
画像の中心に位置させる手順は、上述のように制御手段
１１（図１）に自動的に行わせずに、操作者が、画像表
示手段１３の画像を見ながら、制御手段１１（図１）に
より、Ｚ座標を変化させ、すなわち、試料１を上下させ
て行ってもよい。
【００１９】また、測定点Ｐ1 において、図１に示すよ
うに、試料表面１ａへの１次Ｘ線３の入射角αの設定を
行うこともできる。そのために、まず、以下のように、
測定点Ｐ1 近傍において、試料表面１ａが水平となるよ
うにし、この状態を基準とすることができる。すなわ
ち、制御手段１１によりφ座標を変化させ、図２（ｄ）
に示す画像の中心（測定点Ｐ1 ）近傍で最大の範囲で焦
点が合うように、試料１を傾斜させ、この状態を基準と
する。試料表面１ａに凹凸があっても、測定点Ｐ1 近傍
で最大の範囲で画像の焦点が合えば、測定点Ｐ1 近傍で
試料表面１ａが水平であるといえるからである。
うに、試料表面１ａへの１次Ｘ線３の入射角αの設定を
行うこともできる。そのために、まず、以下のように、
測定点Ｐ1 近傍において、試料表面１ａが水平となるよ
うにし、この状態を基準とすることができる。すなわ
ち、制御手段１１によりφ座標を変化させ、図２（ｄ）
に示す画像の中心（測定点Ｐ1 ）近傍で最大の範囲で焦
点が合うように、試料１を傾斜させ、この状態を基準と
する。試料表面１ａに凹凸があっても、測定点Ｐ1 近傍
で最大の範囲で画像の焦点が合えば、測定点Ｐ1 近傍で
試料表面１ａが水平であるといえるからである。
【００２０】これで、図１に示すように、測定中心Ｑに
位置する測定点Ｐ1 における試料表面１ａへの１次Ｘ線
３の入射角αは、この装置において１次Ｘ線３が水平面
となす所定の角度に一致したので、この状態を基準とし
て、制御手段１１によりφ座標を変化させて、任意の入
射角αに設定できる。
位置する測定点Ｐ1 における試料表面１ａへの１次Ｘ線
３の入射角αは、この装置において１次Ｘ線３が水平面
となす所定の角度に一致したので、この状態を基準とし
て、制御手段１１によりφ座標を変化させて、任意の入
射角αに設定できる。
【００２１】さらに、制御手段１１によりθ座標を変化
させて、測定点Ｐ1 において、１次Ｘ線３が入射する試
料１の方位を変化させることもできる。また、図２
（ｄ）に示す画像における別の測定点Ｐ2 についても、
同様に、測定中心Ｑに位置させ、入射角αを設定するこ
とができる。
させて、測定点Ｐ1 において、１次Ｘ線３が入射する試
料１の方位を変化させることもできる。また、図２
（ｄ）に示す画像における別の測定点Ｐ2 についても、
同様に、測定中心Ｑに位置させ、入射角αを設定するこ
とができる。
【００２２】なお、試料１の形状や試料表面１ａの凹凸
の状態によっては、試料台２に試料１が載置された初期
状態からＸＹ座標を変化させるのみでは、試料表面１ａ
における任意の測定点Ｐ1 に１次Ｘ線３やレーザ光１４
を照射させたり、任意の測定点Ｐ1 を撮像手段１２の直
下に見えるようにすることができない場合もある。この
ような場合には、制御手段１１により、ＸＹ座標を変化
させるだけでなく、θ座標、φ座標を変化させることで
対処でき、その後の高さ調整については、上述したのと
同様に行うことができる。
の状態によっては、試料台２に試料１が載置された初期
状態からＸＹ座標を変化させるのみでは、試料表面１ａ
における任意の測定点Ｐ1 に１次Ｘ線３やレーザ光１４
を照射させたり、任意の測定点Ｐ1 を撮像手段１２の直
下に見えるようにすることができない場合もある。この
ような場合には、制御手段１１により、ＸＹ座標を変化
させるだけでなく、θ座標、φ座標を変化させることで
対処でき、その後の高さ調整については、上述したのと
同様に行うことができる。
【００２３】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、試料から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ
線分析において、試料の高さを簡単かつ適切に設定でき
る。
ば、試料から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ
線分析において、試料の高さを簡単かつ適切に設定でき
る。
【図１】本発明の一実施形態である蛍光Ｘ線分析方法に
用いる装置を示す正面図である。
用いる装置を示す正面図である。
【図２】同装置における画像表示手段に表示された画像
を示す図である。
を示す図である。
１…試料、１ａ…試料表面、２…試料台、３…１次Ｘ
線、４…Ｘ線源、５…試料部位から発生する蛍光Ｘ線、
６…検出手段、７…平行移動調整器、８…高さ調整器、
９…回転角調整器、１０…傾斜角調整器、１１…制御手
段、１２…撮像手段、１４…レーザ光、１５…レーザ光
源、Ｐ…測定点、Ｑ…測定中心。
線、４…Ｘ線源、５…試料部位から発生する蛍光Ｘ線、
６…検出手段、７…平行移動調整器、８…高さ調整器、
９…回転角調整器、１０…傾斜角調整器、１１…制御手
段、１２…撮像手段、１４…レーザ光、１５…レーザ光
源、Ｐ…測定点、Ｑ…測定中心。
Claims (4)
- 【請求項１】 測定中心に向けて１次Ｘ線を照射し、そ
の測定中心に位置する試料部位から発生する蛍光Ｘ線の
強度を測定する蛍光Ｘ線分析方法において、 前記測定中心に、試料表面の任意の点を位置させるにあ
たり、 前記測定中心に向けてレーザ光を照射し、 試料を上下させて、前記測定中心を直下に臨むように設
置した撮像手段により得られた画像において、試料表面
におけるレーザ光の照射点を画像の中心に位置させるこ
とにより、画像の中心に見える試料表面の点を前記測定
中心に位置させることを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。 - 【請求項２】 試料が固定される試料台と、 測定中心に向けて１次Ｘ線を照射するＸ線源と、 その測定中心に位置する試料部位から発生する蛍光Ｘ線
の強度を測定する検出手段と、 前記測定中心に向けてレーザ光を照射するレーザ光源
と、 前記測定中心を直下に臨むように設置され、試料表面を
撮像して画像データを生成する撮像手段と、 試料台について、基準となる位置からの水平面内で直交
する２方向への移動量を示すＸＹ座標を変化させる平行
移動調整器と、 試料台について、基準となる位置からの高さ方向への移
動量を示すＺ座標を変化させる高さ調整器とを備えた蛍
光Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 請求項２において、 試料台について、水平面内での回転角度を示すθ座標を
変化させる回転角調整器と、 試料台について、水平面からの回転角度を示すφ座標を
変化させる傾斜角調整器とを備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項４】 請求項２または３において、 前記撮像手段により得られた画像において、試料表面に
おけるレーザ光の照射点を画像の中心に位置させるよう
に、前記高さ調整器を制御する制御手段を備えた蛍光Ｘ
線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9232309A JPH1172449A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 蛍光ｘ線分析方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9232309A JPH1172449A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 蛍光ｘ線分析方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1172449A true JPH1172449A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=16937192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9232309A Pending JPH1172449A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 蛍光ｘ線分析方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1172449A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1136816A2 (en) * | 2000-03-07 | 2001-09-26 | Rigaku Industrial Corporation | X-ray spectroscopic analyzer having sample surface observation mechanism |
| CN104931517A (zh) * | 2014-03-20 | 2015-09-23 | 日本株式会社日立高新技术科学 | X射线分析装置 |
-
1997
- 1997-08-28 JP JP9232309A patent/JPH1172449A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1136816A2 (en) * | 2000-03-07 | 2001-09-26 | Rigaku Industrial Corporation | X-ray spectroscopic analyzer having sample surface observation mechanism |
| EP1136816A3 (en) * | 2000-03-07 | 2003-01-29 | Rigaku Industrial Corporation | X-ray spectroscopic analyzer having sample surface observation mechanism |
| CN104931517A (zh) * | 2014-03-20 | 2015-09-23 | 日本株式会社日立高新技术科学 | X射线分析装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040420 |