JP3516028B2 - 蛍光x線分析方法および装置 - Google Patents

蛍光x線分析方法および装置

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JP3516028B2
JP3516028B2 JP23230897A JP23230897A JP3516028B2 JP 3516028 B2 JP3516028 B2 JP 3516028B2 JP 23230897 A JP23230897 A JP 23230897A JP 23230897 A JP23230897 A JP 23230897A JP 3516028 B2 JP3516028 B2 JP 3516028B2
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隆 西村
悦久 山本
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理学電機工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料から発生する
蛍光X線の強度分布を測定する蛍光X線分析において、
複数の測定点を簡単かつ適切に設定できる蛍光X線分析
方法および装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】蛍光X線分析装置においては、試料の測
定部分が位置すべき測定中心が設定されており、その測
定中心めがけて1次X線が照射され、その測定中心に位
置する試料の測定部分から発生する蛍光X線が検出手段
に入射するように、X線源や検出手段が設定されてい
る。したがって、試料表面やその深さ方向への近傍(以
下、試料部位という)から発生する蛍光X線の強度分布
を測定する際には、XYステージやZステージ等を用い
て試料を固定した試料台を移動等させることにより、試
料表面上の複数の測定点をそれぞれ測定中心に位置させ
て、発生する蛍光X線の強度を測定する必要がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、例えば、試料
が板状でないような場合には、複数の測定点のそれぞれ
について、試料台の高さを調整しなければならず、操作
が煩雑になり、測定全体に長時間を要することとなる。
【0004】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、試料から発生する蛍光X線の強度分布を測定す
る蛍光X線分析において、試料形状に対応した複数の測
定点を簡単にかつ短時間に設定できる蛍光X線分析方法
および装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項1の方法では、まず、試料が固定された試料
台について、基準となる位置からの水平面内で直交する
2方向への移動量を示すXY座標および高さ方向への移
動量を示すZ座標、ならびに、水平面内での回転角度を
示すθ座標および水平面からの回転角度を示すφ座標か
らなる駆動系座標を用いる。そして、試料台を移動また
は回転させることにより、試料表面の任意の2点をそれ
ぞれ測定中心に位置させて、それら2点を第1および第
2測定点とし、第1および第2測定点を対向する頂点と
して、水平面に投影した場合にXY軸と平行な辺で形成
される四角形を測定範囲とする。
【0006】ここで、第1測定点における水平面内での
回転角度を、第2測定点における水平面内での回転角度
と同じにした場合の、第1測定点のXY座標を算出し、
その算出した第1測定点のXY座標、および第2測定点
のXY座標と、X方向およびY方向の測定点の数とに基
づいて、他の測定点のXY座標を設定する。また、第2
測定点のθ座標を他の測定点のθ座標とする。さらに、
第1測定点のZφ座標および第2測定点のZφ座標と、
前記測定範囲における各測定点のXY方向での位置とに
基づいて、他の測定点のZφ座標を設定する。そして、
第1、第2および他の測定点について、蛍光X線の強度
を測定することを特徴とする。
【0007】請求項1の方法によれば、駆動系座標によ
り指定した第1および第2測定点と、X方向およびY方
向の測定点の数とに基づいて、他の測定点の駆動系座標
を設定するので、試料形状に対応した複数の測定点を簡
単にかつ短時間に設定できる。
【0008】請求項2の方法は、試料表面での面におけ
る強度分布でなく線上の強度分布を測定する際の方法
で、第1測定点と第2測定点とを連結した線分を測定範
囲とする点、算出した第1測定点のXY座標等と測定範
囲上の測定点の数とに基づいて、他の測定点のXY座標
を設定する点、および、第1測定点のZφ座標等と各測
定点の測定範囲の線分方向での位置とに基づいて、他の
測定点のZφ座標を設定する点のみが、請求項1の方法
と異なり、他の点においては同じである。請求項2の方
法によっても、駆動系座標により指定した第1および第
2測定点と、測定範囲上の測定点の数とに基づいて、他
の測定点の駆動系座標を設定するので、請求項1の方法
と同様の作用効果がある。
【0009】請求項3の蛍光X線分析装置は、まず、試
料が固定される試料台と、測定中心に向けて1次X線を
照射するX線源と、前記測定中心に位置する試料部位か
ら発生する蛍光X線の強度を測定する検出手段とを備え
ている。そして、試料台について、基準となる位置から
の水平面内で直交する2方向への移動量を示すXY座標
を変化させる平行移動調整器と、基準となる位置からの
高さ方向への移動量を示すZ座標を変化させる高さ調整
器と、水平面内での回転角度を示すθ座標を変化させる
回転角調整器と、水平面からの回転角度を示すφ座標を
変化させる傾斜角調整器とを備えている。
【0010】さらに、この装置は制御手段を備えてい
る。この制御手段は、試料台を移動または回転させるこ
とにより、試料表面の任意の2点をそれぞれ前記測定中
心に位置させて指定された第1および第2測定点に対
し、第1および第2測定点を対向する頂点として、水平
面に投影した場合にXY軸と平行な辺で形成される四角
形を測定範囲とする。また、制御手段は、第1測定点に
おける水平面内での回転角度を、第2測定点における水
平面内での回転角度と同じにした場合の、第1測定点の
XY座標を算出し、その算出した第1測定点のXY座
標、および第2測定点のXY座標と、X方向およびY方
向の測定点の数とに基づいて、他の測定点のXY座標を
設定する。
【0011】一方、制御手段は、第2測定点のθ座標を
他の測定点のθ座標とする。さらに、制御手段は、第1
測定点のZφ座標および第2測定点のZφ座標と、前記
測定範囲における各測定点のXY方向での位置とに基づ
いて、他の測定点のZφ座標を設定する。そして、制御
手段は、第1、第2および他の測定点について蛍光X線
の強度を測定するように、前記X線源、検出手段、平行
移動調整器、高さ調整器、回転角調整器および傾斜角調
整器を制御する。請求項3の装置によれば、請求項1の
方法と同様の作用効果がある。
【0012】請求項4の装置は、試料表面での面におけ
る強度分布でなく線上の強度分布を測定する装置で、制
御手段において、第1測定点と第2測定点とを連結した
線分を測定範囲とする点、算出した第1測定点のXY座
標等と測定範囲上の測定点の数とに基づいて、他の測定
点のXY座標を設定する点、および、第1測定点のZφ
座標等と各測定点の測定範囲の線分方向での位置とに基
づいて、他の測定点のZφ座標を設定する点のみが、請
求項3の装置と異なり、他の点においては同じである。
請求項4の装置によっても、請求項2の方法と同様の作
用効果がある。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第1実施形態の蛍
光X線分析方法を説明する。まず、この方法で用いる駆
動系座標(X,Y,θ,Z,φ)について説明する。こ
の方法では、試料1を固定した試料台2を、移動、回転
させるが、図1に実線で示すように、後述するこの方法
に用いる装置の平行移動調整器7、高さ調整器8、回転
角調整器9および傾斜角調整器10がすべて所定の初期
状態である場合の試料台2の上面の中心Tの位置を原点
T とし、その原点OT から、図1に2点鎖線で示す移
動、回転後の試料台2の上面の中心Tの位置までの、水
平左方向(X軸)での移動量をX座標、紙面に垂直で奥
に向かう方向(Y軸)での移動量をY座標、高さ方向
(Z軸)での移動量をZ座標とする。これら駆動系座標
のXYZ軸および原点OT は、試料台2の移動、回転の
影響を受けず、空間に固定されている。また、前記初期
状態から、移動、回転後の試料台2の、水平面内での回
転角度をθ座標、水平面からの回転角度(傾斜角)をφ
座標とする。
【0014】次に、この方法に用いる蛍光X線分析装置
について説明する。図1に示すように、この装置は、ま
ず、試料1が固定される試料台2と、測定中心Qに向け
て1次X線3を照射するX線源4と、前記測定中心Qに
位置する試料部位から発生する蛍光X線5の強度を測定
する検出手段6とを備えている。そして、試料台2につ
いて、前記駆動系座標のXY座標を変化させる平行移動
調整器7と、Z座標を変化させる高さ調整器8と、θ座
標を変化させる回転角調整器9と、φ座標を変化させる
傾斜角調整器10とを備えている。平行移動調整器7、
高さ調整器8および回転角調整器9は、傾斜角調整器1
0の上面に垂直な軸Hを中心軸として構成されている。
【0015】より具体的に試料台2から下の構成を説明
すると、まず、試料台2は、その下の回転角調整器9の
上面に固定されている。回転角調整器9は円柱状で、そ
の中心軸H回りに、その下の平行移動調整器7の上部7
aに対し、パルスモータおよびウォームギア等により、
回転自在である。すなわち、回転角調整器9により、試
料台2について、水平面内での初期状態からの回転角度
を示すθ座標を変化させることができる。平行移動調整
器上部7aは、下部7bに対して前記中心軸Hに垂直で
紙面に沿う方向にパルスモータおよびボールねじ等によ
り移動自在に設置され、平行移動調整器下部7bは、そ
の下の高さ調整器上部8aに対して前記中心軸Hおよび
紙面に垂直な方向にパルスモータおよびボールねじ等に
より移動自在に設置されている。すなわち、平行移動調
整器7の調整により、試料台2について、原点OT から
のX軸およびY軸での移動量を示すXY座標を変化させ
ることができる。
【0016】高さ調整器上部8aは、下部8bに対して
前記中心軸H方向にパルスモータおよびボールねじ等に
より移動自在に設置され、下部8bは、その下の傾斜角
調整器上部10aに固定されている。すなわち、高さ調
整器8により、試料台2について、原点OT からのZ軸
での移動量を示すZ座標を変化させることができる。傾
斜角調整器上部10aは、下部10bに対して前記測定
中心Qを中心とする円弧に沿ってパルスモータおよびウ
ォームギア等により移動自在に設置され、下部10b
は、その下の装置の基台等に固定されている。すなわ
ち、傾斜角調整器10により、試料台2について、水平
面からの回転角度を示すφ座標を変化させることができ
る。なお、以上のような構成においては、傾斜角調整器
10が初期状態になくその上面が水平でないときには、
前記平行移動調整器7、高さ調整器8および回転角調整
器9の中心軸Hが駆動系座標のZ軸と一致しないので、
平行移動調整器上部7aの移動量、高さ調整器上部8a
の移動量および回転角調整器9の回転角度は、X座標、
Z座標およびθ座標のそれぞれの変化量に一致しない。
両者間の換算は、幾何学的な関係から周知の方法でなさ
れる。
【0017】さらに、この装置は制御手段11を備えて
いる。この制御手段11は、試料台2を移動または回転
させることにより、試料表面1aの任意の2点をそれぞ
れ前記測定中心Qに位置させて指定された第1および第
2測定点に対し、第1および第2測定点を対向する頂点
として、水平面に投影した場合にXY軸と平行な辺で形
成される四角形を測定範囲とする。また、制御手段11
は、第1測定点における水平面内での回転角度を、第2
測定点における水平面内での回転角度と同じにした場合
の、第1測定点のXY座標を算出し、その算出した第1
測定点のXY座標、および第2測定点のXY座標と、X
方向およびY方向の測定点の数とに基づいて、他の測定
点のXY座標を設定する。
【0018】一方、制御手段11は、第2測定点のθ座
標を他の測定点のθ座標とする。さらに、制御手段11
は、第1測定点のZφ座標および第2測定点のZφ座標
と、前記測定範囲における各測定点のXY方向での位置
とに基づいて、他の測定点のZφ座標を設定する。そし
て、制御手段11は、第1、第2および他の測定点につ
いて蛍光X線5の強度を測定するように、前記X線源
4、検出手段6、平行移動調整器7、高さ調整器8、回
転角調整器9および傾斜角調整器10を制御する。
【0019】また、この装置は、前記測定中心Qを直下
に臨むように設置され、試料表面1aを撮像して画像を
生成するCCD等の撮像手段12と、その画像を表示す
るCRT等の画像表示手段13と、測定中心Qに向けて
レーザ光14を照射するレーザ光源15とを備えてい
る。画像表示手段13に表示される画像において、測定
中心Qは画像の中心にあり、画像の縦方向(上方向)は
Y方向に合致し、画像の左方向はX方向に合致する。
【0020】この装置を用いて、第1実施形態の方法で
は、以下のように、試料部位から発生する蛍光X線5の
強度分布を測定する。まず、画像表示手段13で試料表
面1aを見ながら、最初に測定したい測定開始点(第1
測定点)Aを、平行移動調整器7、高さ調整器8、回転
角調整器9および傾斜角調整器10の調整により、測定
中心Qに位置させる。
【0021】このとき、測定開始点Aの位置が、X方向
およびY方向において測定中心Qと一致したことは、測
定開始点Aが、画像表示手段13に表示される画像の中
心に位置したことで確認される。さらに、測定開始点A
の位置が、Z方向(高さ方向)においても測定中心Qと
一致し、測定中心Qと重なったことは、レーザ光源15
から測定中心Qに向けて照射されたレーザ光14の試料
表面1aにおける照射点が、画像の中心に位置したこと
で確認される。さらにまた、測定は、通常、測定開始点
Aを中心とするその近傍の試料表面1aが略水平である
状態で行われるが、そのような状態であることは、画像
の中心近傍で最大の範囲で画像の焦点が合うことで確認
される。制御手段11は、測定開始点として指定された
この点Aの駆動系座標、すなわち試料台2の初期状態か
らの移動量および回転角度(XA1,YA1,θA1,ZA1
φA1)を記憶する。
【0022】続けて、同様に、最後に測定したい測定終
了点(第2測定点)Bを、平行移動調整器7、高さ調整
器8、回転角調整器9および傾斜角調整器10の調整に
より、測定中心Qに位置させて指定し、そのときの測定
開始点Bの駆動系座標(XB,YB ,θB ,ZB
φB )を制御手段11に記憶させる。すると、制御手段
11は、測定開始点Aおよび測定終了点Bを対向する頂
点として、水平面に投影した場合にXY軸と平行な辺で
形成される四角形を測定範囲とする。具体的には、図2
に示すように、このときの画像、すなわち測定終了点B
が中心に位置する画像において、測定開始点Aおよび測
定終了点Bを対向する頂点として、XY軸と平行な辺で
形成される四角形を測定範囲とする。なお、画像におい
て、測定開始点Aと測定終了点Bを結ぶ線分が、X軸ま
たはY軸と平行になり、そのような四角形が形成できな
い場合には、後述する第2実施形態の方法を適用するこ
とができる。
【0023】次に、前記測定範囲たる四角形において、
横方向にはm+1の測定点を、縦方向にはn+1の測定
点を設定すること、すなわち、四角形を、X方向にはm
分割し、Y方向にはn分割することを指定する。また、
これら(m+1)×(n+1)の測定点Pij(i=0〜
m,j=0〜n)について、測定開始点A(P00)か
ら、まずX方向に測定していくこと、すなわちP00,P
10,…Pm0,P01,P11,…Pm1,P0n,P1n,…Pmn
(B)の順に測定して、測定終了点B(Pmn)で測定を
終了することを指定する。
【0024】さて、その順序で、これら測定点Pijを測
定中心Qに位置させて、すなわち、これら測定点Pij
ついて、それぞれ駆動系座標を設定し、各駆動系座標を
達成するように、平行移動調整器7、高さ調整器8、回
転角調整器9および傾斜角調整器10が調整されて、測
定が行われるのであるが、各測定点Pijの駆動系座標
は、制御手段11により、以下のように設定される。ま
ず、測定終了点B(Pmn)については、画像中心に位置
させて指定したときの前記記憶した駆動系座標(XB
B ,θB ,ZB ,φB )をそのまま用いる。そして、
θ座標については、すべての測定点について測定終了点
B(Pmn)のθ座標θB を用いる。
【0025】とすると、測定開始点A(P00)について
は、画像中心に位置させて指定したときのθ座標θ
A1は、通常は測定終了点B(Pmn)のθ座標θB と異な
るから、前記記憶した駆動系座標(XA1,YA1,θA1
A1,φA1)をそのまま用いることはできない。すなわ
ち、測定開始点A(P00)について、θ座標がθB にな
るようにして、なおかつ測定中心Qに位置させたときの
駆動系座標(XA2,YA2,θB ,ZA1,φA1)を求める
必要がある。ここで、Z座標ZA1はそのまま用いること
ができ、また、φ座標φA1もそのまま用いることとする
と、X座標XA2およびY座標YA2を求めればよい。これ
らは、幾何学的な関係から、次式(1)により算出され
る。
【0026】
【数1】
【0027】なお、(XT ,YT )は、試料台2の上面
の中心Tを測定中心Qに位置させたときの駆動系座標に
おけるXY座標であり、原点OT を基準とした測定中心
QそのもののXY座標ともいえる。これで、測定開始点
A(P00)および測定終了点B(Pmn)については、駆
動系座標が設定されたが、さらに、他の測定点Pijの駆
動系座標(Xij,Yij,θB ,Zij,φij)について
も、制御手段11により、以下のように設定される。な
お、θ座標については、前述したように、測定終了点B
(Pmn)のθ座標θB を用いる。
【0028】まず、XY座標については、前記算出した
測定開始点A(P00)のXY座標、および測定終了点B
(Pmn)のXY座標と、指定されたX方向およびY方向
の測定点の数m+1,n+1とに基づいて設定する。具
体的には、次式(2),(3)に示すように、前記算出
した測定開始点A(P00)のXY座標と測定終了点B
(Pmn)のXY座標との間を、X方向にはmで、Y方向
にはnで、均等に分割する。
【0029】
【数2】
【0030】
【数3】
【0031】Zφ座標については、測定開始点A
(P00)のZφ座標および測定終了点B(Pmn)のZφ
座標と、前記測定範囲における各測定点PijのXY方向
での位置とに基づいて設定する。具体的には、次式
(4),(5)に示すように、測定開始点A(P00)の
Zφ座標と測定終了点B(Pmn)のZφ座標との間を、
Z座標、φ座標のいずれについてもm+nで均等に分割
し、各測定点PijのXY方向での位置を示す添字i,j
の加算値i+jに応じて、設定する。
【0032】
【数4】
【0033】
【数5】
【0034】以上で、すべての測定点Pijについて駆動
系座標が設定されたので、さらに制御手段11により、
前記指定した順序で、これら測定点Pijを測定中心Qに
位置させて、すなわち、これら測定点Pijについて、そ
れぞれ駆動系座標を達成するように、平行移動調整器
7、高さ調整器8、回転角調整器9および傾斜角調整器
10が調整され、X線源4および検出手段6が制御さ
れ、蛍光X線の強度の測定が行われる。
【0035】第1実施形態の方法によれば、駆動系座標
により指定した測定開始点A(P00)および測定終了点
B(Pmn)と、X方向およびY方向の測定点の数m+
1,n+1とに基づいて、他の測定点Pijの駆動系座標
を設定するので、多数の測定点を直接に指定する必要が
なく、複数の測定点を簡単にかつ短時間に設定できる。
また、XYZφ座標については、測定開始点A(P00
と測定終了点B(Pmn)との駆動系座標の間を、均等に
分割するので、試料形状に対応した複数の測定点を設定
できる。
【0036】次に、本発明の第2実施形態の蛍光X線分
析方法を説明する。この方法でも、第1実施形態の方法
で用いた駆動系座標(X,Y,θ,Z,φ)を用いる。
この方法に用いる装置は、試料表面1aでの面における
強度分布でなく線上の強度分布を測定する装置で、制御
手段16において、第1測定点(測定開始点)と第2測
定点(測定終了点)とを連結した線分を測定範囲とする
点、算出した第1測定点のXY座標等と測定範囲上の測
定点の数とに基づいて、他の測定点のXY座標を設定す
る点、および、第1測定点のZφ座標等と各測定点の測
定範囲の線分方向での位置とに基づいて、他の測定点の
Zφ座標を設定する点のみが、第1実施形態の方法で用
いた装置と異なり、他の点においては同じであるので、
図1において、同一部分に同一番号を付して説明を省略
する。
【0037】この装置を用いて、第2実施形態の方法で
は、以下のように、試料部位から発生する蛍光X線5の
強度分布を測定する。まず、第1実施形態の方法と同様
に、測定開始点(第1測定点)Aと、測定終了点(第2
測定点)Bを、平行移動調整器7等の調整により、測定
中心Qに位置させて指定し、それぞれの駆動系座標を制
御手段16に記憶させる。すると、制御手段11は、図
3に示すように、このときの画像、すなわち測定終了点
Bが中心に位置する画像において、測定開始点Aと測定
終了点Bとを連結した線分を測定範囲とする。なお、前
述したように、第1実施形態の方法において、測定開始
点Aと測定終了点Bを結ぶ線分が、X軸またはY軸と平
行になり、測定範囲とすべき四角形が形成できない場合
にも、その線分を測定範囲として、この第2実施形態の
方法を適用することができる。
【0038】次に、前記測定範囲たる線分において、u
+1の測定点を設定すること、すなわち、線分をu分割
することを指定する。なお、第2実施形態の方法におい
ては、測定開始点Aから測定終了点Bまで、測定範囲た
る線分に並んだ測定点を順に測定するものとし、測定す
る順序を指定する必要はない。ここで、各測定点Pk
駆動系座標は、制御手段16により、以下のように設定
される。まず、第1実施形態の方法と同様に、測定終了
点B(Pu )については、画像中心に位置させて指定し
たときの記憶した駆動系座標(XB ,YB ,θB
B ,φB )をそのまま用い、θ座標については、すべ
ての測定点について測定終了点B(Pu )のθ座標θB
を用いる。測定開始点A(P0 )については、θ座標が
θB になるようにし、なおかつ測定中心Qに位置させた
ときの駆動系座標(XA2,YA2,θB,ZA1,φA1
が、第1実施形態の方法と同様に、式(1)によりXY
座標を算出して求められる。さらに、他の測定点Pk
駆動系座標(Xk ,Yk ,θB ,Zk ,φk )について
も、制御手段16により、以下のように設定される。
【0039】まず、XY座標については、前記算出した
測定開始点A(P0 )のXY座標、および測定終了点B
(Pu )のXY座標と、測定範囲たる線分上の測定点の
数u+1とに基づいて設定する。具体的には、次式
(6),(7)に示すように、前記算出した測定開始点
A(P0 )のXY座標と測定終了点B(Pu )のXY座
標との間を、uで均等に分割する。
【0040】
【数6】
【0041】
【数7】
【0042】Zφ座標については、測定開始点A
(P0 )のZφ座標および測定終了点B(Pu )のZφ
座標と、各測定点Pijの前記測定範囲の線分方向での位
置とに基づいて設定する。具体的には、次式(8),
(9)に示すように、測定開始点A(P0 )のZφ座標
と測定終了点B(Pu )のZφ座標との間を、Z座標、
φ座標のいずれについてもuで均等に分割し、各測定点
k の線分方向での位置を示す添字kに応じて、設定す
る。
【0043】
【数8】
【0044】
【数9】
【0045】以上で、すべての測定点Pk について駆動
系座標が設定されたので、さらに制御手段16により、
測定開始点Aから測定終了点Bまで線分に並んだ順に、
これら測定点Pk を測定中心Qに位置させて、すなわ
ち、これら測定点Pk について、それぞれ駆動系座標を
達成するように、平行移動調整器7、高さ調整器8、回
転角調整器9および傾斜角調整器10が調整され、X線
源4および検出手段6が制御され、蛍光X線の強度の測
定が行われる。第2実施形態の方法によっても、駆動系
座標により指定した測定開始点A(P0 )および測定終
了点B(Pu )と、測定範囲上の測定点の数uとに基づ
いて、他の測定点Pk の駆動系座標を設定するので、や
はり、多数の測定点を直接に指定する必要がなく、複数
の測定点を簡単にかつ短時間に設定できる。また、XY
Zφ座標についても、第1実施形態の方法と同様に、測
定開始点A(P0 )と測定終了点B(Pu )との駆動系
座標の間を、均等に分割するので、やはり、試料形状に
対応した複数の測定点を設定できる。
【0046】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、試料から発生する蛍光X線の強度分布を測定する蛍
光X線分析において、駆動系座標により指定した第1お
よび第2測定点と、X方向およびY方向の測定点の数等
とに基づいて、他の測定点の駆動系座標を設定するの
で、試料形状に対応した複数の測定点を簡単にかつ短時
間に設定できる。ひいては、試料表面の元素濃度分布に
十分近似したものが短時間に得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1または第2実施形態である蛍光X
線分析方法に用いる装置を示す正面図である。
【図2】第1実施形態の方法における測定範囲を示す図
である。
【図3】第2実施形態の方法における測定範囲を示す図
である。
【符号の説明】
1…試料、1a…試料表面、2…試料台、3…1次X
線、4…X線源、5…試料部位から発生する蛍光X線、
6…検出手段、7…平行移動調整器、8…高さ調整器、
9…回転角調整器、10…傾斜角調整器、11,16…
制御手段、A…第1測定点(測定開始点)、B…第2測
定点(測定終了点)、OT …基準となる位置、Q…測定
中心。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−72101(JP,A) 特開 平4−175648(JP,A) 特開 平9−96615(JP,A) 特開 平5−275044(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 23/00 - 23/227 G01B 15/00 - 15/08

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定中心に向けて1次X線を照射し、そ
    の測定中心に位置する試料部位から発生する蛍光X線の
    強度を測定する蛍光X線分析方法において、 試料が固定された試料台について、基準となる位置から
    の水平面内で直交する2方向への移動量を示すXY座標
    および高さ方向への移動量を示すZ座標、ならびに、水
    平面内での回転角度を示すθ座標および水平面からの回
    転角度を示すφ座標からなる駆動系座標を用い、 試料台を移動または回転させることにより、試料表面の
    任意の2点をそれぞれ前記測定中心に位置させて、それ
    ら2点を第1および第2測定点とし、 第1および第2測定点を対向する頂点として、水平面に
    投影した場合にXY軸と平行な辺で形成される四角形を
    測定範囲とし、 第1測定点における水平面内での回転角度を、第2測定
    点における水平面内での回転角度と同じにした場合の、
    第1測定点のXY座標を算出し、 その算出した第1測定点のXY座標、および第2測定点
    のXY座標と、X方向およびY方向の測定点の数とに基
    づいて、他の測定点のXY座標を設定し、 第2測定点のθ座標を他の測定点のθ座標とし、 第1測定点のZφ座標および第2測定点のZφ座標と、
    前記測定範囲における各測定点のXY方向での位置とに
    基づいて、他の測定点のZφ座標を設定し、 第1、第2および他の測定点について、蛍光X線の強度
    を測定することを特徴とする蛍光X線分析方法。
  2. 【請求項2】 測定中心に向けて1次X線を照射し、そ
    の測定中心に位置する試料部位から発生する蛍光X線の
    強度を測定する蛍光X線分析方法において、 試料が固定された試料台について、基準となる位置から
    の水平面内で直交する2方向への移動量を示すXY座標
    および高さ方向への移動量を示すZ座標、ならびに、水
    平面内での回転角度を示すθ座標および水平面からの回
    転角度を示すφ座標からなる駆動系座標を用い、 試料台を移動または回転させることにより、試料表面の
    任意の2点をそれぞれ前記測定中心に位置させて、それ
    ら2点を第1および第2測定点とし、 第1測定点と第2測定点とを連結した線分を測定範囲と
    し、 第1測定点における水平面内での回転角度を、第2測定
    点における水平面内での回転角度と同じにした場合の、
    第1測定点のXY座標を算出し、 その算出した第1測定点のXY座標、および第2測定点
    のXY座標と、前記測定範囲上の測定点の数とに基づい
    て、他の測定点のXY座標を設定し、 第2測定点のθ座標を他の測定点のθ座標とし、 第1測定点のZφ座標および第2測定点のZφ座標と、
    各測定点の前記測定範囲の線分方向での位置とに基づい
    て、他の測定点のZφ座標を設定し、 第1、第2および他の測定点について、蛍光X線の強度
    を測定することを特徴とする蛍光X線分析方法。
  3. 【請求項3】 試料が固定される試料台と、 測定中心に向けて1次X線を照射するX線源と、 前記測定中心に位置する試料部位から発生する蛍光X線
    の強度を測定する検出手段と、 試料台について、基準となる位置からの水平面内で直交
    する2方向への移動量を示すXY座標を変化させる平行
    移動調整器と、 試料台について、基準となる位置からの高さ方向への移
    動量を示すZ座標を変化させる高さ調整器と、 試料台について、水平面内での回転角度を示すθ座標を
    変化させる回転角調整器と、 試料台について、水平面からの回転角度を示すφ座標を
    変化させる傾斜角調整器とを備えた蛍光X線分析装置で
    あって、 試料台を移動または回転させることにより、試料表面の
    任意の2点をそれぞれ前記測定中心に位置させて指定さ
    れた第1および第2測定点に対し、 第1および第2測定点を対向する頂点として、水平面に
    投影した場合にXY軸と平行な辺で形成される四角形を
    測定範囲とし、 第1測定点における水平面内での回転角度を、第2測定
    点における水平面内での回転角度と同じにした場合の、
    第1測定点のXY座標を算出し、 その算出した第1測定点のXY座標、および第2測定点
    のXY座標と、X方向およびY方向の測定点の数とに基
    づいて、他の測定点のXY座標を設定し、 第2測定点のθ座標を他の測定点のθ座標とし、 第1測定点のZφ座標および第2測定点のZφ座標と、
    前記測定範囲における各測定点のXY方向での位置とに
    基づいて、他の測定点のZφ座標を設定し、 第1、第2および他の測定点について蛍光X線の強度を
    測定するように、前記X線源、検出手段、平行移動調整
    器、高さ調整器、回転角調整器および傾斜角調整器を制
    御する制御手段を備えた蛍光X線分析装置。
  4. 【請求項4】 試料が固定される試料台と、 測定中心に向けて1次X線を照射するX線源と、 前記測定中心に位置する試料部位から発生する蛍光X線
    の強度を測定する検出手段と、 試料台について、基準となる位置からの水平面内で直交
    する2方向への移動量を示すXY座標を変化させる平行
    移動調整器と、 試料台について、基準となる位置からの高さ方向への移
    動量を示すZ座標を変化させる高さ調整器と、 試料台について、水平面内での回転角度を示すθ座標を
    変化させる回転角調整器と、 試料台について、水平面からの回転角度を示すφ座標を
    変化させる傾斜角調整器とを備えた蛍光X線分析装置で
    あって、 試料台を移動または回転させることにより、試料表面の
    任意の2点をそれぞれ前記測定中心に位置させて指定さ
    れた第1および第2測定点に対し、 第1測定点と第2測定点とを連結した線分を測定範囲と
    し、 第1測定点における水平面内での回転角度を、第2測定
    点における水平面内での回転角度と同じにした場合の、
    第1測定点のXY座標を算出し、 その算出した第1測定点のXY座標、および第2測定点
    のXY座標と、前記測定範囲上の測定点の数とに基づい
    て、他の測定点のXY座標を設定し、 第2測定点のθ座標を他の測定点のθ座標とし、 第1測定点のZφ座標および第2測定点のZφ座標と、
    各測定点の前記測定範囲の線分方向での位置とに基づい
    て、他の測定点のZφ座標を設定し、 第1、第2および他の測定点について蛍光X線の強度を
    測定するように、前記X線源、検出手段、平行移動調整
    器、高さ調整器、回転角調整器および傾斜角調整器を制
    御する制御手段を備えた蛍光X線分析装置。
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