JPH05107204A - Ｘ線回折測定方法及び装置 - Google Patents
Ｘ線回折測定方法及び装置Info
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- JPH05107204A JPH05107204A JP3271358A JP27135891A JPH05107204A JP H05107204 A JPH05107204 A JP H05107204A JP 3271358 A JP3271358 A JP 3271358A JP 27135891 A JP27135891 A JP 27135891A JP H05107204 A JPH05107204 A JP H05107204A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 比較的簡単な構成により、積分型２次元記録
体によって結晶の正確な方位情報を得ることを可能にし
たＸ線回折測定方法及びその装置を提供することを目的
とする。 【構成】 本発明にかかるＸ線回折測定方法及びその装
置は、積分型２次元記録体たる円筒ＩＰ板３に試料１の
特定の回折パターンを記録した後、この円筒ＩＰ板３の
別の場所または他の円筒ＩＰ板に、前記特定の回折パタ
ーンを記録した際における照射Ｘ線の入射角を基準にし
て該Ｘ線の入射角を試料保持装置２によって走査すると
とともにこの走査に同期させつつ前記円筒ＩＰ板３を走
査装置４によって前記試料１に対して移動走査して補正
用の回折斑点を記録し、この補正用の回折斑点の中心位
置から前記特定の回折パターンを構成する各回折斑点の
位置を補正して結晶の正確な方位情報を得ることを可能
にしたものである。
体によって結晶の正確な方位情報を得ることを可能にし
たＸ線回折測定方法及びその装置を提供することを目的
とする。 【構成】 本発明にかかるＸ線回折測定方法及びその装
置は、積分型２次元記録体たる円筒ＩＰ板３に試料１の
特定の回折パターンを記録した後、この円筒ＩＰ板３の
別の場所または他の円筒ＩＰ板に、前記特定の回折パタ
ーンを記録した際における照射Ｘ線の入射角を基準にし
て該Ｘ線の入射角を試料保持装置２によって走査すると
とともにこの走査に同期させつつ前記円筒ＩＰ板３を走
査装置４によって前記試料１に対して移動走査して補正
用の回折斑点を記録し、この補正用の回折斑点の中心位
置から前記特定の回折パターンを構成する各回折斑点の
位置を補正して結晶の正確な方位情報を得ることを可能
にしたものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、写真フィルムあるい
は放射線画像蓄積板等の積分型２次元記録体によって得
たＸ線回折パターンから試料の正確な結晶情報を得るＸ
線回折測定方法及びその装置に関する。
は放射線画像蓄積板等の積分型２次元記録体によって得
たＸ線回折パターンから試料の正確な結晶情報を得るＸ
線回折測定方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、例えば、ワイセンベルグカメ
ラや振動カメラ等のように、単結晶試料に所定の方向か
らＸ線を照射したときに該試料によって所定の方向に回
折された回折Ｘ線を、所定の位置に配置された写真フィ
ルムや放射線画像蓄積板等の積分型２次元記録体で受け
て回折パターンとして記録し、この回折パターンを解析
して単結晶試料の結晶構造情報を得る方法が知られてい
る。
ラや振動カメラ等のように、単結晶試料に所定の方向か
らＸ線を照射したときに該試料によって所定の方向に回
折された回折Ｘ線を、所定の位置に配置された写真フィ
ルムや放射線画像蓄積板等の積分型２次元記録体で受け
て回折パターンとして記録し、この回折パターンを解析
して単結晶試料の結晶構造情報を得る方法が知られてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
方法による結晶構造解析の精度は、記録された回折パタ
ーンを構成する各回折斑点が、正確に所定の結晶格子面
の回折角度情報を表しているか否かによる。
方法による結晶構造解析の精度は、記録された回折パタ
ーンを構成する各回折斑点が、正確に所定の結晶格子面
の回折角度情報を表しているか否かによる。
【０００４】しかしながら、例えば、特定の静止画像を
考えた場合、記録された回折斑点の全部が必ずしも結晶
格子面の回折角度情報を正確に表しているということは
できない。これは、現実には、回折に寄与する逆格子点
にある程度の拡がりがあるためである。つまり、この逆
格子点の拡がりの範囲内にある回折条件を満たしていれ
ば回折斑点は記録されるが、記録された回折斑点は、必
ずしも逆格子点の中心位置による回折斑点ではない場合
があるからである。逆格子点の拡がりは通常回折角度に
して０．３〜０．５°程度あるので、記録された回折斑
点の位置情報（座標値）にはこの程度のあいまい性があ
ることになる。それゆえ、実際には、多数の回折斑点の
濃度（回折線の強度）情報を利用して最小二乗法による
統計処理を用いてランダム誤差として扱っているが、結
晶方位決定等の精度に一定の限界が生じていた。
考えた場合、記録された回折斑点の全部が必ずしも結晶
格子面の回折角度情報を正確に表しているということは
できない。これは、現実には、回折に寄与する逆格子点
にある程度の拡がりがあるためである。つまり、この逆
格子点の拡がりの範囲内にある回折条件を満たしていれ
ば回折斑点は記録されるが、記録された回折斑点は、必
ずしも逆格子点の中心位置による回折斑点ではない場合
があるからである。逆格子点の拡がりは通常回折角度に
して０．３〜０．５°程度あるので、記録された回折斑
点の位置情報（座標値）にはこの程度のあいまい性があ
ることになる。それゆえ、実際には、多数の回折斑点の
濃度（回折線の強度）情報を利用して最小二乗法による
統計処理を用いてランダム誤差として扱っているが、結
晶方位決定等の精度に一定の限界が生じていた。
【０００５】本発明は、上述の背景のもとでなされたも
のであり、比較的簡単な構成により、写真フィルムある
いは放射線画像蓄積板等の積分型２次元記録体によって
正確な結晶の方位情報を得ることを可能にしたＸ線回折
測定方法及びその装置を提供することを目的としたもの
である。
のであり、比較的簡単な構成により、写真フィルムある
いは放射線画像蓄積板等の積分型２次元記録体によって
正確な結晶の方位情報を得ることを可能にしたＸ線回折
測定方法及びその装置を提供することを目的としたもの
である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明は、（１） 単結晶試料に所定の方向からＸ
線を照射したときに該試料によって所定の方向に回折さ
れた回折Ｘ線を、所定の位置に配置された積分型２次元
記録体で受けて回折パターンとして記録し、この回折パ
ターンを解析して前記単結晶試料の結晶構造情報を得る
Ｘ線回折測定方法において、前記積分型２次元記録体に
特定の回折パターンを記録した後、この特定の回折パタ
ーンを記録した積分型２次元記録体の別の場所または他
の積分型２次元記録体に、前記特定の回折パターンを記
録した際における照射Ｘ線の入射角を基準にして該照射
Ｘ線の入射角を走査するととともにこの走査に同期させ
つつ前記積分型２次元記録体を前記試料に対して移動ま
たは回転走査して前記特定の回折パターンを構成する各
回折斑点に対応する逆格子点による補正用の回折斑点を
記録し、この補正用の回折斑点の中心位置から前記特定
の回折パターンを構成する各回折斑点の位置を補正して
結晶の正確な方位情報を求めることを特徴とした構成と
し、また、構成１の方法を実施する装置として、（２）
構成１のＸ線回折測定方法を実施するＸ線回折測定装
置であって、Ｘ線源と、試料を保持して該試料に対する
前記Ｘ線源から射出された照射Ｘ線の入射角を変化させ
ることができる機構を備えた試料保持装置と、前記試料
に所定の方向からＸ線を照射したときに該試料によって
所定の方向に回折された回折Ｘ線を受けて回折パターン
として記録する積分型２次元記録体と、前記試料保持装
置による試料に対する照射Ｘ線の入射角の変化に同期さ
せつつ前記積分型２次元記録体を前記試料に対して回転
または移動走査する走査装置とを備えたことを特徴とす
る構成としたものである。
めに本発明は、（１） 単結晶試料に所定の方向からＸ
線を照射したときに該試料によって所定の方向に回折さ
れた回折Ｘ線を、所定の位置に配置された積分型２次元
記録体で受けて回折パターンとして記録し、この回折パ
ターンを解析して前記単結晶試料の結晶構造情報を得る
Ｘ線回折測定方法において、前記積分型２次元記録体に
特定の回折パターンを記録した後、この特定の回折パタ
ーンを記録した積分型２次元記録体の別の場所または他
の積分型２次元記録体に、前記特定の回折パターンを記
録した際における照射Ｘ線の入射角を基準にして該照射
Ｘ線の入射角を走査するととともにこの走査に同期させ
つつ前記積分型２次元記録体を前記試料に対して移動ま
たは回転走査して前記特定の回折パターンを構成する各
回折斑点に対応する逆格子点による補正用の回折斑点を
記録し、この補正用の回折斑点の中心位置から前記特定
の回折パターンを構成する各回折斑点の位置を補正して
結晶の正確な方位情報を求めることを特徴とした構成と
し、また、構成１の方法を実施する装置として、（２）
構成１のＸ線回折測定方法を実施するＸ線回折測定装
置であって、Ｘ線源と、試料を保持して該試料に対する
前記Ｘ線源から射出された照射Ｘ線の入射角を変化させ
ることができる機構を備えた試料保持装置と、前記試料
に所定の方向からＸ線を照射したときに該試料によって
所定の方向に回折された回折Ｘ線を受けて回折パターン
として記録する積分型２次元記録体と、前記試料保持装
置による試料に対する照射Ｘ線の入射角の変化に同期さ
せつつ前記積分型２次元記録体を前記試料に対して回転
または移動走査する走査装置とを備えたことを特徴とす
る構成としたものである。
【０００７】
【作用】上述の構成１において、記録された特定の回折
パターンを構成する各回折斑点の位置は試料の結晶情報
を表している。すなわち、各回折斑点はそれぞれ試料の
特定の逆格子点に対応する。しかしながら、上述のよう
に、逆格子点には一定の拡がりがあるので、記録された
各回折斑点の中心位置が必ずしも対応する逆格子点の中
心位置に対応するとはいえない。これは、記録された回
折斑点が逆格子点の拡がりの端の部分で回折条件を満た
すことによって形成されたものである場合も少なくない
からである。このため、記録された特定の回折パターン
を構成する回折斑点の位置は、必ずしもその回折斑点に
対応する逆格子点の位置（方位）情報を正確に表してい
ない場合がある。
パターンを構成する各回折斑点の位置は試料の結晶情報
を表している。すなわち、各回折斑点はそれぞれ試料の
特定の逆格子点に対応する。しかしながら、上述のよう
に、逆格子点には一定の拡がりがあるので、記録された
各回折斑点の中心位置が必ずしも対応する逆格子点の中
心位置に対応するとはいえない。これは、記録された回
折斑点が逆格子点の拡がりの端の部分で回折条件を満た
すことによって形成されたものである場合も少なくない
からである。このため、記録された特定の回折パターン
を構成する回折斑点の位置は、必ずしもその回折斑点に
対応する逆格子点の位置（方位）情報を正確に表してい
ない場合がある。
【０００８】そこで、この特定の回折パターンを記録し
た際における照射Ｘ線の入射角を基準にして該照射Ｘ線
の入射角を微小角度範囲で走査するととともにこの走査
に同期させつつ前記積分型２次元記録体を前記照射Ｘ線
に対して回折条件を満たす方向に走査する。そして、こ
のときに形成される回折斑点を上記特定の回折パターン
を記録した積分型２次元記録体の別の場所または他の積
分型２次元記録体に補正用の回折斑点として記録する。
そうすると、この補正用の回折斑点の中心位置は逆格子
点の中心の方位情報を表すことになる。したがって、特
定の回折パターンを記録した際の積分型２次元記録体の
位置関係と補正用の回折斑点を記録した際の位置関係と
の対応づけを行い、両者の対応する各回折斑点の中心位
置を比較して補正用の回折斑点の中心位置を正確な回折
斑点の位置とすることにより、正確な方位情報を得るこ
とができる。
た際における照射Ｘ線の入射角を基準にして該照射Ｘ線
の入射角を微小角度範囲で走査するととともにこの走査
に同期させつつ前記積分型２次元記録体を前記照射Ｘ線
に対して回折条件を満たす方向に走査する。そして、こ
のときに形成される回折斑点を上記特定の回折パターン
を記録した積分型２次元記録体の別の場所または他の積
分型２次元記録体に補正用の回折斑点として記録する。
そうすると、この補正用の回折斑点の中心位置は逆格子
点の中心の方位情報を表すことになる。したがって、特
定の回折パターンを記録した際の積分型２次元記録体の
位置関係と補正用の回折斑点を記録した際の位置関係と
の対応づけを行い、両者の対応する各回折斑点の中心位
置を比較して補正用の回折斑点の中心位置を正確な回折
斑点の位置とすることにより、正確な方位情報を得るこ
とができる。
【０００９】また、構成２によれば、構成１の方法を実
施することができる装置を得ることができる。
施することができる装置を得ることができる。
【００１０】
【実施例】図１はこの発明の一実施例にかかるＸ線回折
測定方法を実施するＸ線回折測定装置の構成を示す図、
図２は本発明の一実施例にかかるＸ線回折測定方法の説
明図である。以下、これらの図を参照にしながら、まず
本発明の一実施例にかかるＸ線回測定折装置を説明し、
次に、本発明の一実施例にかかるＸ線回折測定方法を説
明する。
測定方法を実施するＸ線回折測定装置の構成を示す図、
図２は本発明の一実施例にかかるＸ線回折測定方法の説
明図である。以下、これらの図を参照にしながら、まず
本発明の一実施例にかかるＸ線回測定折装置を説明し、
次に、本発明の一実施例にかかるＸ線回折測定方法を説
明する。
【００１１】図１において、符号１は単結晶試料、符号
２は試料保持装置、符号３は積分型２次元記録体を構成
する円筒ＩＰ板、符号４は走査装置を構成するＩＰ板移
動機構、符号５は制御装置、符号６は線源である。図１
に示される装置は、単結晶試料１にＸ線源６からＸ線を
照射し、その回折パターンを円筒ＩＰ板に記録させる機
能と、単結晶試料１を回転走査させつつこの走査と同期
してＩＰ板移動機構によって円筒ＩＰ板３を移動させる
ことによって補正用の回折斑点を記録させる機能を備え
たものである。以下、詳細に述べる。
２は試料保持装置、符号３は積分型２次元記録体を構成
する円筒ＩＰ板、符号４は走査装置を構成するＩＰ板移
動機構、符号５は制御装置、符号６は線源である。図１
に示される装置は、単結晶試料１にＸ線源６からＸ線を
照射し、その回折パターンを円筒ＩＰ板に記録させる機
能と、単結晶試料１を回転走査させつつこの走査と同期
してＩＰ板移動機構によって円筒ＩＰ板３を移動させる
ことによって補正用の回折斑点を記録させる機能を備え
たものである。以下、詳細に述べる。
【００１２】単結晶試料１は試料保持装置２における棒
状の試料保持部２１の先端に保持されるようになってい
る。この試料保持部２１は、ウォームホイール２２の回
転中心軸にその軸が一致するように該ウォームホイール
に固定されている。そして、このウォームホイール２２
は、このウォームホイールに噛み合わされたウォーム２
３をモータ２４によって回転駆動することによって回転
されるようになっている。なお、このモータ２４は制御
装置５によって制御される。
状の試料保持部２１の先端に保持されるようになってい
る。この試料保持部２１は、ウォームホイール２２の回
転中心軸にその軸が一致するように該ウォームホイール
に固定されている。そして、このウォームホイール２２
は、このウォームホイールに噛み合わされたウォーム２
３をモータ２４によって回転駆動することによって回転
されるようになっている。なお、このモータ２４は制御
装置５によって制御される。
【００１３】円筒ＩＰ板３は、いわゆる放射線画像蓄積
板を円筒体形状に形成し、この円筒体の円筒の一部を除
去してＸ線入射窓３１を形成したもので、その円筒軸が
上述の試料保持部２１の軸と一致するようにしてＩＰ板
保持台４１に着脱自在に保持されるようになっている。
ここで、この放射線画像蓄積板とは、放射線（Ｘ線）を
照射（露出）するとこの照射（露出）した部分に潜像が
形成され、この潜像に所定の光を照射すると、Ｘ線が照
射された部分（露出部分）がその照射Ｘ線量（露出量）
に比例した強度で発光（輝尽発光）するとともに、この
発光によって潜像も消える性質を有するものである。し
たがって、露出後に所定の光を照射して輝尽発光させる
ことにより潜像を顕在化でき、また、その輝尽発光量を
測定することにより、露出量（照射Ｘ線強度）を知るこ
とができる。なお、このＩＰ板３の代わりに通常のＸ線
カメラに用いられる写真フィルムを用いてもよいことは
勿論である。
板を円筒体形状に形成し、この円筒体の円筒の一部を除
去してＸ線入射窓３１を形成したもので、その円筒軸が
上述の試料保持部２１の軸と一致するようにしてＩＰ板
保持台４１に着脱自在に保持されるようになっている。
ここで、この放射線画像蓄積板とは、放射線（Ｘ線）を
照射（露出）するとこの照射（露出）した部分に潜像が
形成され、この潜像に所定の光を照射すると、Ｘ線が照
射された部分（露出部分）がその照射Ｘ線量（露出量）
に比例した強度で発光（輝尽発光）するとともに、この
発光によって潜像も消える性質を有するものである。し
たがって、露出後に所定の光を照射して輝尽発光させる
ことにより潜像を顕在化でき、また、その輝尽発光量を
測定することにより、露出量（照射Ｘ線強度）を知るこ
とができる。なお、このＩＰ板３の代わりに通常のＸ線
カメラに用いられる写真フィルムを用いてもよいことは
勿論である。
【００１４】ＩＰ板保持台４１はその下部に支柱４１ａ
が固定されており、この支柱４１ａには、ねじ孔が形成
され、このねじ孔にねじ棒４２が螺合されている。そし
て、このねじ棒４２はモータ４３によって回転駆動さ
れ、このモータ４３は制御装置５によって制御されるよ
うになっている。なお、図示しないが、このＩＰ保持台
４１は円筒ＩＰ板３の円筒軸と平行な方向には移動自在
であるがその他の方向には動かないように適宜のガイド
部材によって保持されている。したがって、モータ４３
によってねじ棒４２を回転駆動することによって、円筒
ＩＰ板３はその円筒の軸方向に沿って移動されるように
なっているものである。ここで、ＩＰ板保持台４１、支
柱４１ａ、ねじ棒４２及びモータ４３はこの発明の走査
装置４を構成する。
が固定されており、この支柱４１ａには、ねじ孔が形成
され、このねじ孔にねじ棒４２が螺合されている。そし
て、このねじ棒４２はモータ４３によって回転駆動さ
れ、このモータ４３は制御装置５によって制御されるよ
うになっている。なお、図示しないが、このＩＰ保持台
４１は円筒ＩＰ板３の円筒軸と平行な方向には移動自在
であるがその他の方向には動かないように適宜のガイド
部材によって保持されている。したがって、モータ４３
によってねじ棒４２を回転駆動することによって、円筒
ＩＰ板３はその円筒の軸方向に沿って移動されるように
なっているものである。ここで、ＩＰ板保持台４１、支
柱４１ａ、ねじ棒４２及びモータ４３はこの発明の走査
装置４を構成する。
【００１５】制御装置５は、モータ２４，４３を制御
し、それぞれの回転の向きや速度をそれぞれ単独で、あ
るいは、両者を一定の関係のもとに同期させて駆動させ
る制御を行うものである。なお、モータ２４，４３とし
ては、例えば、パルスモータを用いることができ、制御
装置５としては、マイクロプロセッサ等を内蔵し、所定
のプログラムのもとでモータ２４，４３を所定の関係で
動作させる制御を行う装置を用いることができる。
し、それぞれの回転の向きや速度をそれぞれ単独で、あ
るいは、両者を一定の関係のもとに同期させて駆動させ
る制御を行うものである。なお、モータ２４，４３とし
ては、例えば、パルスモータを用いることができ、制御
装置５としては、マイクロプロセッサ等を内蔵し、所定
のプログラムのもとでモータ２４，４３を所定の関係で
動作させる制御を行う装置を用いることができる。
【００１６】さて、次に、上述の一実施例の装置を用い
て本発明の一実施例の方法を実施する手順を説明する。
て本発明の一実施例の方法を実施する手順を説明する。
【００１７】まず、円筒ＩＰ板３を固定した状態で、Ｘ
線入射窓３１を通じてＸ線源６から試料１にＸ線を照射
し、円筒ＩＰ板３に試料１の回折パターンを潜像として
記録する。この場合、試料１を固定したままでもよい
が、明確な回折パターンを得るために試料保持部２１を
回転して試料１を１〜１０°程度回転させてもよい。
線入射窓３１を通じてＸ線源６から試料１にＸ線を照射
し、円筒ＩＰ板３に試料１の回折パターンを潜像として
記録する。この場合、試料１を固定したままでもよい
が、明確な回折パターンを得るために試料保持部２１を
回転して試料１を１〜１０°程度回転させてもよい。
【００１８】次に、Ｘ線の照射を中止し、モータ４３を
駆動して円筒ＩＰ板３を軸方向に数ｍｍ程度移動させ
る。この移動量をオフセット量とする。
駆動して円筒ＩＰ板３を軸方向に数ｍｍ程度移動させ
る。この移動量をオフセット量とする。
【００１９】次に、再度Ｘ線照射を開始し、試料１を上
記回折パターンを得た位置（角度）を基準として±１°
程度回転走査させる。同時にこの回転走査と同期して円
筒ＩＰ板３を±数ｍｍ程度往復走査させ、円筒ＩＰ板３
に補正用回折斑点を記録する。なお、この場合、上述の
ように、回折パターンを記録する際に試料１を回転させ
たときには、この回転した角度範囲に±１°を加えた範
囲で試料１を回転させる。このとき、これに同期して円
筒ＩＰ板３を走査させることは勿論である。
記回折パターンを得た位置（角度）を基準として±１°
程度回転走査させる。同時にこの回転走査と同期して円
筒ＩＰ板３を±数ｍｍ程度往復走査させ、円筒ＩＰ板３
に補正用回折斑点を記録する。なお、この場合、上述の
ように、回折パターンを記録する際に試料１を回転させ
たときには、この回転した角度範囲に±１°を加えた範
囲で試料１を回転させる。このとき、これに同期して円
筒ＩＰ板３を走査させることは勿論である。
【００２０】なお、この補正用の回折斑点の記録は、回
折パターンを記録した円筒ＩＰ板３と別個の円筒ＩＰ板
に記録させるようにしてもよい。その場合には、両者の
円筒ＩＰ板の位置と試料１の回転角との対応付けを行っ
ておく必要がある。
折パターンを記録した円筒ＩＰ板３と別個の円筒ＩＰ板
に記録させるようにしてもよい。その場合には、両者の
円筒ＩＰ板の位置と試料１の回転角との対応付けを行っ
ておく必要がある。
【００２１】次に、円筒ＩＰ板３をＩＰ板保持台４１か
ら取り外し、所定の光を照射して回折パターン及び補正
用回折斑点を顕在化させる処理を行う。この処理は、例
えば、円筒ＩＰ板３の各位置に輝尽発光させる光を照射
しつつその輝尽発光を検出するとともにその位置を検知
できる読取り装置をコンピュータに接続した装置を用
い、画像情報として取り込むことによって行うことがで
きる。
ら取り外し、所定の光を照射して回折パターン及び補正
用回折斑点を顕在化させる処理を行う。この処理は、例
えば、円筒ＩＰ板３の各位置に輝尽発光させる光を照射
しつつその輝尽発光を検出するとともにその位置を検知
できる読取り装置をコンピュータに接続した装置を用
い、画像情報として取り込むことによって行うことがで
きる。
【００２２】図２は、このような装置を用いて取り込ん
だ画像の一部を示すものである。なお、この図における
ＸＹ座標軸は円筒ＩＰ板３上におけるＸＹ座標に対応
し、Ｘ軸は円筒軸と平行な方向、すなわち、円筒ＩＰ板
３の移動方向である。また、Ｓ0 は回折パターンを構成
する回折斑点の１つであり、Ｓ1 はＳ0 に対応する補正
用の回折斑点である。さらに、Ｘ1 からＸ3 までの範囲
は補正用の回折斑点を得る際の走査範囲である。これら
座標値はそれぞれの座標値の下の括弧内に示したよう
に、試料１の回転角度値φ1 ，φ3 に対応する。
だ画像の一部を示すものである。なお、この図における
ＸＹ座標軸は円筒ＩＰ板３上におけるＸＹ座標に対応
し、Ｘ軸は円筒軸と平行な方向、すなわち、円筒ＩＰ板
３の移動方向である。また、Ｓ0 は回折パターンを構成
する回折斑点の１つであり、Ｓ1 はＳ0 に対応する補正
用の回折斑点である。さらに、Ｘ1 からＸ3 までの範囲
は補正用の回折斑点を得る際の走査範囲である。これら
座標値はそれぞれの座標値の下の括弧内に示したよう
に、試料１の回転角度値φ1 ，φ3 に対応する。
【００２３】いま、Ｓ0 の中心位置のＸ座標値がＸ0 で
あり、補正用の回折斑点の中心位置のＸ座標値がＸ2 で
あったする。そうすると、このＸ2 に対応する角度値φ
2 が回折斑点Ｓ0 の正確な角度値、すなわち、試料１の
逆格子点の正確な方位情報を示すことになる。ここで、
Ｘ2 はＸ1 とＸ3 との間に必ず存在するから、Ｘ1 ，Ｘ
2 ，Ｘ3 ，φ1 ，φ3 を測定により求めることができ、
これらの測定値から次のようにしてφ2 を求めることが
できる。
あり、補正用の回折斑点の中心位置のＸ座標値がＸ2 で
あったする。そうすると、このＸ2 に対応する角度値φ
2 が回折斑点Ｓ0 の正確な角度値、すなわち、試料１の
逆格子点の正確な方位情報を示すことになる。ここで、
Ｘ2 はＸ1 とＸ3 との間に必ず存在するから、Ｘ1 ，Ｘ
2 ，Ｘ3 ，φ1 ，φ3 を測定により求めることができ、
これらの測定値から次のようにしてφ2 を求めることが
できる。
【００２４】φ2 ＝φ1 ＋［（φ3 −φ1 ）×｛（Ｘ2
−Ｘ0 ）−（Ｘ1 −Ｘ0 ）｝÷（Ｘ3 −Ｘ1 ）］ このようにして、回折パターンを構成する各回折斑点に
同様の補正を加えることにより結晶の正確な方位情報を
求めることができる。
−Ｘ0 ）−（Ｘ1 −Ｘ0 ）｝÷（Ｘ3 −Ｘ1 ）］ このようにして、回折パターンを構成する各回折斑点に
同様の補正を加えることにより結晶の正確な方位情報を
求めることができる。
【００２５】なお、上述の一実施例では、円筒ＩＰ板を
用いた例を掲げたが、これは平板上のＩＰ板を用いた場
合にも適用できる。この場合には、補正用回折斑点を得
る際に、必ずしもＩＰ板を移動走査する必要はなく、そ
の代わりにＩＰ板を所定の軸を中心に回転走査するよう
にしてもよい。
用いた例を掲げたが、これは平板上のＩＰ板を用いた場
合にも適用できる。この場合には、補正用回折斑点を得
る際に、必ずしもＩＰ板を移動走査する必要はなく、そ
の代わりにＩＰ板を所定の軸を中心に回転走査するよう
にしてもよい。
【００２６】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明にかかるＸ
線回折測定方法及びその装置は、積分型２次元記録体に
特定の回折パターンを記録した後、この記録体の別の場
所または他の積分型２次元記録体に、前記特定の回折パ
ターンを記録した際における照射Ｘ線の入射角を基準に
して該Ｘ線の入射角を走査するととともにこの走査に同
期させつつ前記積分型２次元記録体を前記試料に対して
移動または回転走査して補正用の回折斑点を記録し、こ
の補正用の回折斑点の中心位置から前記特定の回折パタ
ーンを構成する各回折斑点の位置を補正して結晶の正確
な方位情報を求めることを可能としたものである。
線回折測定方法及びその装置は、積分型２次元記録体に
特定の回折パターンを記録した後、この記録体の別の場
所または他の積分型２次元記録体に、前記特定の回折パ
ターンを記録した際における照射Ｘ線の入射角を基準に
して該Ｘ線の入射角を走査するととともにこの走査に同
期させつつ前記積分型２次元記録体を前記試料に対して
移動または回転走査して補正用の回折斑点を記録し、こ
の補正用の回折斑点の中心位置から前記特定の回折パタ
ーンを構成する各回折斑点の位置を補正して結晶の正確
な方位情報を求めることを可能としたものである。
【図１】この発明の一実施例にかかるＸ線回折測定装置
の構成を示す図である。
の構成を示す図である。
【図２】一実施例のＸ線回折測定方法の説明図である。
１…単結晶試料、２…試料保持装置、３…円筒ＩＰ板、
４…走査装置、５…制御装置、６…Ｘ線源。
４…走査装置、５…制御装置、６…Ｘ線源。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年１１月１４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】ＩＰ板保持台４１はその下部に支柱４１ａ
が固定されており、この支柱４１ａには、ねじ孔が形成
され、このねじ孔にねじ棒４２が螺合されている。そし
て、このねじ棒４２はモータ４３によって回転駆動さ
れ、このモータ４３は制御装置５によって制御されるよ
うになっている。なお、図示しないが、このＩＰ板保持
台４１は円筒ＩＰ板３の円筒軸と平行な方向には移動自
在であるがその他の方向には動かないように適宜のガイ
ド部材によって保持されている。したがって、モータ４
３によってねじ棒４２を回転駆動することによって、円
筒ＩＰ板３はその円筒の軸方向に沿って移動されるよう
になっているものである。ここで、ＩＰ板保持台４１、
支柱４１ａ、ねじ棒４２及びモータ４３はこの発明の走
査装置４を構成する。
が固定されており、この支柱４１ａには、ねじ孔が形成
され、このねじ孔にねじ棒４２が螺合されている。そし
て、このねじ棒４２はモータ４３によって回転駆動さ
れ、このモータ４３は制御装置５によって制御されるよ
うになっている。なお、図示しないが、このＩＰ板保持
台４１は円筒ＩＰ板３の円筒軸と平行な方向には移動自
在であるがその他の方向には動かないように適宜のガイ
ド部材によって保持されている。したがって、モータ４
３によってねじ棒４２を回転駆動することによって、円
筒ＩＰ板３はその円筒の軸方向に沿って移動されるよう
になっているものである。ここで、ＩＰ板保持台４１、
支柱４１ａ、ねじ棒４２及びモータ４３はこの発明の走
査装置４を構成する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２３】いま、Ｓ0 の中心位置のＸ座標値がＸ0 で
あり、補正用の回折斑点の中心位置のＸ座標値がＸ2 で
あったとする。そうすると、このＸ2 に対応する角度値
φ2 が回折斑点Ｓ0 の正確な角度値、すなわち、試料１
の逆格子点の正確な方位情報を示すことになる。ここ
で、Ｘ2 はＸ1 とＸ3 との間に必ず存在するから、Ｘ2
を測定により求めることができ、この測定値と、先に求
めたＸ0 、並びに設定値としてのＸ1 ，Ｘ3,φ1 ，φ3
とから次のようにしてφ2を求めることができる。
あり、補正用の回折斑点の中心位置のＸ座標値がＸ2 で
あったとする。そうすると、このＸ2 に対応する角度値
φ2 が回折斑点Ｓ0 の正確な角度値、すなわち、試料１
の逆格子点の正確な方位情報を示すことになる。ここ
で、Ｘ2 はＸ1 とＸ3 との間に必ず存在するから、Ｘ2
を測定により求めることができ、この測定値と、先に求
めたＸ0 、並びに設定値としてのＸ1 ，Ｘ3,φ1 ，φ3
とから次のようにしてφ2を求めることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 単結晶試料に所定の方向からＸ線を照射
したときに該試料によって所定の方向に回折された回折
Ｘ線を、所定の位置に配置された積分型２次元記録体で
受けて回折パターンとして記録し、この回折パターンを
解析して前記単結晶試料の結晶構造情報を得るＸ線回折
測定方法において、 前記積分型２次元記録体に特定の回折パターンを記録し
た後、この特定の回折パターンを記録した積分型２次元
記録体の別の場所または他の積分型２次元記録体に、前
記特定の回折パターンを記録した際における照射Ｘ線の
入射角を基準にして該照射Ｘ線の入射角を走査するとと
ともにこの走査に同期させつつ前記積分型２次元記録体
を前記試料に対して移動または回転走査して前記特定の
回折パターンを構成する各回折斑点に対応する逆格子点
による補正用の回折斑点を記録し、この補正用の回折斑
点の中心位置から前記特定の回折パターンを構成する各
回折斑点の位置を補正して結晶の正確な方位情報を求め
ることを特徴としたＸ線回折測定方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載のＸ線回折測定方法を実
施するＸ線回折測定装置であって、 Ｘ線源と、 試料を保持して該試料に対する前記Ｘ線源から射出され
た照射Ｘ線の入射角を変化させることができる機構を備
えた試料保持装置と、 前記試料に所定の方向からＸ線を照射したときに該試料
によって所定の方向に回折された回折Ｘ線を受けて回折
パターンとして記録する積分型２次元記録体と、 前記試料保持装置による試料に対する照射Ｘ線の入射角
の変化に同期させつつ前記積分型２次元記録体を前記試
料に対して回転または移動走査する走査装置とを備えた
ことを特徴とするＸ線回折測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03271358A JP3088516B2 (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | Ｘ線回折測定方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03271358A JP3088516B2 (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | Ｘ線回折測定方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05107204A true JPH05107204A (ja) | 1993-04-27 |
| JP3088516B2 JP3088516B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=17498961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03271358A Expired - Fee Related JP3088516B2 (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | Ｘ線回折測定方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3088516B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4851179A (en) * | 1987-04-25 | 1989-07-25 | Reifenhauser Gmbh & Co. Maschinenfabrik | Method of operating a fleece-making apparatus |
| US8335878B2 (en) | 2003-03-13 | 2012-12-18 | Marvell World Trade Ltd. | Multiport memory architecture, devices and systems including the same, and methods of using the same |
| US8683085B1 (en) | 2008-05-06 | 2014-03-25 | Marvell International Ltd. | USB interface configurable for host or device mode |
| US8688922B1 (en) | 2010-03-11 | 2014-04-01 | Marvell International Ltd | Hardware-supported memory management |
| CN113951817A (zh) * | 2021-09-08 | 2022-01-21 | 苏州缔影数字医疗科技有限公司 | 一种口腔cr扫描系统 |
| CN115954070A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-04-11 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种高角度x射线孪生衍射点的衍射强度的校正方法 |
-
1991
- 1991-10-18 JP JP03271358A patent/JP3088516B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4851179A (en) * | 1987-04-25 | 1989-07-25 | Reifenhauser Gmbh & Co. Maschinenfabrik | Method of operating a fleece-making apparatus |
| US8335878B2 (en) | 2003-03-13 | 2012-12-18 | Marvell World Trade Ltd. | Multiport memory architecture, devices and systems including the same, and methods of using the same |
| US8688877B1 (en) | 2003-03-13 | 2014-04-01 | Marvell World Trade Ltd. | Multiport memory architecture |
| US8683085B1 (en) | 2008-05-06 | 2014-03-25 | Marvell International Ltd. | USB interface configurable for host or device mode |
| US8688922B1 (en) | 2010-03-11 | 2014-04-01 | Marvell International Ltd | Hardware-supported memory management |
| CN113951817A (zh) * | 2021-09-08 | 2022-01-21 | 苏州缔影数字医疗科技有限公司 | 一种口腔cr扫描系统 |
| CN115954070A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-04-11 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种高角度x射线孪生衍射点的衍射强度的校正方法 |
| CN115954070B (zh) * | 2022-12-29 | 2024-03-29 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种高角度x射线孪生衍射点的衍射强度的校正方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3088516B2 (ja) | 2000-09-18 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |