JP3018042B2 - ケイ光ｘ線膜厚測定装置 - Google Patents
ケイ光ｘ線膜厚測定装置Info
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- JP3018042B2 JP3018042B2 JP2238666A JP23866690A JP3018042B2 JP 3018042 B2 JP3018042 B2 JP 3018042B2 JP 2238666 A JP2238666 A JP 2238666A JP 23866690 A JP23866690 A JP 23866690A JP 3018042 B2 JP3018042 B2 JP 3018042B2
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- Japan
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- ray
- optical system
- primary
- axis direction
- measured
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は測定対象にＸ線をコリメートして照射し、試
料から励起されたケイ光Ｘ線強度に基づいて薄膜の厚み
を測定する装置に関する。
料から励起されたケイ光Ｘ線強度に基づいて薄膜の厚み
を測定する装置に関する。
従来の装置の光軸調整は、ケイ光板をステージ上に配
置して、一次Ｘ線を照射することによって発するケイ光
の輝度によって光軸を目視確認し、試料観察用カメラ光
学系のテレビモニタ上の十字線とのズレを調節するか、
第１図に示すような光軸確認用ブロックに一次Ｘ線を照
射し、ケイ光Ｘ線強度が、Ａ−Ｘ線強度の半分になる配
置が一次Ｘ線光学系とし、光軸確認用ブロックのAB成分
の境界線と、試料観察用カメラ光学系のテレビモニタ上
の十字線のズレを調節して、両光軸の一致を実施してい
た。
置して、一次Ｘ線を照射することによって発するケイ光
の輝度によって光軸を目視確認し、試料観察用カメラ光
学系のテレビモニタ上の十字線とのズレを調節するか、
第１図に示すような光軸確認用ブロックに一次Ｘ線を照
射し、ケイ光Ｘ線強度が、Ａ−Ｘ線強度の半分になる配
置が一次Ｘ線光学系とし、光軸確認用ブロックのAB成分
の境界線と、試料観察用カメラ光学系のテレビモニタ上
の十字線のズレを調節して、両光軸の一致を実施してい
た。
従来の技術では、先ずケイ光板のケイ光輝度の目視確
認では、一次Ｘ線の照射サイズがサブミリオーダーで小
さくなっていく場合、輝度が弱くなり、確認に対して人
為的誤差を生じやすくなる問題点と、後者の方法ではＸ
線強度検出から光軸調節までの一連の調整に長軸間を要
するという問題があった。
認では、一次Ｘ線の照射サイズがサブミリオーダーで小
さくなっていく場合、輝度が弱くなり、確認に対して人
為的誤差を生じやすくなる問題点と、後者の方法ではＸ
線強度検出から光軸調節までの一連の調整に長軸間を要
するという問題があった。
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、光
軸調整を完全自動化を可能とした装置を提供することを
目的とする。
軸調整を完全自動化を可能とした装置を提供することを
目的とする。
本発明の前記目的は、第２図に示されたＸ線強度チャ
ートの情報により達成される。
ートの情報により達成される。
第３図に示すようなXY両軸にAB成分境界を有する光軸
確認用ブロックを自動ステージの特定位置に配置し、各
軸走査しながらＸ線強度を検出することによって、第２
図に示すＸ線強度チャートが得られ、光学中心座標OCが
演算により求まり、試料観察用光学系中心をOCに合わせ
る機能を有することを特徴とするケイ光線膜厚測定装
置。
確認用ブロックを自動ステージの特定位置に配置し、各
軸走査しながらＸ線強度を検出することによって、第２
図に示すＸ線強度チャートが得られ、光学中心座標OCが
演算により求まり、試料観察用光学系中心をOCに合わせ
る機能を有することを特徴とするケイ光線膜厚測定装
置。
本発明によるケイ光Ｘ線膜厚測定装置の光軸調整シス
テムでは、光軸確認用ブロックの片方のＡ成分Ｘ線強度
の最高値（IA）Ｓと最低値（IA）Ｂの平行線の和の２分
の１となる座標がＸまたはＹの一次Ｘ線光軸中心とな
り、カメラ光学系の中心との差が両光軸のズレ△Ｘまた
は△Ｙとなる。この△Ｘまたは△Ｙ分だけカメラ光学系
調節部にパルス信号を送り両軸を一致させる。
テムでは、光軸確認用ブロックの片方のＡ成分Ｘ線強度
の最高値（IA）Ｓと最低値（IA）Ｂの平行線の和の２分
の１となる座標がＸまたはＹの一次Ｘ線光軸中心とな
り、カメラ光学系の中心との差が両光軸のズレ△Ｘまた
は△Ｙとなる。この△Ｘまたは△Ｙ分だけカメラ光学系
調節部にパルス信号を送り両軸を一致させる。
以下本発明を図面に基づき具体的に説明する。第４図
は本発明の実施例を示すシステム構成図を示す。Ｘ線管
球１から放出された一次Ｘ線２はコリメータ３で絞られ
てミラー４を透過してXYZ自動ステージ５上特定位置に
置かれた第３図に示すような光軸確認用ブロックに照射
される。この際、Ａ成分もしくはＢ成分の面積に比した
Ａ−Ｘ線強度が検出器６で得られ、MCA7,CPU8で処理さ
れる。この測定は一点当たり数十秒とし、一定時間計数
後、Ｘ軸方向またはＹ軸方向にステップ（一定間隔）送
りし、再びＡ−Ｘ線強度を検出する。この一連の測定で
得られたＡ−Ｘ線強度と各軸座標の関係は第２図に示す
Ｘ線強度チャートのようになる。測定試料観察用光学系
で得られた像を映し出すモニタTV9上の十字線と、XYZ自
動ステージ５の各座標の基準の関係からのズレ△X,△Ｙ
が、この連の測定で得られるので、これを試料観察用光
軸コントローラ10に信号を送り、該光学系を機械的に移
動させてモニタTV9上の十字線（試料観察用光学系中
心）と光軸確認用ブロックXY軸境界（一次Ｘ線光学系中
心）とを一致させることができる。
は本発明の実施例を示すシステム構成図を示す。Ｘ線管
球１から放出された一次Ｘ線２はコリメータ３で絞られ
てミラー４を透過してXYZ自動ステージ５上特定位置に
置かれた第３図に示すような光軸確認用ブロックに照射
される。この際、Ａ成分もしくはＢ成分の面積に比した
Ａ−Ｘ線強度が検出器６で得られ、MCA7,CPU8で処理さ
れる。この測定は一点当たり数十秒とし、一定時間計数
後、Ｘ軸方向またはＹ軸方向にステップ（一定間隔）送
りし、再びＡ−Ｘ線強度を検出する。この一連の測定で
得られたＡ−Ｘ線強度と各軸座標の関係は第２図に示す
Ｘ線強度チャートのようになる。測定試料観察用光学系
で得られた像を映し出すモニタTV9上の十字線と、XYZ自
動ステージ５の各座標の基準の関係からのズレ△X,△Ｙ
が、この連の測定で得られるので、これを試料観察用光
軸コントローラ10に信号を送り、該光学系を機械的に移
動させてモニタTV9上の十字線（試料観察用光学系中
心）と光軸確認用ブロックXY軸境界（一次Ｘ線光学系中
心）とを一致させることができる。
この際、光軸中心の一致を図るための第２図Ｘ線強度
チャートの情報から、同時にGsとGeを求め、各コリメー
タサイズ使用時の実際のＸ線ビーム照射幅（Ｗ＝Ge−G
s）の確認も実施できることは勿論である。
チャートの情報から、同時にGsとGeを求め、各コリメー
タサイズ使用時の実際のＸ線ビーム照射幅（Ｗ＝Ge−G
s）の確認も実施できることは勿論である。
以上詳述した如く、本発明はXY両軸の確認用ブロック
を自動ステージ上に配置し、XY両軸を走査しながらＸ線
強度を検出することによって、一次Ｘ線の光軸と、試料
観察用の光軸を自動的に一致させることが可能となり、
光軸調整の作業を簡単なものにするとともに、同時に一
次Ｘ線のビーム拡がりも確認できる等、優れた効果を奏
する。
を自動ステージ上に配置し、XY両軸を走査しながらＸ線
強度を検出することによって、一次Ｘ線の光軸と、試料
観察用の光軸を自動的に一致させることが可能となり、
光軸調整の作業を簡単なものにするとともに、同時に一
次Ｘ線のビーム拡がりも確認できる等、優れた効果を奏
する。
第１図は従来の一軸のみの光軸確認用ブロックを示し、
第２図は本発明のデータ処理方法を示すＸ線強度チャー
トであり、第３図は本発明の実施例の光軸確認用ブロッ
ク、第４図は本発明の実施例のシステム構成図である。 １……Ｘ線発生器 ２……一次Ｘ線 ３……コリメータ ４……ミラー ５……XYZ自動ステージ ６……検出器 ７……MCA ８……CPU ９……モニタTV 10……試料観察用光軸コントローラ
第２図は本発明のデータ処理方法を示すＸ線強度チャー
トであり、第３図は本発明の実施例の光軸確認用ブロッ
ク、第４図は本発明の実施例のシステム構成図である。 １……Ｘ線発生器 ２……一次Ｘ線 ３……コリメータ ４……ミラー ５……XYZ自動ステージ ６……検出器 ７……MCA ８……CPU ９……モニタTV 10……試料観察用光軸コントローラ
Claims (2)
- 【請求項１】測定対象にＸ線を照射し、励起されたケイ
光Ｘ線量に基づいて薄膜の厚みを測定する装置におい
て、 一次Ｘ線をサブ・ミリ・オーダーに絞るコリメーターを
含む一次Ｘ線光学系と、 測定対象物を観察するためのモニター用カメラ光学系
と、 測定対象物を載せてXYZ軸に自動的に搬送する自動ステ
ージを有するケイ光Ｘ線膜厚測定装置において、 ケイ光Ｘ線強度の異なる元素の境界線を、Ｘ軸方向、Ｙ
軸方向の両方向に有する光軸確認用ブロックを、自動ス
テージ上特定位置に配置し、自動的にＸ軸方向とＹ軸方
向に走査してＸ線強度を検出し、データ処理することに
よって、 一次Ｘ線光学系と測定試料観察用光学系の同軸化を図る
自動光軸調整機能を具備することを特徴とするケイ光Ｘ
線膜厚測定装置。 - 【請求項２】測定対象にＸ線を照射し、励起されたケイ
光Ｘ線量に基づいて薄膜の厚みを測定する装置におい
て、 一次Ｘ線をサブ・ミリ・オーダーに絞るコリメーターを
含む一次Ｘ線光学系と、 測定対象物を観察するためのモニター用カメラ光学系
と、 測定対象物を載せてXYZ軸に自動的に搬送する自動ステ
ージを有するケイ光Ｘ線膜厚測定装置において、 ケイ光Ｘ線強度の異なる元素の境界線を、Ｘ軸方向、Ｙ
軸方向の両方向に有する光軸確認用ブロックを、自動ス
テージ上特定位置に配置し、自動的にＸ軸方向とＹ軸方
向に走査してＸ線強度を検出し、該Ｘ線強度と各軸座標
との関係を求めることによって一次光線の光軸中心の座
標を求め、該座標とカメラ光学系中心との差分だけカメ
ラ光学系を移動させることにより、 一次Ｘ線光学系と測定試料観察用光学系の同軸化を図る
自動光軸調整機能を具備することを特徴とするケイ光Ｘ
線膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238666A JP3018042B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | ケイ光ｘ線膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238666A JP3018042B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | ケイ光ｘ線膜厚測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04118508A JPH04118508A (ja) | 1992-04-20 |
| JP3018042B2 true JP3018042B2 (ja) | 2000-03-13 |
Family
ID=17033519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2238666A Expired - Lifetime JP3018042B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | ケイ光ｘ線膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3018042B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5919146B2 (ja) * | 2012-09-04 | 2016-05-18 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置 |
| JP2014048275A (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Sharp Corp | オフセット量校正試料および膜厚測定装置 |
-
1990
- 1990-09-07 JP JP2238666A patent/JP3018042B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04118508A (ja) | 1992-04-20 |
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