JPH05115992A - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置

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JPH05115992A
JPH05115992A JP3139408A JP13940891A JPH05115992A JP H05115992 A JPH05115992 A JP H05115992A JP 3139408 A JP3139408 A JP 3139408A JP 13940891 A JP13940891 A JP 13940891A JP H05115992 A JPH05115992 A JP H05115992A
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JP
Japan
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laser beam
processing
laser
intensity distribution
dimensional
Prior art date
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Pending
Application number
JP3139408A
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English (en)
Inventor
Joji Iwamoto
譲治 岩本
Ikuo Hikima
郁雄 引間
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 加工レーザビームの光路中に2次元的にレー
ザビームの強度分布やその正確な中心位置を表示できる
表示装置を設け、レーザビームや送光光学系に起因する
レーザビームの強度分布の異常を簡単に知ることができ
るようにする。 【構成】 XーYステージ10の中には、レーザビーム
の強度分布を2次元的に検出するための検出装置11、
12、17が配置されている。この検出装置はレーザビ
ームを通過させることができるピンホール17とこのピ
ンホール17を通過してきたレーザビームを反射させる
反射ミラー11と反射ミラー11によって反射されたレ
ーザビームを検知する2次元光センサー12とから構成
されている。2次元光センサー12によって検知された
レーザビームは表示装置13によってモニターされ、他
方その信号が制御装置16に入力されるようになってい
る。制御装置16は2次元光センサー出力信号に基づき
光強度分布の計算を行なう。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、材質や構造等が異なる
様々な加工対象物をレーザ加工するレーザ加工装置に関
するものである。 【0002】 【従来の技術】従来のレーザ加工装置においては、加工
対象物に対する最適加工条件を得るためにレーザコント
ロールをレーザ出力と、ビームサイズにより行なってい
た。図3にそうしたレーザ加工装置の1例を示す。図3
において、加工レーザ光源1により出射されたレーザ光
14は、ビームエキスパンダー2により所定の大きさに
拡大され、次いでダイクロイックミラー3で反射された
後、集光レンズ4を通して加工対象物5に照射される。
一方、加工対象物5を観察するための照明光15は、反
射ミラー7により反射された後、加工用レーザビームと
同一の光軸で加工対象物に照射される。加工対象物5に
照射された照明光は、加工対象物5で反射され、その反
射光は加工対象物と共役に置かれたCCDカメラ8で検
出され、カメラ8に接続されたテレビモニター9により
加工状態が観測される。また、加工部位の位置決めは、
加工対象物を載置するXーYステージ19により行う。 【0003】上記レーザ加工装置においては、加工対象
物5に照射されるレーザビームのエネルギーは、例えば
加工対象物5を交換する毎に、XーYステージ19を移
動し、XーYステージ19上に置いた図示しないエネル
ギーメータにより検出し、不図示の制御部により設定エ
ネルギーになる様にレーザ励起光の出力を調整する。ま
た、レーザビームのビーム位置やその変動量は、ダイク
ロイックミラー3の漏れ透過光を4分割ディテクター2
0で受光し、その出力信号を入力する表示装置21によ
り観測する。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】しかし、前記したよう
な従来のレーザ加工装置にあっては、レーザビームの位
置を検知することはできても、レーザビームの2次元的
強度分布は検知出来ないため、レーザビームの正確な中
心位置すなわち加工中心位置がわからないと言う問題点
があった。また、レーザビームの強度分布が変動しても
それが検知出来ないため、加工形状や加工位置が変動し
てしまうという問題点があった。そこで、本発明ではレ
ーザビームの強度分布を2次元的に検出し、特に微細加
工において安定した加工を行うことができるレーザ加工
装置を提案せんとするものである。 【0005】 【課題を解決するための手段】このため本発明は、加工
用レーザ光源からのレーザビームを加工対象物に照射し
て加工対象物の加工を行うようにしたレーザ加工装置に
おいて、前記レーザビームの2次元的な強度分布を検出
する検出装置とその出力によって前記レーザビームの2
次元的な強度分布を表示する表示装置を設けたことを特
徴としており、これを課題解決のための手段とするもの
である。 【0006】 【作用】本発明では、レーザビームの光路中に2次元的
に加工レーザビームの強度分布を検出する検出装置と表
示装置とを設けたため、その出力によって、加工レーザ
光源や送光光学系に起因するレーザビームの強度分布の
異常を簡単に知ることができる。この結果、本装置で
は、定期的にレーザビームの2次元的な強度分布をチェ
ックすることにより、加工異常を無くし安定した加工を
実現できる。 【0007】 【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る実施例を
説明すると、図1は本発明に係るレーザ加工装置の概略
図であり、図2は図1の表示装置13でモニターされた
レーザビームの強度分布を表す図である。 【0008】図1において、1は加工レーザ光源、2は
ビームエキスパンダ、3はダイクロイックミラー、4は
集光レンズ、5は加工対象物、10はXーYステージ、
6はエネルギーメータ、15は照明光、7はハーフミラ
ー、8はCCDカメラ、9はテレビモニター、16は制
御装置であり、これらのうち、送光系と照明光による観
察系は従来のレーザ加工装置のものと同様の構成を有し
ている。従ってここでは、従来装置と同様の構成部品の
説明は省略する。 【0009】XーYステージ10には凹み10Aが形成
され、凹み10Aには、加工レーザ光の強度分布を2次
元的に検出するための検出装置11、12、17が配置
されている。この検出装置は、ステージ10の表面に設
けられ、レーザビームを通過させることができるピンホ
ール17と、このピンホール17を通過してきたレーザ
ビームを反射する反射ミラー11と、反射ミラー11に
よって反射されたレーザビームを検知する2次元光セン
サー12とから構成されている。2次元光センサー12
によって検知されたレーザビームは表示装置13によっ
てモニターされ、他方、制御装置16にも入力される。
制御装置16は、XーYステージ10による加工位置制
御と、エネルギーメータ6に基づく加工レーザビームの
エネルギー制御と、2次元光センサー出力信号に基づく
レーザビームの2次元的強度分布計算とを行なう。 【0010】上記装置において加工対象物15に照射す
るレーザビームのエネルギーは、加工対象物5を交換す
る毎に、ステージ10を移動させ、エネルギーメータ6
で検出し、設定エネルギーになる様に制御部16よりレ
ーザ励起光の出力を調整する。また、加工対象物5に照
射されるレーザビームの2次元的強度分布は、加工対象
物5を交換する毎に、XーYステージ10を移動してピ
ンホール17を通過したレーザビームを反射ミラー11
で反射させ、これを例えばCCDにて構成された2次元
光センサー12により検出する。2次元光センサー12
によって検出したレーザビームは表示装置13に入力さ
れて表示される。その結果、図2に示す如くレーザビー
ムの2次元的強度分布が表示装置13に等高線の形で表
示される。他方、2次元光センサー12の出力信号は制
御装置16に入力される。制御装置16は、レーザビー
ムの2次元的強度分布とその中心位置を記憶する。 【0011】このような構成であるから、作業者は先
ず、初期設定において、表示装置13に表示されるレー
ザビームの強度分布が同心円状になるように、加工レー
ザ光源1および送光光学系2、3、4を調整する。具体
的には、レーザ光源1によるレーザビームの射出方向を
変えたり、レンズ2、4の偏心、傾き補正、ミラー3の
傾き補正等である。このように記憶しておいた加工レー
ザ光の強度分布とその中心位置情報に基づいて、加工レ
ーザ光の強度分布や中心位置を定期的にチェックする。
チェックは測定すべき加工レーザ光の2次元的強度分布
やその中心位置が、先に記憶しておいた2次元的強度分
布や中心位置とずれているか否かを判断し、その変動が
許容値を超えていた場合には、表示装置上にエラー表示
をする。そして、ずれがある場合には、そのずれを加工
位置の補正や加工レーザ光源、送光光学系を調整するこ
とにより修正する。これにより、レーザ光の2次元的光
強度分布の中心位置および強度分布変動を容易に知るこ
とができる。 【0012】上記のように構成された本実施例のレーザ
加工装置による加工作業は次のようにして行われる。先
ず加工に先立ちレーザビームのエネルギーチェック、レ
ーザビームの2次元的強度分布やその中心位置の調整を
行う。なお、加工物に照射されるレーザ光の2次元的強
度分布は、加工対象物を交換する毎に、XーYステージ
2を移動して、2次元光センサー12により検出する。
制御装置16は、予め記憶しておいた正しいレーザビー
ムの2次元的強度分布およびその中心位置に基づいてレ
ーザビームの2次元的強度分布や中心位置を定期的にチ
ェックする。この時、レーザビームの変動が許容値を超
えていた場合には、表示装置上にエラー表示をするとと
もに、ずれは加工位置の補正や加工レーザ光源、送光光
学系を調整することにより修正する。 【0013】以上の様にしてエネルギー設定やレーザビ
ームの2次元的強度分布の調整が終了すると、制御部1
6によりX−Yステージ10による加工位置が制御さ
れ、加工が実行される。加工レーザ光源1により出力さ
れたレーザビーム14は、ビームエキスパンダー2によ
り拡大され、ダイクロイックミラー3で反射し、集光レ
ンズ4を通して加工対象物6に照射される。一方、加工
対象物5を観察するための照明光15は、ハーフミラー
7で反射された後、レーザビーム14と同軸で加工対象
物5に照射される。加工対象物5に照射された照明光
は、加工対象物5で反射され、その反射光はCCDカメ
ラ8に入光し、テレビモニター9により加工状態が観測
される。なお、加工中はダイクロイックミラー3を漏れ
通過してくるレーザビームの一部をエネルギーメータ
(不図示)により検出し、その検出値を制御装置16に
フィードバックして、制御装置16により加工エネルギ
ーの強度変動を測定するようにしても良い。また、本実
施例では、加工対象物5を載置するXーYステージ10
上でのレーザビームの強度分布のチェックについて説明
したが、途中のレーザビームの光路中にも同じ機能を有
する装置を取りつけ、各部でのレーザビームの強度分布
やその中心位置を上記と同様な方法によりモニターし、
制御装置16にフィードバックするようにしてもよい。
このようにすると、加工時に常に安定したレーザビーム
を利用できるため、特に精度のよい微細加工等を安定し
て行うことができる。 【0014】 【発明の効果】以上の様に本発明によれば、加工用レー
ザ光源から出力されたレーザビームの強度分布を検出す
る検出装置をレーザビームの光路中に設け、レーザビー
ムの2次元的強度分布やその正確な中心位置を簡単にモ
ニターできるため、加工レーザ光源や送光光学系に起因
するレーザビームの強度分布の異常を簡単に知ることが
できる。この結果、上記装置により定期的にレーザビー
ムの強度分布をチェックするだけで、加工異常を無くし
安定した精度の高いレーザ加工が実現できる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明による装置の概略図である。 【図2】表示装置での加工レーザ光の2次元的強度分布
を表す図である。 【図3】従来のレーザ加工装置の概略図である。 【符号の説明】 1 加工用レーザ光源 2 ビームエキスパンダー 3 ダイクロイックミラー 4 集光レンズ 5 加工対象物 6 エネルギーメータ 7 反射ミラー 8 CCDカメラ 9 テレビモニター 10 XーYステージ 11 反射ミラー 12 2次元光センサー 13 表示装置 14 加工レーザ光 15 照明光 16 制御装置 17 ピンホール 18 2次元光センサーモニター画面 19 XーYステージ 20 4分割ディテクター 21 表示装置

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 加工用レーザ光源からのレーザビームを
    加工対象物に照射して加工対象物の加工を行うようにし
    たレーザ加工装置において、前記レーザビームの2次元
    的な強度分布を検出する検出装置を設けると共に、前記
    検出装置の出力によって前記レーザビームの2次元的な
    強度分布を表示する表示装置を設けたことを特徴とする
    レーザ加工装置。 【請求項2】 前記検出装置は加工対象物を載置するX
    ーYステージに設けられ、レーザビームを通過させるピ
    ンホール17と、このピンホール17を通過した前記レ
    ーザビームを検知して前記レーザビームの強度分布に応
    じた信号を出力する2次元光センサー12とから構成さ
    れていることを特徴とする〔請求項1〕に記載のレーザ
    加工装置。
JP3139408A 1991-05-16 1991-05-16 レーザ加工装置 Pending JPH05115992A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0868690A (ja) * 1994-08-30 1996-03-12 Central Res Inst Of Electric Power Ind 光強度測定用光センサ及び光計測装置
US7714251B2 (en) * 2005-11-23 2010-05-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd Laser irradiation apparatus
JP2012011431A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ加工装置及びレーザ加工方法
TWI405634B (zh) * 2009-12-18 2013-08-21 Ap Systems Inc 具有雷射光束分析器的鐳射加工裝置
US20190061062A1 (en) 2017-08-28 2019-02-28 Fanuc Corporation Machine learning device, machine learning system, and machine learning method
WO2024013930A1 (ja) * 2022-07-14 2024-01-18 株式会社ニコン 造形システム、加工システム、造形方法及び加工方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0868690A (ja) * 1994-08-30 1996-03-12 Central Res Inst Of Electric Power Ind 光強度測定用光センサ及び光計測装置
US7714251B2 (en) * 2005-11-23 2010-05-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd Laser irradiation apparatus
TWI405634B (zh) * 2009-12-18 2013-08-21 Ap Systems Inc 具有雷射光束分析器的鐳射加工裝置
JP2012011431A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ加工装置及びレーザ加工方法
US20190061062A1 (en) 2017-08-28 2019-02-28 Fanuc Corporation Machine learning device, machine learning system, and machine learning method
JP2019038027A (ja) * 2017-08-28 2019-03-14 ファナック株式会社 機械学習装置、機械学習システム及び機械学習方法
US10532432B2 (en) 2017-08-28 2020-01-14 Fanuc Corporation Machine learning device, machine learning system, and machine learning method
WO2024013930A1 (ja) * 2022-07-14 2024-01-18 株式会社ニコン 造形システム、加工システム、造形方法及び加工方法

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