JPH10282021A - 全反射蛍光ｘ線分析における入射角設定方法および装置 - Google Patents
全反射蛍光ｘ線分析における入射角設定方法および装置Info
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- JPH10282021A JPH10282021A JP8394097A JP8394097A JPH10282021A JP H10282021 A JPH10282021 A JP H10282021A JP 8394097 A JP8394097 A JP 8394097A JP 8394097 A JP8394097 A JP 8394097A JP H10282021 A JPH10282021 A JP H10282021A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 全反射蛍光Ｘ線分析において、試料全体の反
りや試料表面の微妙な凹凸によらず、正確に試料への１
次Ｘ線の入射角を設定することができる方法および装置
を提供する。 【解決手段】 １次Ｘ線３に対し臨界角の２倍以内の適
切な角度φに視野制限され、試料表面１ａ，９ａで反射
した１次Ｘ線である反射Ｘ線４の強度を測定する反射Ｘ
線検出手段２１を用い、入射角θが、臨界角θc 内で、
所望の入射角θ1近傍の適切な角度θ2 である状態を基
準にする。
りや試料表面の微妙な凹凸によらず、正確に試料への１
次Ｘ線の入射角を設定することができる方法および装置
を提供する。 【解決手段】 １次Ｘ線３に対し臨界角の２倍以内の適
切な角度φに視野制限され、試料表面１ａ，９ａで反射
した１次Ｘ線である反射Ｘ線４の強度を測定する反射Ｘ
線検出手段２１を用い、入射角θが、臨界角θc 内で、
所望の入射角θ1近傍の適切な角度θ2 である状態を基
準にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、いわゆる全反射蛍
光Ｘ線分析において、試料全体の反りや試料表面の微妙
な凹凸によらず、正確に試料への１次Ｘ線の入射角を設
定することができる方法および装置に関する。
光Ｘ線分析において、試料全体の反りや試料表面の微妙
な凹凸によらず、正確に試料への１次Ｘ線の入射角を設
定することができる方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、いわゆる全反射蛍光Ｘ線分析
においては、図６に示すように、１次Ｘ線３を、試料台
２に固定された試料１の表面１ａに、例えば０．０８度
程度の微小な入射角θ（図示と理解の容易のため、図面
においては誇張して表す）で入射させ、全反射したＸ線
４を検出器６に入射させないように図面右方向へ逃がし
つつ、試料１から発生した蛍光Ｘ線５を検出器６に入射
させ、分析を行っている。ここで、正確な分析のために
は、入射角θは、０度よりも大きく全反射の臨界角（全
反射が起こる入射角θの上限）よりも小さい範囲内で、
分析においてＳ／Ｎ比が良好となるような角度（以下、
「所望の入射角」という）θ1 である必要がある。この
所望の入射角θ1 の値は、試料１の基板材質によりあら
かじめ求めておくことができるが、測定する試料１ごと
に入射角θを所望の入射角θ1 に設定するために、例え
ば、半割り法と呼ばれる方法が用いられている。
においては、図６に示すように、１次Ｘ線３を、試料台
２に固定された試料１の表面１ａに、例えば０．０８度
程度の微小な入射角θ（図示と理解の容易のため、図面
においては誇張して表す）で入射させ、全反射したＸ線
４を検出器６に入射させないように図面右方向へ逃がし
つつ、試料１から発生した蛍光Ｘ線５を検出器６に入射
させ、分析を行っている。ここで、正確な分析のために
は、入射角θは、０度よりも大きく全反射の臨界角（全
反射が起こる入射角θの上限）よりも小さい範囲内で、
分析においてＳ／Ｎ比が良好となるような角度（以下、
「所望の入射角」という）θ1 である必要がある。この
所望の入射角θ1 の値は、試料１の基板材質によりあら
かじめ求めておくことができるが、測定する試料１ごと
に入射角θを所望の入射角θ1 に設定するために、例え
ば、半割り法と呼ばれる方法が用いられている。
【０００３】半割り法では、図７に示すように、試料１
よりも１次Ｘ線３の進行方向側に、Ｘ線強度を測定する
カウンター３０を設置し、試料１に遮られずにカウンタ
ー３０に入射する１次Ｘ線３ａの強度を測定しながら、
１次Ｘ線３に対する試料表面１ａの高さと角度をわずか
ずつ変化させて、測定強度が、試料１が１次Ｘ線３を全
く遮らないときの半分になった状態を入射角０度として
（図７の状態）、そこからあらかじめ求めた所望の入射
角θ1 まで試料１を傾斜させる。
よりも１次Ｘ線３の進行方向側に、Ｘ線強度を測定する
カウンター３０を設置し、試料１に遮られずにカウンタ
ー３０に入射する１次Ｘ線３ａの強度を測定しながら、
１次Ｘ線３に対する試料表面１ａの高さと角度をわずか
ずつ変化させて、測定強度が、試料１が１次Ｘ線３を全
く遮らないときの半分になった状態を入射角０度として
（図７の状態）、そこからあらかじめ求めた所望の入射
角θ1 まで試料１を傾斜させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、半割り法で
は、図７に２点鎖線で示すように、カウンター３０に直
接入射するもの３ａ以外に、試料表面１ａで反射した１
次Ｘ線である反射Ｘ線４もカウンタ３０に入射するおそ
れがあるため、正確な入射角θの設定は困難である。ま
た、カウンター３０での測定強度が、試料１が１次Ｘ線
３を全く遮らないときの半分になった状態を入射角０度
として、この状態を基準として所望の入射角θ1 になる
ように調整するので、図８に示すように、試料１全体が
わずかでも皿状に反っているときには、試料表面１ａに
おいて例えば中央である測定点（測定箇所）Ｐには１次
Ｘ線３が照射されず、試料表面１ａの縁を基準に調整さ
れることになり、試料１の測定点Ｐでの正確な入射角θ
の設定ができない。
は、図７に２点鎖線で示すように、カウンター３０に直
接入射するもの３ａ以外に、試料表面１ａで反射した１
次Ｘ線である反射Ｘ線４もカウンタ３０に入射するおそ
れがあるため、正確な入射角θの設定は困難である。ま
た、カウンター３０での測定強度が、試料１が１次Ｘ線
３を全く遮らないときの半分になった状態を入射角０度
として、この状態を基準として所望の入射角θ1 になる
ように調整するので、図８に示すように、試料１全体が
わずかでも皿状に反っているときには、試料表面１ａに
おいて例えば中央である測定点（測定箇所）Ｐには１次
Ｘ線３が照射されず、試料表面１ａの縁を基準に調整さ
れることになり、試料１の測定点Ｐでの正確な入射角θ
の設定ができない。
【０００５】さらに、試料表面１ａに微妙な凹凸がある
ときには、測定点Ｐごとに微視的に正確に入射角θを設
定するには、同一試料の表面１ａでも測定点Ｐごとに入
射角θを調整すべきであるが、半割り法では、同一試料
の表面１ａであれば、測定点Ｐがどこであっても、１通
りにしか入射角θを調整しないので、測定点Ｐごとに正
確に入射角θを設定することができない。この問題は、
さらに厳密にいえば、同一測定点Ｐにおいても、１次Ｘ
線３の入射方向（方位）が異なれば生じる。すなわち、
正確に入射角θを設定するには、測定点Ｐごとに、か
つ、１次Ｘ線３の入射方向ごとに入射角θを調整すべき
である。
ときには、測定点Ｐごとに微視的に正確に入射角θを設
定するには、同一試料の表面１ａでも測定点Ｐごとに入
射角θを調整すべきであるが、半割り法では、同一試料
の表面１ａであれば、測定点Ｐがどこであっても、１通
りにしか入射角θを調整しないので、測定点Ｐごとに正
確に入射角θを設定することができない。この問題は、
さらに厳密にいえば、同一測定点Ｐにおいても、１次Ｘ
線３の入射方向（方位）が異なれば生じる。すなわち、
正確に入射角θを設定するには、測定点Ｐごとに、か
つ、１次Ｘ線３の入射方向ごとに入射角θを調整すべき
である。
【０００６】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、いわゆる全反射蛍光Ｘ線分析において、試料全
体の反りや試料表面の微妙な凹凸によらず、正確に試料
への１次Ｘ線の入射角を設定することができる方法およ
び装置を提供することを目的とする。
もので、いわゆる全反射蛍光Ｘ線分析において、試料全
体の反りや試料表面の微妙な凹凸によらず、正確に試料
への１次Ｘ線の入射角を設定することができる方法およ
び装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１の入射角の設定方法では、試料の上方に設
置され、試料から発生する２次Ｘ線の強度を測定する２
次Ｘ線検出手段と、２次Ｘ線検出手段の側方に設置さ
れ、試料と２次Ｘ線検出手段との距離を測定する変位セ
ンサと、試料よりも１次Ｘ線の進行方向側に設置され、
１次Ｘ線に対し臨界角の２倍以内の適切な角度に視野制
限され、試料表面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の
強度を測定する反射Ｘ線検出手段とを用いる。
に、請求項１の入射角の設定方法では、試料の上方に設
置され、試料から発生する２次Ｘ線の強度を測定する２
次Ｘ線検出手段と、２次Ｘ線検出手段の側方に設置さ
れ、試料と２次Ｘ線検出手段との距離を測定する変位セ
ンサと、試料よりも１次Ｘ線の進行方向側に設置され、
１次Ｘ線に対し臨界角の２倍以内の適切な角度に視野制
限され、試料表面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の
強度を測定する反射Ｘ線検出手段とを用いる。
【０００８】ここで、まず、表面の所定点に既知元素を
付着させた基準試料を試料台に固定して１次Ｘ線を照射
し、２次Ｘ線検出手段で前記既知元素から発生する蛍光
Ｘ線の強度を測定しながら試料台を上下方向に移動さ
せ、測定される蛍光Ｘ線の強度が最大になるときの基準
試料と２次Ｘ線検出手段との距離を変位センサにより測
定し、この距離を適切な高さとして記憶しておく。
付着させた基準試料を試料台に固定して１次Ｘ線を照射
し、２次Ｘ線検出手段で前記既知元素から発生する蛍光
Ｘ線の強度を測定しながら試料台を上下方向に移動さ
せ、測定される蛍光Ｘ線の強度が最大になるときの基準
試料と２次Ｘ線検出手段との距離を変位センサにより測
定し、この距離を適切な高さとして記憶しておく。
【０００９】次に、組成が既知の標準試料を試料台に固
定し、その表面の測定点が前記適切な高さになるように
変位センサを用いて位置させる。そこで、標準試料に１
次Ｘ線を照射し、標準試料表面への１次Ｘ線の入射角が
変化するように、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を変
化させることにより、２次Ｘ線検出手段により測定され
る２次Ｘ線の強度と傾斜角との関係と、反射Ｘ線検出手
段により測定される反射Ｘ線の強度と傾斜角との関係と
を求め、両関係と既知である臨界角の値とから、測定さ
れる反射Ｘ線の強度が最大になったときの入射角の値を
求め、記憶しておく。
定し、その表面の測定点が前記適切な高さになるように
変位センサを用いて位置させる。そこで、標準試料に１
次Ｘ線を照射し、標準試料表面への１次Ｘ線の入射角が
変化するように、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を変
化させることにより、２次Ｘ線検出手段により測定され
る２次Ｘ線の強度と傾斜角との関係と、反射Ｘ線検出手
段により測定される反射Ｘ線の強度と傾斜角との関係と
を求め、両関係と既知である臨界角の値とから、測定さ
れる反射Ｘ線の強度が最大になったときの入射角の値を
求め、記憶しておく。
【００１０】そして、分析対象試料を試料台に固定し、
その表面の測定点が前記適切な高さになるように変位セ
ンサを用いて位置させる。そこで、分析対象試料に１次
Ｘ線を照射し、分析対象試料表面への１次Ｘ線の入射角
が変化するように、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を
変化させ、試料台の傾斜角を、反射Ｘ線検出手段により
測定される反射Ｘ線の強度が最大になったときの角度を
基準に、所望の入射角との差を補うように調整すること
により、分析対象試料への１次Ｘ線の入射角を設定す
る。
その表面の測定点が前記適切な高さになるように変位セ
ンサを用いて位置させる。そこで、分析対象試料に１次
Ｘ線を照射し、分析対象試料表面への１次Ｘ線の入射角
が変化するように、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を
変化させ、試料台の傾斜角を、反射Ｘ線検出手段により
測定される反射Ｘ線の強度が最大になったときの角度を
基準に、所望の入射角との差を補うように調整すること
により、分析対象試料への１次Ｘ線の入射角を設定す
る。
【００１１】請求項１の方法によれば、１次Ｘ線に対し
臨界角の２倍以内の適切な角度に視野制限され、試料表
面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の強度を測定する
反射Ｘ線検出手段を用いるので、半割り法のように１次
Ｘ線の進行方向そのものに設置し特に視野制限されない
カウンタに直接入射する１次Ｘ線を測定する結果反射Ｘ
線の入射が妨害となるというようなことがなく、正確な
入射角の設定ができる。また、半割り法のように入射角
が０度となるような状態を基準にするのではなく、入射
角が、臨界角内で、所望の入射角近傍の適切な角度であ
る状態を基準にするので、試料全体に反りがあっても、
試料の測定点での正確な入射角の設定ができる。さら
に、かかる状態を基準にするので、試料表面に微妙な凹
凸があっても、測定点ごとに、かつ、１次Ｘ線の入射方
向ごとに、正確な入射角の設定ができる。
臨界角の２倍以内の適切な角度に視野制限され、試料表
面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の強度を測定する
反射Ｘ線検出手段を用いるので、半割り法のように１次
Ｘ線の進行方向そのものに設置し特に視野制限されない
カウンタに直接入射する１次Ｘ線を測定する結果反射Ｘ
線の入射が妨害となるというようなことがなく、正確な
入射角の設定ができる。また、半割り法のように入射角
が０度となるような状態を基準にするのではなく、入射
角が、臨界角内で、所望の入射角近傍の適切な角度であ
る状態を基準にするので、試料全体に反りがあっても、
試料の測定点での正確な入射角の設定ができる。さら
に、かかる状態を基準にするので、試料表面に微妙な凹
凸があっても、測定点ごとに、かつ、１次Ｘ線の入射方
向ごとに、正確な入射角の設定ができる。
【００１２】請求項２の入射角の設定方法では、用いる
反射Ｘ線検出手段が、当初特に視野制限されておらず、
標準試料に１次Ｘ線を照射し、標準試料表面への１次Ｘ
線の入射角が変化するように、試料台の１次Ｘ線に対す
る傾斜角を変化させることにより、反射Ｘ線検出手段に
より測定される反射Ｘ線の強度と傾斜角との関係を求
め、その関係と既知である臨界角の値とに基づいて、反
射Ｘ線検出手段を１次Ｘ線に対し臨界角の２倍以内の適
切な角度に視野制限する点でのみ、請求項１の方法と異
なる。請求項２の方法によっても、請求項１の方法と同
様の作用効果がある。
反射Ｘ線検出手段が、当初特に視野制限されておらず、
標準試料に１次Ｘ線を照射し、標準試料表面への１次Ｘ
線の入射角が変化するように、試料台の１次Ｘ線に対す
る傾斜角を変化させることにより、反射Ｘ線検出手段に
より測定される反射Ｘ線の強度と傾斜角との関係を求
め、その関係と既知である臨界角の値とに基づいて、反
射Ｘ線検出手段を１次Ｘ線に対し臨界角の２倍以内の適
切な角度に視野制限する点でのみ、請求項１の方法と異
なる。請求項２の方法によっても、請求項１の方法と同
様の作用効果がある。
【００１３】請求項３の入射角の設定装置は、まず、試
料が固定される試料台と、分析にも用いられ、試料に１
次Ｘ線を照射するＸ線源と、分析にも用いられ、１次Ｘ
線が照射される試料の上方に設置され、試料から発生す
る２次Ｘ線の強度を測定する２次Ｘ線検出手段とを備え
ている。また、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を変化
させる角度調整器と、試料台の高さを変化させる高さ調
整器とを備えている。さらに、２次Ｘ線検出手段の側方
に設置され、試料と２次Ｘ線検出手段との距離を測定す
る変位センサと、試料台を、２次Ｘ線検出手段の軸直下
と変位センサの軸直下との間で、１次Ｘ線の進行方向に
沿って移動させる水平移動手段と、試料よりも１次Ｘ線
の進行方向側に設置され、１次Ｘ線に対し臨界角の２倍
以内の適切な角度に視野制限するスリットを有し、試料
表面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の強度を測定す
る反射Ｘ線検出手段とを備えている。
料が固定される試料台と、分析にも用いられ、試料に１
次Ｘ線を照射するＸ線源と、分析にも用いられ、１次Ｘ
線が照射される試料の上方に設置され、試料から発生す
る２次Ｘ線の強度を測定する２次Ｘ線検出手段とを備え
ている。また、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を変化
させる角度調整器と、試料台の高さを変化させる高さ調
整器とを備えている。さらに、２次Ｘ線検出手段の側方
に設置され、試料と２次Ｘ線検出手段との距離を測定す
る変位センサと、試料台を、２次Ｘ線検出手段の軸直下
と変位センサの軸直下との間で、１次Ｘ線の進行方向に
沿って移動させる水平移動手段と、試料よりも１次Ｘ線
の進行方向側に設置され、１次Ｘ線に対し臨界角の２倍
以内の適切な角度に視野制限するスリットを有し、試料
表面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の強度を測定す
る反射Ｘ線検出手段とを備えている。
【００１４】さらにまた、試料台に固定され表面の所定
点に既知元素を付着させた基準試料にＸ線源から１次Ｘ
線を照射させ、２次Ｘ線検出手段に前記既知元素から発
生する蛍光Ｘ線の強度を測定させながら高さ調整器によ
り試料台を上下方向に移動させ、測定される蛍光Ｘ線の
強度が最大になるときの基準試料と２次Ｘ線検出手段と
の距離を水平移動手段と変位センサとを協働させて測定
させ、この距離を適切な高さとして記憶しておき、試料
台に固定された他の試料の表面の測定点が、前記適切な
高さになるように、水平移動手段と変位センサと高さ調
整器とを協働させて位置させる高さ調整手段を備えてい
る。
点に既知元素を付着させた基準試料にＸ線源から１次Ｘ
線を照射させ、２次Ｘ線検出手段に前記既知元素から発
生する蛍光Ｘ線の強度を測定させながら高さ調整器によ
り試料台を上下方向に移動させ、測定される蛍光Ｘ線の
強度が最大になるときの基準試料と２次Ｘ線検出手段と
の距離を水平移動手段と変位センサとを協働させて測定
させ、この距離を適切な高さとして記憶しておき、試料
台に固定された他の試料の表面の測定点が、前記適切な
高さになるように、水平移動手段と変位センサと高さ調
整器とを協働させて位置させる高さ調整手段を備えてい
る。
【００１５】さらにまた、試料台に固定され組成が既知
の標準試料を、その表面の測定点が前記適切な高さにな
るように高さ調整手段により位置させ、Ｘ線源から１次
Ｘ線を照射させ、標準試料表面への１次Ｘ線の入射角が
変化するように、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を角
度調整器により変化させ、２次Ｘ線検出手段により測定
される２次Ｘ線の強度と傾斜角との関係と、反射Ｘ線検
出手段により測定される反射Ｘ線の強度と傾斜角との関
係とを求め、両関係と既知である臨界角の値とから、測
定される反射Ｘ線の強度が最大になったときの入射角の
値を求め、記憶しておく基準角度算出手段を備えてい
る。
の標準試料を、その表面の測定点が前記適切な高さにな
るように高さ調整手段により位置させ、Ｘ線源から１次
Ｘ線を照射させ、標準試料表面への１次Ｘ線の入射角が
変化するように、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を角
度調整器により変化させ、２次Ｘ線検出手段により測定
される２次Ｘ線の強度と傾斜角との関係と、反射Ｘ線検
出手段により測定される反射Ｘ線の強度と傾斜角との関
係とを求め、両関係と既知である臨界角の値とから、測
定される反射Ｘ線の強度が最大になったときの入射角の
値を求め、記憶しておく基準角度算出手段を備えてい
る。
【００１６】さらにまた、試料台に固定された分析対象
試料を、その表面の測定点が前記適切な高さになるよう
に高さ調整手段により位置させ、Ｘ線源から１次Ｘ線を
照射させ、分析対象試料表面への１次Ｘ線の入射角が変
化するように、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を角度
調整器により変化させ、試料台の傾斜角を、反射Ｘ線検
出手段により測定される反射Ｘ線の強度が最大になった
ときの角度を基準に、所望の入射角との差を補うように
角度調整器により調整する入射角設定手段を備えてい
る。請求項３の装置によっても、請求項１の方法と同様
の作用効果がある。
試料を、その表面の測定点が前記適切な高さになるよう
に高さ調整手段により位置させ、Ｘ線源から１次Ｘ線を
照射させ、分析対象試料表面への１次Ｘ線の入射角が変
化するように、試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を角度
調整器により変化させ、試料台の傾斜角を、反射Ｘ線検
出手段により測定される反射Ｘ線の強度が最大になった
ときの角度を基準に、所望の入射角との差を補うように
角度調整器により調整する入射角設定手段を備えてい
る。請求項３の装置によっても、請求項１の方法と同様
の作用効果がある。
【００１７】請求項４の入射角の設定装置では、反射Ｘ
線検出手段が高さ方向に移動して視野制限するスリット
を有する点と、基準角度算出手段に代えて、試料台に固
定され組成が既知の標準試料を、その表面の測定点が前
記適切な高さになるように高さ調整手段により位置さ
せ、Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、標準試料表面への
１次Ｘ線の入射角が変化するように、試料台の１次Ｘ線
に対する傾斜角を角度調整器により変化させ、視野制限
されていない反射Ｘ線検出手段により測定される反射Ｘ
線の強度と傾斜角との関係を求め、その関係と既知であ
る臨界角の値とに基づいて、スリットを高さ方向に移動
させて反射Ｘ線検出手段を１次Ｘ線に対し臨界角の２倍
以内の適切な角度に視野制限する基準角度設定手段を備
える点でのみ、請求項３の装置と異なる。請求項４の装
置によっても、請求項２の方法と同様の作用効果、すな
わち請求項１の方法と同様の作用効果がある。
線検出手段が高さ方向に移動して視野制限するスリット
を有する点と、基準角度算出手段に代えて、試料台に固
定され組成が既知の標準試料を、その表面の測定点が前
記適切な高さになるように高さ調整手段により位置さ
せ、Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、標準試料表面への
１次Ｘ線の入射角が変化するように、試料台の１次Ｘ線
に対する傾斜角を角度調整器により変化させ、視野制限
されていない反射Ｘ線検出手段により測定される反射Ｘ
線の強度と傾斜角との関係を求め、その関係と既知であ
る臨界角の値とに基づいて、スリットを高さ方向に移動
させて反射Ｘ線検出手段を１次Ｘ線に対し臨界角の２倍
以内の適切な角度に視野制限する基準角度設定手段を備
える点でのみ、請求項３の装置と異なる。請求項４の装
置によっても、請求項２の方法と同様の作用効果、すな
わち請求項１の方法と同様の作用効果がある。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第１実施形態であ
る全反射蛍光Ｘ線分析における入射角の設定方法を図面
にしたがって説明する。まず、この方法に用いる装置に
ついて説明する。図１に示すように、この装置は、ま
ず、試料１，９，１６が固定される試料台２と、試料
１，９，１６に１次Ｘ線３を照射するＸ線源１７と、１
次Ｘ線３が照射される試料１，９，１６の上方に設置さ
れ、試料１，９，１６から発生する２次Ｘ線５の強度を
測定するＳＳＤ等の２次Ｘ線検出手段６とを備えてい
る。ここで、試料台２、Ｘ線源１７、２次Ｘ線検出手段
６等は、この装置で入射角を設定した分析対象試料１に
ついて全反射蛍光Ｘ線分析を行う際にも用いられるもの
であり、すなわち、全反射蛍光Ｘ線装置と共用されるも
のである。Ｘ線源１７から発生される１次Ｘ線３は、針
状のものでも、紙面に垂直な方向に幅をもつ帯状のもの
でもよく、厳密には、紙面上の上下方向にもわずかな厚
みをもつ。このような１次Ｘ線３を発生するために、Ｘ
線源１７は、通常モノクロメータやスリットを含んでい
る。
る全反射蛍光Ｘ線分析における入射角の設定方法を図面
にしたがって説明する。まず、この方法に用いる装置に
ついて説明する。図１に示すように、この装置は、ま
ず、試料１，９，１６が固定される試料台２と、試料
１，９，１６に１次Ｘ線３を照射するＸ線源１７と、１
次Ｘ線３が照射される試料１，９，１６の上方に設置さ
れ、試料１，９，１６から発生する２次Ｘ線５の強度を
測定するＳＳＤ等の２次Ｘ線検出手段６とを備えてい
る。ここで、試料台２、Ｘ線源１７、２次Ｘ線検出手段
６等は、この装置で入射角を設定した分析対象試料１に
ついて全反射蛍光Ｘ線分析を行う際にも用いられるもの
であり、すなわち、全反射蛍光Ｘ線装置と共用されるも
のである。Ｘ線源１７から発生される１次Ｘ線３は、針
状のものでも、紙面に垂直な方向に幅をもつ帯状のもの
でもよく、厳密には、紙面上の上下方向にもわずかな厚
みをもつ。このような１次Ｘ線３を発生するために、Ｘ
線源１７は、通常モノクロメータやスリットを含んでい
る。
【００１９】また、この装置は、試料台２の１次Ｘ線３
に対する傾斜角を変化させる角度調整器１４と、試料台
２の高さを変化させる高さ調整器１３とを備えている。
さらに、２次Ｘ線検出手段６の側方に設置され、試料
１，９，１６と２次Ｘ線検出手段６との距離を測定する
変位センサ８と、試料台２を、２次Ｘ線検出手段６の軸
Ｚ直下と変位センサ８の軸Ｚs 直下との間で、１次Ｘ線
の進行方向７に沿って移動させる水平移動手段１５とを
備えている。ここで、変位センサ８は、例えば、レーザ
光を用いて距離測定を行う光学変位センサであり、１次
Ｘ線の進行方向７において２次Ｘ線検出器６よりも所定
距離ｘ2 （例えば１０ｃｍ）だけ前方に、２次Ｘ線検出
器６と軸平行に、かつ１次Ｘ線３およびその延長線７か
ら等距離に、設置されている。
に対する傾斜角を変化させる角度調整器１４と、試料台
２の高さを変化させる高さ調整器１３とを備えている。
さらに、２次Ｘ線検出手段６の側方に設置され、試料
１，９，１６と２次Ｘ線検出手段６との距離を測定する
変位センサ８と、試料台２を、２次Ｘ線検出手段６の軸
Ｚ直下と変位センサ８の軸Ｚs 直下との間で、１次Ｘ線
の進行方向７に沿って移動させる水平移動手段１５とを
備えている。ここで、変位センサ８は、例えば、レーザ
光を用いて距離測定を行う光学変位センサであり、１次
Ｘ線の進行方向７において２次Ｘ線検出器６よりも所定
距離ｘ2 （例えば１０ｃｍ）だけ前方に、２次Ｘ線検出
器６と軸平行に、かつ１次Ｘ線３およびその延長線７か
ら等距離に、設置されている。
【００２０】より具体的に試料台２から下の構成を説明
すると、まず、試料台２は、その下のＸＹステージ等の
平行移動手段１２の上部１２ａに固定されている。平行
移動手段上部１２ａは、中部１２ｂに対して紙面垂直方
向Ｙに移動自在に設置され、平行移動手段中部１２ｂ
は、その下の平行移動手段下部１２ｃに対し、この図１
の状態では紙面左右方向Ｘに移動自在に設置されてい
る。平行移動手段下部１２ｃは、その下の高さ調整器１
３の上部１３ａに固定されている。すなわち、平行移動
手段１２の調整により、試料表面１ａ，９ａ，１６ａの
任意の位置（所定点Ｓ，測定点Ｐ）に１次Ｘ線３を照射
させるよう試料台２を移動させることができる。
すると、まず、試料台２は、その下のＸＹステージ等の
平行移動手段１２の上部１２ａに固定されている。平行
移動手段上部１２ａは、中部１２ｂに対して紙面垂直方
向Ｙに移動自在に設置され、平行移動手段中部１２ｂ
は、その下の平行移動手段下部１２ｃに対し、この図１
の状態では紙面左右方向Ｘに移動自在に設置されてい
る。平行移動手段下部１２ｃは、その下の高さ調整器１
３の上部１３ａに固定されている。すなわち、平行移動
手段１２の調整により、試料表面１ａ，９ａ，１６ａの
任意の位置（所定点Ｓ，測定点Ｐ）に１次Ｘ線３を照射
させるよう試料台２を移動させることができる。
【００２１】高さ調整器１３の上部１３ａは、下部１３
ｂに対してこの図１の状態では軸Ｚ方向に移動自在に設
置され、下部１３ｂは、その下のスイベルステージ等の
角度調整器１４の上部１４ａに固定されている。すなわ
ち、高さ調整器１３により、試料台２の高さ、ひいて
は、軸Ｚ上での試料表面１ａ，９ａ，１６ａと２次Ｘ線
検出手段６との距離を変化させることができる。角度調
整器の上部１４ａは、下部１４ｂに対して試料表面１
ａ，９ａの測定点Ｐを中心とする円弧に沿って移動自在
に設置され、下部１４ｂは、その下の水平移動手段１５
の上部１５ａに固定されている。すなわち、角度調整器
１４により、図２に示すように、試料台２の１次Ｘ線３
に対する傾斜角ψ、ひいては、試料表面１ａ，９ａへの
１次Ｘ線３の入射角θを変化させることができる。ここ
で、試料台２の１次Ｘ線３に対する傾斜角ψとは、例え
ば、試料台の表面２ａと１次Ｘ線３とのなす角をいう。
なお、図１の角度調整器１４は、スイベルステージに限
らず、試料台２を傾斜させる機構であればよく、試料台
２を載せた長い板の端をジャッキで押し上げるような構
造であってもよい。
ｂに対してこの図１の状態では軸Ｚ方向に移動自在に設
置され、下部１３ｂは、その下のスイベルステージ等の
角度調整器１４の上部１４ａに固定されている。すなわ
ち、高さ調整器１３により、試料台２の高さ、ひいて
は、軸Ｚ上での試料表面１ａ，９ａ，１６ａと２次Ｘ線
検出手段６との距離を変化させることができる。角度調
整器の上部１４ａは、下部１４ｂに対して試料表面１
ａ，９ａの測定点Ｐを中心とする円弧に沿って移動自在
に設置され、下部１４ｂは、その下の水平移動手段１５
の上部１５ａに固定されている。すなわち、角度調整器
１４により、図２に示すように、試料台２の１次Ｘ線３
に対する傾斜角ψ、ひいては、試料表面１ａ，９ａへの
１次Ｘ線３の入射角θを変化させることができる。ここ
で、試料台２の１次Ｘ線３に対する傾斜角ψとは、例え
ば、試料台の表面２ａと１次Ｘ線３とのなす角をいう。
なお、図１の角度調整器１４は、スイベルステージに限
らず、試料台２を傾斜させる機構であればよく、試料台
２を載せた長い板の端をジャッキで押し上げるような構
造であってもよい。
【００２２】水平移動手段１５の上部１５ａは、下部１
５ｂに対して１次Ｘ線の進行方向７に沿って水平方向に
直線的に移動自在であり、下部１５ｂは、その下の床等
に固定されている。すなわち、水平移動手段１５によ
り、試料１，９，１６を、２次Ｘ線検出器６および変位
センサ８の下方で、試料表面１ａ，９ａ，１６ａの高さ
および入射角を維持しつつ、１次Ｘ線の進行方向７に沿
って移動させることができる。
５ｂに対して１次Ｘ線の進行方向７に沿って水平方向に
直線的に移動自在であり、下部１５ｂは、その下の床等
に固定されている。すなわち、水平移動手段１５によ
り、試料１，９，１６を、２次Ｘ線検出器６および変位
センサ８の下方で、試料表面１ａ，９ａ，１６ａの高さ
および入射角を維持しつつ、１次Ｘ線の進行方向７に沿
って移動させることができる。
【００２３】また、この装置は、図２に示すように、試
料１，９，１６よりも１次Ｘ線の進行方向７側に設置さ
れ、１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍以内の適切な角
度φに視野制限するスリット１８と、試料表面１ａ，９
ａで反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線４の強度を測定す
る反射Ｘ線検出器２０とで構成される、反射Ｘ線検出手
段２１とを備えている。
料１，９，１６よりも１次Ｘ線の進行方向７側に設置さ
れ、１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍以内の適切な角
度φに視野制限するスリット１８と、試料表面１ａ，９
ａで反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線４の強度を測定す
る反射Ｘ線検出器２０とで構成される、反射Ｘ線検出手
段２１とを備えている。
【００２４】ここで、１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２
倍以内の適切な角度φとは、例えば、試料１，９，１６
がシリコンウエハである場合には臨界角θc は０．１８
度と既知であり、また、反射Ｘ線４が１次Ｘ線の進行方
向７となす角は幾何学的に入射角θの２倍になるから、
１次Ｘ線３に対し０．３６度以内の角度であるが、既知
であるシリコンウエハについての所望の入射角θ1 ０．
０８度に対応させて、その２倍におよそ近い例えば０．
１０度〜０．１４度程度とする。１次Ｘ線３に対し、こ
のような角度φで反射Ｘ線検出手段２１を視野制限する
のは、反射Ｘ線検出手段２１に、全反射が起こっている
ときの反射Ｘ線４を入射させ、かつ、１次Ｘ線３が直接
入射しないようにするためである。なお、この適切な角
度φは、例えばこの場合でいえばおよそ０．１０度〜
０．１４度であればよく、本装置組立時には、厳密に設
定する必要も、厳密に何度であるかを知る必要もない。
装置組立後に、厳密に何度であるかを知る方法について
は後述する。
倍以内の適切な角度φとは、例えば、試料１，９，１６
がシリコンウエハである場合には臨界角θc は０．１８
度と既知であり、また、反射Ｘ線４が１次Ｘ線の進行方
向７となす角は幾何学的に入射角θの２倍になるから、
１次Ｘ線３に対し０．３６度以内の角度であるが、既知
であるシリコンウエハについての所望の入射角θ1 ０．
０８度に対応させて、その２倍におよそ近い例えば０．
１０度〜０．１４度程度とする。１次Ｘ線３に対し、こ
のような角度φで反射Ｘ線検出手段２１を視野制限する
のは、反射Ｘ線検出手段２１に、全反射が起こっている
ときの反射Ｘ線４を入射させ、かつ、１次Ｘ線３が直接
入射しないようにするためである。なお、この適切な角
度φは、例えばこの場合でいえばおよそ０．１０度〜
０．１４度であればよく、本装置組立時には、厳密に設
定する必要も、厳密に何度であるかを知る必要もない。
装置組立後に、厳密に何度であるかを知る方法について
は後述する。
【００２５】さらにまた、図１に示すように、この装置
の制御手段２６は、以下の高さ調整手段２３、基準角度
算出手段２４、入射角設定手段２５を備えている。高さ
調整手段２３は、試料台２に固定され表面１６ａの所定
点Ｓ（図３）に既知元素を付着させた基準試料１６にＸ
線源１７から１次Ｘ線３を照射させ、２次Ｘ線検出手段
６に前記既知元素から発生する蛍光Ｘ線５の強度を測定
させながら高さ調整器１３により試料台２を上下方向に
移動させ、測定される蛍光Ｘ線５の強度が最大になると
きの基準試料１６と２次Ｘ線検出手段６との距離を水平
移動手段１５と変位センサ８とを協働させて測定させ、
この距離を適切な高さとして記憶しておき、試料台２に
固定された他の試料の表面１ａ，９ａの測定点Ｐが、前
記適切な高さになるように、水平移動手段１５と変位セ
ンサ８と高さ調整器１３とを協働させて位置させる。
の制御手段２６は、以下の高さ調整手段２３、基準角度
算出手段２４、入射角設定手段２５を備えている。高さ
調整手段２３は、試料台２に固定され表面１６ａの所定
点Ｓ（図３）に既知元素を付着させた基準試料１６にＸ
線源１７から１次Ｘ線３を照射させ、２次Ｘ線検出手段
６に前記既知元素から発生する蛍光Ｘ線５の強度を測定
させながら高さ調整器１３により試料台２を上下方向に
移動させ、測定される蛍光Ｘ線５の強度が最大になると
きの基準試料１６と２次Ｘ線検出手段６との距離を水平
移動手段１５と変位センサ８とを協働させて測定させ、
この距離を適切な高さとして記憶しておき、試料台２に
固定された他の試料の表面１ａ，９ａの測定点Ｐが、前
記適切な高さになるように、水平移動手段１５と変位セ
ンサ８と高さ調整器１３とを協働させて位置させる。
【００２６】基準角度算出手段２４は、試料台２に固定
され組成が既知の標準試料９を、その表面９ａの測定点
Ｐ（図３）が前記適切な高さになるように高さ調整手段
２３により位置させ、Ｘ線源１７から１次Ｘ線３を照射
させ、図２に示すように、標準試料表面９ａへの１次Ｘ
線３の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ線
３に対する傾斜角ψを角度調整器１４により変化させ、
２次Ｘ線検出手段６により測定される２次Ｘ線５の強度
と傾斜角ψとの関係と、反射Ｘ線検出手段２１により測
定される反射Ｘ線４の強度と傾斜角ψとの関係とを求
め、両関係と既知である臨界角θc の値とから、測定さ
れる反射Ｘ線４の強度が最大になったときの入射角の値
θ2 を求め、記憶しておく。
され組成が既知の標準試料９を、その表面９ａの測定点
Ｐ（図３）が前記適切な高さになるように高さ調整手段
２３により位置させ、Ｘ線源１７から１次Ｘ線３を照射
させ、図２に示すように、標準試料表面９ａへの１次Ｘ
線３の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ線
３に対する傾斜角ψを角度調整器１４により変化させ、
２次Ｘ線検出手段６により測定される２次Ｘ線５の強度
と傾斜角ψとの関係と、反射Ｘ線検出手段２１により測
定される反射Ｘ線４の強度と傾斜角ψとの関係とを求
め、両関係と既知である臨界角θc の値とから、測定さ
れる反射Ｘ線４の強度が最大になったときの入射角の値
θ2 を求め、記憶しておく。
【００２７】図１の入射角設定手段２５は、試料台２に
固定された分析対象試料１を、その表面１ａの測定点Ｐ
（図３）が前記適切な高さになるように高さ調整手段２
３により位置させ、Ｘ線源１７から１次Ｘ線３を照射さ
せ、図２に示すように、分析対象試料表面１ａへの１次
Ｘ線３の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ
線３に対する傾斜角ψを角度調整器１４により変化さ
せ、試料台２の傾斜角ψを、反射Ｘ線検出手段２１によ
り測定される反射Ｘ線４の強度が最大になったときの角
度を基準にして、所望の入射角θ1 との差を補うように
角度調整器１４により調整する。
固定された分析対象試料１を、その表面１ａの測定点Ｐ
（図３）が前記適切な高さになるように高さ調整手段２
３により位置させ、Ｘ線源１７から１次Ｘ線３を照射さ
せ、図２に示すように、分析対象試料表面１ａへの１次
Ｘ線３の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ
線３に対する傾斜角ψを角度調整器１４により変化さ
せ、試料台２の傾斜角ψを、反射Ｘ線検出手段２１によ
り測定される反射Ｘ線４の強度が最大になったときの角
度を基準にして、所望の入射角θ1 との差を補うように
角度調整器１４により調整する。
【００２８】この装置を用いて、第１実施形態の方法で
は、第１段階として、高さ調整手段２３により、以下の
ような手順で、標準試料９や分析対象試料１を位置させ
るべき適切な高さを求め、記憶しておく。まず、図３に
示すように、表面の所定点Ｓに既知元素を付着させた基
準試料１６を試料台２に固定して、その所定点Ｓが２次
Ｘ線検出手段６の軸Ｚ直下に位置するように、平行移動
手段１２（図１）で調整する。入射角θは、所定点Ｓに
１次Ｘ線３が照射され得るような角度であればよい。そ
して、Ｘ線源１７（図１）から１次Ｘ線３を照射し、２
次Ｘ線検出手段６で前記既知元素から発生する蛍光Ｘ線
５の強度を測定しながら試料台２を上下方向に移動さ
せ、測定される蛍光Ｘ線５の強度が最大になるように、
試料台２の高さを調整する（図３左側に実線で示す状態
となる）。このとき、１次Ｘ線３は、２次Ｘ線検出手段
６の軸Ｚ直下で、所定点Ｓに入射している。
は、第１段階として、高さ調整手段２３により、以下の
ような手順で、標準試料９や分析対象試料１を位置させ
るべき適切な高さを求め、記憶しておく。まず、図３に
示すように、表面の所定点Ｓに既知元素を付着させた基
準試料１６を試料台２に固定して、その所定点Ｓが２次
Ｘ線検出手段６の軸Ｚ直下に位置するように、平行移動
手段１２（図１）で調整する。入射角θは、所定点Ｓに
１次Ｘ線３が照射され得るような角度であればよい。そ
して、Ｘ線源１７（図１）から１次Ｘ線３を照射し、２
次Ｘ線検出手段６で前記既知元素から発生する蛍光Ｘ線
５の強度を測定しながら試料台２を上下方向に移動さ
せ、測定される蛍光Ｘ線５の強度が最大になるように、
試料台２の高さを調整する（図３左側に実線で示す状態
となる）。このとき、１次Ｘ線３は、２次Ｘ線検出手段
６の軸Ｚ直下で、所定点Ｓに入射している。
【００２９】そこで、その高さを維持したまま、水平移
動手段１５（図１）により、基準試料１６を、所定点Ｓ
が変位センサ８の軸Ｚs 直下にくるように、１次Ｘ線の
進行方向７に沿って距離ｘ2 だけ右へ移動させる（図３
右側に２点鎖線で示す状態となる）。そして、変位セン
サ８からレーザ光１０を照射し、所定点Ｓで反射したレ
ーザ光１１を測定して、軸Ｚs 上の所定点Ｓと変位セン
サ８との距離、すなわち、軸Ｚ上の所定点Ｓと２次Ｘ線
検出手段６との距離を求め、この距離を標準試料９や分
析対象試料１を位置させるべき適切な高さとして記憶し
ておく。
動手段１５（図１）により、基準試料１６を、所定点Ｓ
が変位センサ８の軸Ｚs 直下にくるように、１次Ｘ線の
進行方向７に沿って距離ｘ2 だけ右へ移動させる（図３
右側に２点鎖線で示す状態となる）。そして、変位セン
サ８からレーザ光１０を照射し、所定点Ｓで反射したレ
ーザ光１１を測定して、軸Ｚs 上の所定点Ｓと変位セン
サ８との距離、すなわち、軸Ｚ上の所定点Ｓと２次Ｘ線
検出手段６との距離を求め、この距離を標準試料９や分
析対象試料１を位置させるべき適切な高さとして記憶し
ておく。
【００３０】次に、第２段階として、図１の基準角度算
出手段２４により、以下のような手順で、反射Ｘ線検出
手段２１を視野制限した１次Ｘ線３に対する前記適切な
角度φに対応する入射角θ2 の値（適切な角度φの半分
の値である）を求め、記憶しておく。まず、図３に示す
ように、組成が既知の標準試料９を試料台２に固定し、
その表面９ａの測定点Ｐが変位センサ８の軸Ｚs 直下に
位置するように、平行移動手段１２で調整した後、高さ
調整手段２３（図１）により、変位センサ８で測定点Ｐ
と変位センサ８との距離を測定しながら試料台２を上下
方向に移動させ、その距離が前記記憶した適切な高さに
なるように、試料台２の高さを調整する（図３右側に２
点鎖線で示す状態となる）。このとき、測定点Ｐは、変
位センサ８の軸Ｚs 直下で、１次Ｘ線３が入射する高さ
にある。そこで、その高さを維持したまま、水平移動手
段１５（図１）により、標準試料９を、測定点Ｐが２次
Ｘ線検出器６の軸Ｚ直下にくるように、１次Ｘ線の進行
方向７に沿って距離ｘ2 だけ左へ移動させる（図３左側
に実線で示す状態となる）。このとき、測定点Ｐは、２
次Ｘ線検出器６の軸Ｚ直下で、１次Ｘ線３が入射する高
さにある。
出手段２４により、以下のような手順で、反射Ｘ線検出
手段２１を視野制限した１次Ｘ線３に対する前記適切な
角度φに対応する入射角θ2 の値（適切な角度φの半分
の値である）を求め、記憶しておく。まず、図３に示す
ように、組成が既知の標準試料９を試料台２に固定し、
その表面９ａの測定点Ｐが変位センサ８の軸Ｚs 直下に
位置するように、平行移動手段１２で調整した後、高さ
調整手段２３（図１）により、変位センサ８で測定点Ｐ
と変位センサ８との距離を測定しながら試料台２を上下
方向に移動させ、その距離が前記記憶した適切な高さに
なるように、試料台２の高さを調整する（図３右側に２
点鎖線で示す状態となる）。このとき、測定点Ｐは、変
位センサ８の軸Ｚs 直下で、１次Ｘ線３が入射する高さ
にある。そこで、その高さを維持したまま、水平移動手
段１５（図１）により、標準試料９を、測定点Ｐが２次
Ｘ線検出器６の軸Ｚ直下にくるように、１次Ｘ線の進行
方向７に沿って距離ｘ2 だけ左へ移動させる（図３左側
に実線で示す状態となる）。このとき、測定点Ｐは、２
次Ｘ線検出器６の軸Ｚ直下で、１次Ｘ線３が入射する高
さにある。
【００３１】そこで、図２に示すように、標準試料９に
１次Ｘ線３を照射し、標準試料表面９ａへの１次Ｘ線３
の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ線３に
対する傾斜角ψを変化させることにより、２次Ｘ線検出
手段６により測定される２次Ｘ線５の強度と傾斜角ψと
の第１の関係と、反射Ｘ線検出手段２１により測定され
る反射Ｘ線４の強度と傾斜角ψとの第２の関係とを求め
る。
１次Ｘ線３を照射し、標準試料表面９ａへの１次Ｘ線３
の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ線３に
対する傾斜角ψを変化させることにより、２次Ｘ線検出
手段６により測定される２次Ｘ線５の強度と傾斜角ψと
の第１の関係と、反射Ｘ線検出手段２１により測定され
る反射Ｘ線４の強度と傾斜角ψとの第２の関係とを求め
る。
【００３２】第１の関係において、測定される２次Ｘ線
５の強度が傾斜角ψの増大につれて急激に増大するの
は、入射角θが臨界角θc のときであり、臨界角θc の
値は、例えば標準試料９がシリコンのブランクウエハで
ある場合には０．１８度と既知であるから、入射角（臨
界角）θc ，０．１８度に相当する傾斜角ψc の値が分
かる。理解の容易のため、今仮にこの傾斜角ψc の値が
０．２８度であったとする。すなわち、同一の設定状態
に対し傾斜角ψの値の方が、入射角θの値よりも０．１
度だけ大きくなるとする。このずれは、試料の表面１
ａ，９ａが試料台２の表面２ａに完全に平行でかつ均一
であれば、なくなるが、実際には試料表面１ａ，９ａの
微妙な凹凸等があるので、試料１，９によっても、また
測定点Ｐによっても、さらに１次Ｘ線３の照射方向によ
っても、異なってくる。各測定点Ｐにおいて微視的な入
射角θが同一であっても、対応する試料台２の傾斜角ψ
が、各測定点Ｐでの微妙な凹凸等によって、異なってく
るからである。
５の強度が傾斜角ψの増大につれて急激に増大するの
は、入射角θが臨界角θc のときであり、臨界角θc の
値は、例えば標準試料９がシリコンのブランクウエハで
ある場合には０．１８度と既知であるから、入射角（臨
界角）θc ，０．１８度に相当する傾斜角ψc の値が分
かる。理解の容易のため、今仮にこの傾斜角ψc の値が
０．２８度であったとする。すなわち、同一の設定状態
に対し傾斜角ψの値の方が、入射角θの値よりも０．１
度だけ大きくなるとする。このずれは、試料の表面１
ａ，９ａが試料台２の表面２ａに完全に平行でかつ均一
であれば、なくなるが、実際には試料表面１ａ，９ａの
微妙な凹凸等があるので、試料１，９によっても、また
測定点Ｐによっても、さらに１次Ｘ線３の照射方向によ
っても、異なってくる。各測定点Ｐにおいて微視的な入
射角θが同一であっても、対応する試料台２の傾斜角ψ
が、各測定点Ｐでの微妙な凹凸等によって、異なってく
るからである。
【００３３】次に、第２の関係において、測定される反
射Ｘ線４の強度が最大になるのは、入射角θが適切な角
度φの半分の値θ2 になって、反射Ｘ線４が、１次Ｘ線
３に対し適切な角度φで視野制限するスリット１８を通
過するとき（図２に示す状態）である。そのときの傾斜
角ψ2 の値が例えば０．１５度であったとすると、前記
の０．１度のずれを差し引いて、相当する入射角θ2 の
値が０．０５度と求められるので、この値０．０５度を
記憶しておく。この値０．０５度が、測定される反射Ｘ
線４の強度が最大になったときの入射角θ2 の値であ
り、反射Ｘ線検出手段２１を視野制限した１次Ｘ線３に
対する前記適切な角度φに対応する入射角θ2 の値であ
る。
射Ｘ線４の強度が最大になるのは、入射角θが適切な角
度φの半分の値θ2 になって、反射Ｘ線４が、１次Ｘ線
３に対し適切な角度φで視野制限するスリット１８を通
過するとき（図２に示す状態）である。そのときの傾斜
角ψ2 の値が例えば０．１５度であったとすると、前記
の０．１度のずれを差し引いて、相当する入射角θ2 の
値が０．０５度と求められるので、この値０．０５度を
記憶しておく。この値０．０５度が、測定される反射Ｘ
線４の強度が最大になったときの入射角θ2 の値であ
り、反射Ｘ線検出手段２１を視野制限した１次Ｘ線３に
対する前記適切な角度φに対応する入射角θ2 の値であ
る。
【００３４】最後に、第３段階として、図１の入射角設
定手段２５により、以下のような手順で、分析対象試料
１への入射角θを所望の入射角θ1 に設定する。まず、
図３に示すように、分析対象試料１を試料台２に固定
し、第２段階での標準試料９と同様に、表面１ａの測定
点Ｐが前記適切な高さになるように、高さ調整手段２３
により、位置させる（図３左側に実線で示す状態とな
る）。このとき、測定点Ｐは、２次Ｘ線検出器６の軸Ｚ
直下で、１次Ｘ線３が入射する高さにある。そこで、図
２に示すように、分析対象試料１に１次Ｘ線３を照射
し、分析対象試料表面１ａへの１次Ｘ線３の入射角θが
変化するように、試料台２の１次Ｘ線３に対する傾斜角
ψを変化させながら、反射Ｘ線検出手段２１で反射Ｘ線
４の強度を測定する。
定手段２５により、以下のような手順で、分析対象試料
１への入射角θを所望の入射角θ1 に設定する。まず、
図３に示すように、分析対象試料１を試料台２に固定
し、第２段階での標準試料９と同様に、表面１ａの測定
点Ｐが前記適切な高さになるように、高さ調整手段２３
により、位置させる（図３左側に実線で示す状態とな
る）。このとき、測定点Ｐは、２次Ｘ線検出器６の軸Ｚ
直下で、１次Ｘ線３が入射する高さにある。そこで、図
２に示すように、分析対象試料１に１次Ｘ線３を照射
し、分析対象試料表面１ａへの１次Ｘ線３の入射角θが
変化するように、試料台２の１次Ｘ線３に対する傾斜角
ψを変化させながら、反射Ｘ線検出手段２１で反射Ｘ線
４の強度を測定する。
【００３５】ここで、測定される反射Ｘ線４の強度が最
大になるのは、第２段階での標準試料９の場合と同様
に、入射角θが適切な角度φの半分の値θ2 になって、
反射Ｘ線４が、１次Ｘ線３に対し適切な角度φで視野制
限するスリット１８を通過するときであり、入射角θ2
は前記第２段階で記憶した値例えば０．０５度になって
いる（図２に示す状態）。ただし、そのときの試料台２
の傾斜角ψ2 の値は、前述したように試料１や測定点Ｐ
によって傾斜角ψと入射角θとの値のずれが異なってく
るので、標準試料での値例えば前述の０．１５度とは異
なり、例えば０．２５度となり得る。そこで、この反射
Ｘ線４の強度が最大になったときの傾斜角ψ2 （０．２
５度）を基準に、前記記憶した入射角θ2 の値０．０５
度と所望の入射角θ1 の値０．０８度との差を補うよう
に、すなわち、０．０３度だけ大きい０．２８度になる
ように、試料台２の傾斜角ψを調整する。これにより、
分析対象試料１への１次Ｘ線３の入射角θが、所望の入
射角θ1 （０．０８度）に設定される。
大になるのは、第２段階での標準試料９の場合と同様
に、入射角θが適切な角度φの半分の値θ2 になって、
反射Ｘ線４が、１次Ｘ線３に対し適切な角度φで視野制
限するスリット１８を通過するときであり、入射角θ2
は前記第２段階で記憶した値例えば０．０５度になって
いる（図２に示す状態）。ただし、そのときの試料台２
の傾斜角ψ2 の値は、前述したように試料１や測定点Ｐ
によって傾斜角ψと入射角θとの値のずれが異なってく
るので、標準試料での値例えば前述の０．１５度とは異
なり、例えば０．２５度となり得る。そこで、この反射
Ｘ線４の強度が最大になったときの傾斜角ψ2 （０．２
５度）を基準に、前記記憶した入射角θ2 の値０．０５
度と所望の入射角θ1 の値０．０８度との差を補うよう
に、すなわち、０．０３度だけ大きい０．２８度になる
ように、試料台２の傾斜角ψを調整する。これにより、
分析対象試料１への１次Ｘ線３の入射角θが、所望の入
射角θ1 （０．０８度）に設定される。
【００３６】第１実施形態の方法によれば、１次Ｘ線３
に対し臨界角θc の２倍以内の適切な角度φに視野制限
され、試料表面１ａ，９ａで反射した１次Ｘ線である反
射Ｘ線４の強度を測定する反射Ｘ線検出手段２１を用い
るので、図７の半割り法のように１次Ｘ線３の進行方向
そのものに設置し特に視野制限されないカウンタ３０に
直接入射する１次Ｘ線３ａを測定する結果反射Ｘ線４の
入射が妨害となるというようなことがなく、正確な入射
角θの設定ができる。また、半割り法のように入射角が
０度となるような状態を基準にするのではなく、入射角
θが、臨界角θ c 内で、所望の入射角θ1 近傍の適切な
角度θ2 である状態を基準にするので、試料１全体に反
りがあっても、試料１の測定点Ｐにおいて正確に所望の
入射角θ 1 に設定できる。さらに、かかる状態を基準に
するので、試料表面１ａに微妙な凹凸があっても、測定
点Ｐごとに、かつ、１次Ｘ線３の入射方向ごとに、正確
に所望の入射角θ1 に設定できる。
に対し臨界角θc の２倍以内の適切な角度φに視野制限
され、試料表面１ａ，９ａで反射した１次Ｘ線である反
射Ｘ線４の強度を測定する反射Ｘ線検出手段２１を用い
るので、図７の半割り法のように１次Ｘ線３の進行方向
そのものに設置し特に視野制限されないカウンタ３０に
直接入射する１次Ｘ線３ａを測定する結果反射Ｘ線４の
入射が妨害となるというようなことがなく、正確な入射
角θの設定ができる。また、半割り法のように入射角が
０度となるような状態を基準にするのではなく、入射角
θが、臨界角θ c 内で、所望の入射角θ1 近傍の適切な
角度θ2 である状態を基準にするので、試料１全体に反
りがあっても、試料１の測定点Ｐにおいて正確に所望の
入射角θ 1 に設定できる。さらに、かかる状態を基準に
するので、試料表面１ａに微妙な凹凸があっても、測定
点Ｐごとに、かつ、１次Ｘ線３の入射方向ごとに、正確
に所望の入射角θ1 に設定できる。
【００３７】次に、本発明の第２実施形態の入射角の設
定方法を図面にしたがって説明する。まず、この方法に
用いる装置について説明する。図４に示すように、この
装置では、反射Ｘ線検出手段２２が高さ方向に移動して
視野制限するスリット１９を有する点と、基準角度算出
手段２４に代えて、基準角度設定手段２７を備える点で
のみ、第１実施形態の方法に用いる装置と異なる。スリ
ット１９は、スリット調整器２９により高さ方向に移動
される。なお、スリット１９は、反射Ｘ線検出手段２２
を１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍以内の適切な角度
φに視野制限するためのものであるので、スリット１９
を通過すべき反射Ｘ線４の方向に厳密に垂直な方向に移
動されるものであってもよいが、適切な角度φが例えば
０．１０度程度の微小な角度であるので、この場合も含
めて、高さ方向に移動されると考える。
定方法を図面にしたがって説明する。まず、この方法に
用いる装置について説明する。図４に示すように、この
装置では、反射Ｘ線検出手段２２が高さ方向に移動して
視野制限するスリット１９を有する点と、基準角度算出
手段２４に代えて、基準角度設定手段２７を備える点で
のみ、第１実施形態の方法に用いる装置と異なる。スリ
ット１９は、スリット調整器２９により高さ方向に移動
される。なお、スリット１９は、反射Ｘ線検出手段２２
を１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍以内の適切な角度
φに視野制限するためのものであるので、スリット１９
を通過すべき反射Ｘ線４の方向に厳密に垂直な方向に移
動されるものであってもよいが、適切な角度φが例えば
０．１０度程度の微小な角度であるので、この場合も含
めて、高さ方向に移動されると考える。
【００３８】基準角度設定手段２７は、試料台２に固定
され組成が既知の標準試料９を、その表面９ａの測定点
Ｐ（図３）が前記適切な高さになるように高さ調整手段
２３により位置させ、Ｘ線源１７から１次Ｘ線３を照射
させ、図５に示すように、標準試料表面９ａへの１次Ｘ
線３の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ線
３に対する傾斜角ψを角度調整器１４により変化させ、
視野制限されていない反射Ｘ線検出手段２２により測定
される反射Ｘ線４の強度と傾斜角ψとの関係を求め、そ
の関係と既知である臨界角θc の値とに基づいて、スリ
ット調整器２９によりスリット１９を高さ方向に移動さ
せて反射Ｘ線検出手段２２を１次Ｘ線３に対し臨界角θ
c の２倍以内の適切な角度φに視野制限する。
され組成が既知の標準試料９を、その表面９ａの測定点
Ｐ（図３）が前記適切な高さになるように高さ調整手段
２３により位置させ、Ｘ線源１７から１次Ｘ線３を照射
させ、図５に示すように、標準試料表面９ａへの１次Ｘ
線３の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ線
３に対する傾斜角ψを角度調整器１４により変化させ、
視野制限されていない反射Ｘ線検出手段２２により測定
される反射Ｘ線４の強度と傾斜角ψとの関係を求め、そ
の関係と既知である臨界角θc の値とに基づいて、スリ
ット調整器２９によりスリット１９を高さ方向に移動さ
せて反射Ｘ線検出手段２２を１次Ｘ線３に対し臨界角θ
c の２倍以内の適切な角度φに視野制限する。
【００３９】この装置を用いた第１実施形態の方法で
は、用いる反射Ｘ線検出手段２２が、当初特に視野制限
されておらず、第２段階で、標準試料９を用いて、反射
Ｘ線検出手段２２を１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍
以内の適切な角度φに視野制限する点でのみ、第１実施
形態の方法と異なる。すなわち、まず、第１段階では、
第１実施形態の方法と全く同様に、高さ調整手段２３に
より、標準試料９や分析対象試料１を位置させるべき適
切な高さを求め、記憶しておく。
は、用いる反射Ｘ線検出手段２２が、当初特に視野制限
されておらず、第２段階で、標準試料９を用いて、反射
Ｘ線検出手段２２を１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍
以内の適切な角度φに視野制限する点でのみ、第１実施
形態の方法と異なる。すなわち、まず、第１段階では、
第１実施形態の方法と全く同様に、高さ調整手段２３に
より、標準試料９や分析対象試料１を位置させるべき適
切な高さを求め、記憶しておく。
【００４０】次に、第２段階として、図４の基準角度設
定手段２７により、以下のような手順で、反射Ｘ線検出
手段２２を１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍以内の適
切な角度φに視野制限する。まず、第１実施形態の方法
と全く同様に、図３に示すように、組成が既知の標準試
料９を試料台２に固定し、高さ調整手段２３により、そ
の表面９ａの測定点Ｐが、２次Ｘ線検出器６の軸Ｚ直下
で、１次Ｘ線３が入射する前記適切な高さになるように
位置させる。そこで、図５に示すように、標準試料９に
１次Ｘ線３を照射し、標準試料表面３ａへの１次Ｘ線３
の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ線３に
対する傾斜角ψを変化させることにより、第２実施形態
の方法では、視野制限されていない反射Ｘ線検出手段２
２により測定される反射Ｘ線４の強度と傾斜角ψとの第
３の関係を求める。
定手段２７により、以下のような手順で、反射Ｘ線検出
手段２２を１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍以内の適
切な角度φに視野制限する。まず、第１実施形態の方法
と全く同様に、図３に示すように、組成が既知の標準試
料９を試料台２に固定し、高さ調整手段２３により、そ
の表面９ａの測定点Ｐが、２次Ｘ線検出器６の軸Ｚ直下
で、１次Ｘ線３が入射する前記適切な高さになるように
位置させる。そこで、図５に示すように、標準試料９に
１次Ｘ線３を照射し、標準試料表面３ａへの１次Ｘ線３
の入射角θが変化するように、試料台２の１次Ｘ線３に
対する傾斜角ψを変化させることにより、第２実施形態
の方法では、視野制限されていない反射Ｘ線検出手段２
２により測定される反射Ｘ線４の強度と傾斜角ψとの第
３の関係を求める。
【００４１】第３の関係において、測定される反射Ｘ線
４の強度が傾斜角ψの増大につれて急激に減少するの
は、入射角θが臨界角θc のときであり、臨界角θc の
値は、例えば標準試料９がシリコンのブランクウエハで
ある場合には０．１８度と既知であるから、入射角（臨
界角）θc ，０．１８度に相当する傾斜角ψc の値が分
かる。理解の容易のため、今仮にこの傾斜角ψc の値が
０．２８度であったとする。すなわち、前述した理由に
より、同一の設定状態に対し傾斜角ψの値の方が、入射
角θの値よりも０．１度だけ大きくなるとする。次に、
入射角θが、臨界角θc 以内の角度θ2 例えば０．０５
度になるように、傾斜角ψを０．１５度に調整する。こ
のとき、反射Ｘ線４は、１次Ｘ線３に対し適切な角度
φ，０．１０度を中心に、視野制限されていない反射Ｘ
線検出手段２２に入射している。そこで、反射Ｘ線検出
手段２２で反射Ｘ線４の強度を測定しながら、スリット
調整器２９によりスリット１９を高さ方向に移動させ、
強度が最大になった位置に設定する（図２に示した第１
実施形態の状態と同じ状態になる）。
４の強度が傾斜角ψの増大につれて急激に減少するの
は、入射角θが臨界角θc のときであり、臨界角θc の
値は、例えば標準試料９がシリコンのブランクウエハで
ある場合には０．１８度と既知であるから、入射角（臨
界角）θc ，０．１８度に相当する傾斜角ψc の値が分
かる。理解の容易のため、今仮にこの傾斜角ψc の値が
０．２８度であったとする。すなわち、前述した理由に
より、同一の設定状態に対し傾斜角ψの値の方が、入射
角θの値よりも０．１度だけ大きくなるとする。次に、
入射角θが、臨界角θc 以内の角度θ2 例えば０．０５
度になるように、傾斜角ψを０．１５度に調整する。こ
のとき、反射Ｘ線４は、１次Ｘ線３に対し適切な角度
φ，０．１０度を中心に、視野制限されていない反射Ｘ
線検出手段２２に入射している。そこで、反射Ｘ線検出
手段２２で反射Ｘ線４の強度を測定しながら、スリット
調整器２９によりスリット１９を高さ方向に移動させ、
強度が最大になった位置に設定する（図２に示した第１
実施形態の状態と同じ状態になる）。
【００４２】このとき、反射Ｘ線４は、１次Ｘ線３に対
し適切な角度φ（０．１０度）で視野制限するスリット
１９を通過している。すなわち、反射Ｘ線検出手段２２
が１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍以内の適切な角度
φ（０．１０度）に視野制限されたので、以降、第３段
階では、第１実施形態の方法と全く同様に、分析対象試
料１への１次Ｘ線３の入射角θが、所望の入射角θ
1 （０．０８度）に設定される。第２実施形態の方法に
よっても、第１実施形態の方法と同様の作用効果があ
る。
し適切な角度φ（０．１０度）で視野制限するスリット
１９を通過している。すなわち、反射Ｘ線検出手段２２
が１次Ｘ線３に対し臨界角θc の２倍以内の適切な角度
φ（０．１０度）に視野制限されたので、以降、第３段
階では、第１実施形態の方法と全く同様に、分析対象試
料１への１次Ｘ線３の入射角θが、所望の入射角θ
1 （０．０８度）に設定される。第２実施形態の方法に
よっても、第１実施形態の方法と同様の作用効果があ
る。
【００４３】なお、第１、第２実施形態において、試料
１，９，１６が単結晶の場合には、散乱Ｘ線５の強度は
１次Ｘ線３の試料１，９，１６への入射方向（方位）に
よって変わるので、その影響を避けるため、用いる装置
において、例えば試料台２と平行移動手段１２との間に
回転ステージ等の回転手段を設けて、試料１，９，１６
の方位を一定にすることができる。
１，９，１６が単結晶の場合には、散乱Ｘ線５の強度は
１次Ｘ線３の試料１，９，１６への入射方向（方位）に
よって変わるので、その影響を避けるため、用いる装置
において、例えば試料台２と平行移動手段１２との間に
回転ステージ等の回転手段を設けて、試料１，９，１６
の方位を一定にすることができる。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
１次Ｘ線に対し臨界角の２倍以内の適切な角度に視野制
限され、試料表面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の
強度を測定する反射Ｘ線検出手段を用いるので、半割り
法のように１次Ｘ線の進行方向そのものに設置し特に視
野制限されないカウンタに直接入射する１次Ｘ線を測定
する結果反射Ｘ線の入射が妨害となるというようなこと
がなく、正確な入射角の設定ができる。また、半割り法
のように入射角が０度となるような状態を基準にするの
ではなく、入射角が、臨界角内で、所望の入射角近傍の
適切な角度である状態を基準にするので、試料全体に反
りがあっても、試料の測定点での正確な入射角の設定が
できる。さらに、かかる状態を基準にするので、試料表
面に微妙な凹凸があっても、測定点ごとに、かつ、１次
Ｘ線の入射方向ごとに、正確な入射角の設定ができる。
１次Ｘ線に対し臨界角の２倍以内の適切な角度に視野制
限され、試料表面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の
強度を測定する反射Ｘ線検出手段を用いるので、半割り
法のように１次Ｘ線の進行方向そのものに設置し特に視
野制限されないカウンタに直接入射する１次Ｘ線を測定
する結果反射Ｘ線の入射が妨害となるというようなこと
がなく、正確な入射角の設定ができる。また、半割り法
のように入射角が０度となるような状態を基準にするの
ではなく、入射角が、臨界角内で、所望の入射角近傍の
適切な角度である状態を基準にするので、試料全体に反
りがあっても、試料の測定点での正確な入射角の設定が
できる。さらに、かかる状態を基準にするので、試料表
面に微妙な凹凸があっても、測定点ごとに、かつ、１次
Ｘ線の入射方向ごとに、正確な入射角の設定ができる。
【図１】本発明の第１実施形態である全反射蛍光Ｘ線分
析における入射角設定方法に用いる装置を示す正面図で
ある。
析における入射角設定方法に用いる装置を示す正面図で
ある。
【図２】同装置の要部を示す正面図である。
【図３】同装置における高さ調整の動作を示す正面図で
ある。
ある。
【図４】本発明の第２実施形態である全反射蛍光Ｘ線分
析における入射角設定方法に用いる装置を示す正面図で
ある。
析における入射角設定方法に用いる装置を示す正面図で
ある。
【図５】同装置の要部を示す正面図である。
【図６】全反射蛍光Ｘ線分析方法を示す図である。
【図７】従来の半割り法と呼ばれる入射角設定方法を示
す図である。
す図である。
【図８】半割り法で反った試料について入射角を設定す
る場合を示す図である。
る場合を示す図である。
１…分析対象試料、１ａ…分析対象試料の表面、２…試
料台、２ａ…試料台の表面、３…１次Ｘ線、４…反射Ｘ
線、５…２次Ｘ線、６…２次Ｘ線検出手段、７…１次Ｘ
線の進行方向、８…変位センサ、９…標準試料、９ａ…
標準試料の表面、１３…高さ調整器、１４…角度調整
器、１５…水平移動手段、１６…基準試料、１６ａ…基
準試料の表面、１７…Ｘ線源、１８，１９…スリット、
２１，２２…反射Ｘ線検出手段、２３…高さ調整手段、
２４…基準角度算出手段、２５…入射角設定手段、２７
…基準角度設定手段、θ…試料への１次Ｘ線の入射角、
ψ…試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角、φ…１次Ｘ線に
対し臨界角の２倍以内の適切な角度、Ｐ…測定点、Ｓ…
所定点、Ｚ…２次Ｘ線検出手段の軸、Ｚs …変位センサ
の軸。
料台、２ａ…試料台の表面、３…１次Ｘ線、４…反射Ｘ
線、５…２次Ｘ線、６…２次Ｘ線検出手段、７…１次Ｘ
線の進行方向、８…変位センサ、９…標準試料、９ａ…
標準試料の表面、１３…高さ調整器、１４…角度調整
器、１５…水平移動手段、１６…基準試料、１６ａ…基
準試料の表面、１７…Ｘ線源、１８，１９…スリット、
２１，２２…反射Ｘ線検出手段、２３…高さ調整手段、
２４…基準角度算出手段、２５…入射角設定手段、２７
…基準角度設定手段、θ…試料への１次Ｘ線の入射角、
ψ…試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角、φ…１次Ｘ線に
対し臨界角の２倍以内の適切な角度、Ｐ…測定点、Ｓ…
所定点、Ｚ…２次Ｘ線検出手段の軸、Ｚs …変位センサ
の軸。
Claims (4)
- 【請求項１】 試料の上方に設置され、試料から発生す
る２次Ｘ線の強度を測定する２次Ｘ線検出手段と、 ２次Ｘ線検出手段の側方に設置され、試料と２次Ｘ線検
出手段との距離を測定する変位センサと、 試料よりも１次Ｘ線の進行方向側に設置され、１次Ｘ線
に対し臨界角の２倍以内の適切な角度に視野制限され、
試料表面で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の強度を測
定する反射Ｘ線検出手段とを用いる全反射蛍光Ｘ線分析
における試料への１次Ｘ線の入射角の設定方法であっ
て、 表面の所定点に既知元素を付着させた基準試料を試料台
に固定して１次Ｘ線を照射し、２次Ｘ線検出手段で前記
既知元素から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定しながら試
料台を上下方向に移動させ、測定される蛍光Ｘ線の強度
が最大になるときの基準試料と２次Ｘ線検出手段との距
離を変位センサにより測定し、この距離を適切な高さと
して記憶しておき、 組成が既知の標準試料を試料台に固定し、その表面の測
定点が前記適切な高さになるように変位センサを用いて
位置させ、 標準試料に１次Ｘ線を照射し、標準試料表面への１次Ｘ
線の入射角が変化するように、試料台の１次Ｘ線に対す
る傾斜角を変化させることにより、２次Ｘ線検出手段に
より測定される２次Ｘ線の強度と傾斜角との関係と、反
射Ｘ線検出手段により測定される反射Ｘ線の強度と傾斜
角との関係とを求め、両関係と既知である臨界角の値と
から、測定される反射Ｘ線の強度が最大になったときの
入射角の値を求め、記憶しておき、 分析対象試料を試料台に固定し、その表面の測定点が前
記適切な高さになるように変位センサを用いて位置さ
せ、 分析対象試料に１次Ｘ線を照射し、分析対象試料表面へ
の１次Ｘ線の入射角が変化するように、試料台の１次Ｘ
線に対する傾斜角を変化させ、試料台の傾斜角を、反射
Ｘ線検出手段により測定される反射Ｘ線の強度が最大に
なったときの角度を基準に、所望の入射角との差を補う
ように調整することにより、分析対象試料への１次Ｘ線
の入射角を設定する方法。 - 【請求項２】 試料の上方に設置され、試料から発生す
る２次Ｘ線の強度を測定する２次Ｘ線検出手段と、 ２次Ｘ線検出手段の側方に設置され、試料と２次Ｘ線検
出手段との距離を測定する変位センサと、 試料よりも１次Ｘ線の進行方向側に設置され、試料表面
で反射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の強度を測定する反
射Ｘ線検出手段とを用いる全反射蛍光Ｘ線分析における
試料への１次Ｘ線の入射角の設定方法であって、 表面の所定点に既知元素を付着させた基準試料を試料台
に固定して１次Ｘ線を照射し、２次Ｘ線検出手段で前記
既知元素から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定しながら試
料台を上下方向に移動させ、測定される蛍光Ｘ線の強度
が最大になるときの基準試料と２次Ｘ線検出手段との距
離を変位センサにより測定し、この距離を適切な高さと
して記憶しておき、 組成が既知の標準試料を試料台に固定し、その表面の測
定点が前記適切な高さになるように変位センサを用いて
位置させ、 標準試料に１次Ｘ線を照射し、標準試料表面への１次Ｘ
線の入射角が変化するように、試料台の１次Ｘ線に対す
る傾斜角を変化させることにより、反射Ｘ線検出手段に
より測定される反射Ｘ線の強度と傾斜角との関係を求
め、その関係と既知である臨界角の値とに基づいて、反
射Ｘ線検出手段を１次Ｘ線に対し臨界角の２倍以内の適
切な角度に視野制限し、 分析対象試料を試料台に固定し、その表面の測定点が前
記適切な高さになるように変位センサを用いて位置さ
せ、 分析対象試料に１次Ｘ線を照射し、分析対象試料表面へ
の１次Ｘ線の入射角が変化するように、試料台の１次Ｘ
線に対する傾斜角を変化させ、試料台の傾斜角を、反射
Ｘ線検出手段により測定される反射Ｘ線の強度が最大に
なったときの角度を基準に、所望の入射角との差を補う
ように調整することにより、分析対象試料への１次Ｘ線
の入射角を設定する方法。 - 【請求項３】 試料が固定される試料台と、 分析にも用いられ、試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源
と、 分析にも用いられ、１次Ｘ線が照射される試料の上方に
設置され、試料から発生する２次Ｘ線の強度を測定する
２次Ｘ線検出手段と、 試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を変化させる角度調整
器と、 試料台の高さを変化させる高さ調整器と、 ２次Ｘ線検出手段の側方に設置され、試料と２次Ｘ線検
出手段との距離を測定する変位センサと、 試料台を、２次Ｘ線検出手段の軸直下と変位センサの軸
直下との間で、１次Ｘ線の進行方向に沿って移動させる
水平移動手段と、 試料よりも１次Ｘ線の進行方向側に設置され、１次Ｘ線
に対し臨界角の２倍以内の適切な角度に視野制限するス
リットを有し、試料表面で反射した１次Ｘ線である反射
Ｘ線の強度を測定する反射Ｘ線検出手段と、 試料台に固定され表面の所定点に既知元素を付着させた
基準試料にＸ線源から１次Ｘ線を照射させ、２次Ｘ線検
出手段に前記既知元素から発生する蛍光Ｘ線の強度を測
定させながら高さ調整器により試料台を上下方向に移動
させ、測定される蛍光Ｘ線の強度が最大になるときの基
準試料と２次Ｘ線検出手段との距離を水平移動手段と変
位センサとを協働させて測定させ、この距離を適切な高
さとして記憶しておき、試料台に固定された他の試料の
表面の測定点が、前記適切な高さになるように、水平移
動手段と変位センサと高さ調整器とを協働させて位置さ
せる高さ調整手段と、 試料台に固定され組成が既知の標準試料を、その表面の
測定点が前記適切な高さになるように高さ調整手段によ
り位置させ、Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、標準試料
表面への１次Ｘ線の入射角が変化するように、試料台の
１次Ｘ線に対する傾斜角を角度調整器により変化させ、
２次Ｘ線検出手段により測定される２次Ｘ線の強度と傾
斜角との関係と、反射Ｘ線検出手段により測定される反
射Ｘ線の強度と傾斜角との関係とを求め、両関係と既知
である臨界角の値とから、測定される反射Ｘ線の強度が
最大になったときの入射角の値を求め、記憶しておく基
準角度算出手段と、 試料台に固定された分析対象試料を、その表面の測定点
が前記適切な高さになるように高さ調整手段により位置
させ、Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、分析対象試料表
面への１次Ｘ線の入射角が変化するように、試料台の１
次Ｘ線に対する傾斜角を角度調整器により変化させ、試
料台の傾斜角を、反射Ｘ線検出手段により測定される反
射Ｘ線の強度が最大になったときの角度を基準に、所望
の入射角との差を補うように角度調整器により調整する
入射角設定手段とを備えた全反射蛍光Ｘ線分析における
試料への１次Ｘ線の入射角の設定装置。 - 【請求項４】 試料が固定される試料台と、 分析にも用いられ、試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源
と、 分析にも用いられ、１次Ｘ線が照射される試料の上方に
設置され、試料から発生する２次Ｘ線の強度を測定する
２次Ｘ線検出手段と、 試料台の１次Ｘ線に対する傾斜角を変化させる角度調整
器と、 試料台の高さを変化させる高さ調整器と、 ２次Ｘ線検出手段の側方に設置され、試料と２次Ｘ線検
出手段との距離を測定する変位センサと、 試料台を、２次Ｘ線検出手段の軸直下と変位センサの軸
直下との間で、１次Ｘ線の進行方向に沿って移動させる
水平移動手段と、 試料よりも１次Ｘ線の進行方向側に設置され、高さ方向
に移動して視野制限するスリットを有し、試料表面で反
射した１次Ｘ線である反射Ｘ線の強度を測定する反射Ｘ
線検出手段と、 試料台に固定され表面の所定点に既知元素を付着させた
基準試料にＸ線源から１次Ｘ線を照射させ、２次Ｘ線検
出手段に前記既知元素から発生する蛍光Ｘ線の強度を測
定させながら高さ調整器により試料台を上下方向に移動
させ、測定される蛍光Ｘ線の強度が最大になるときの基
準試料と２次Ｘ線検出手段との距離を水平移動手段と変
位センサとを協働させて測定させ、この距離を適切な高
さとして記憶しておき、試料台に固定された他の試料の
表面の測定点が、前記適切な高さになるように、水平移
動手段と変位センサと高さ調整器とを協働させて位置さ
せる高さ調整手段と、 試料台に固定され組成が既知の標準試料を、その表面の
測定点が前記適切な高さになるように高さ調整手段によ
り位置させ、Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、標準試料
表面への１次Ｘ線の入射角が変化するように、試料台の
１次Ｘ線に対する傾斜角を角度調整器により変化させ、
視野制限されていない反射Ｘ線検出手段により測定され
る反射Ｘ線の強度と傾斜角との関係を求め、その関係と
既知である臨界角の値とに基づいて、スリットを高さ方
向に移動させて反射Ｘ線検出手段を１次Ｘ線に対し臨界
角の２倍以内の適切な角度に視野制限する基準角度設定
手段と、 試料台に固定された分析対象試料を、その表面の測定点
が前記適切な高さになるように高さ調整手段により位置
させ、Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、分析対象試料表
面への１次Ｘ線の入射角が変化するように、試料台の１
次Ｘ線に対する傾斜角を角度調整器により変化させ、試
料台の傾斜角を、視野制限された反射Ｘ線検出手段によ
り測定される反射Ｘ線の強度が最大になったときの角度
を基準に、所望の入射角との差を補うように角度調整器
により調整する入射角設定手段とを備えた全反射蛍光Ｘ
線分析における試料への１次Ｘ線の入射角の設定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8394097A JPH10282021A (ja) | 1997-04-02 | 1997-04-02 | 全反射蛍光ｘ線分析における入射角設定方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8394097A JPH10282021A (ja) | 1997-04-02 | 1997-04-02 | 全反射蛍光ｘ線分析における入射角設定方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282021A true JPH10282021A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=13816593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8394097A Pending JPH10282021A (ja) | 1997-04-02 | 1997-04-02 | 全反射蛍光ｘ線分析における入射角設定方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10282021A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010256259A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Rigaku Corp | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2014106079A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Showa Denko Kk | 全反射蛍光ｘ線分析方法および全反射蛍光ｘ線分析装置 |
| CN104833688A (zh) * | 2015-04-20 | 2015-08-12 | 绍兴文理学院 | 水底原位x荧光光谱分析不平度效应弱化装置 |
| CN110456513A (zh) * | 2019-08-19 | 2019-11-15 | 张玉琴 | 一种适用于b超影片和投影的设备 |
-
1997
- 1997-04-02 JP JP8394097A patent/JPH10282021A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010256259A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Rigaku Corp | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2014106079A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Showa Denko Kk | 全反射蛍光ｘ線分析方法および全反射蛍光ｘ線分析装置 |
| CN104833688A (zh) * | 2015-04-20 | 2015-08-12 | 绍兴文理学院 | 水底原位x荧光光谱分析不平度效应弱化装置 |
| CN110456513A (zh) * | 2019-08-19 | 2019-11-15 | 张玉琴 | 一种适用于b超影片和投影的设备 |
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