JPS6162847A - 産業用断層撮影装置 - Google Patents
産業用断層撮影装置Info
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- JPS6162847A JPS6162847A JP59185712A JP18571284A JPS6162847A JP S6162847 A JPS6162847 A JP S6162847A JP 59185712 A JP59185712 A JP 59185712A JP 18571284 A JP18571284 A JP 18571284A JP S6162847 A JPS6162847 A JP S6162847A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/29—Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
- G01T1/2914—Measurement of spatial distribution of radiation
- G01T1/2985—In depth localisation, e.g. using positron emitters; Tomographic imaging (longitudinal and transverse section imaging; apparatus for radiation diagnosis sequentially in different planes, steroscopic radiation diagnosis)
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
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- G01N23/046—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using tomography, e.g. computed tomography [CT]
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、工業製品および製品材料を検査する産業用断
層撮影装置に係り、特に放射線発生点の位置を自動計測
する手段を持った産業用断層撮影装置に関する。
層撮影装置に係り、特に放射線発生点の位置を自動計測
する手段を持った産業用断層撮影装置に関する。
〔発明の技術的背It )
この種の装置は人体の断層像を撮影する医療診断用装置
と17で広く利用されている。第7図は、従来のかかる
医療鯰断用断層撮影装置であって、具体的には固定フレ
ーム1に対して回転可能に支持された筒形回転フレーム
2にX線管。
と17で広く利用されている。第7図は、従来のかかる
医療鯰断用断層撮影装置であって、具体的には固定フレ
ーム1に対して回転可能に支持された筒形回転フレーム
2にX線管。
3およびX線検出器4とを対向配置させて固定し、一方
、μLiまだd床上にテーブル5を設置させてこれに被
検体6を11!置させた後、回転フレーム2の開口8I
!7から挿入して所定位置にセソデイングする。
、μLiまだd床上にテーブル5を設置させてこれに被
検体6を11!置させた後、回転フレーム2の開口8I
!7から挿入して所定位置にセソデイングする。
しかる後、制御コンソール8目、シーケンスプログラム
またを:′1人為的な操作に基づいて回転制御部9、放
射線制御部10および中央演舞処理ユニノ111(以下
、CPUと指相、する)にそれぞれ所定のタイミングで
動作開始信号を供給する。ここで、回転制御部9は、制
御コンソール8からのJ11令を受けて回転部!11機
構部12に[1転駆動制御信月を与え、口1転フレーム
2を連続またシ、]間欠回転させる。一方、放射線制御
部10は、放射線駆動制御信号をX線管3に与え、これ
によりX線管3から間欠的にファン状X線ビーム13が
被検体6に照射される。このとき、被検体6からX線透
過データが透過されて出てくるが、このデータを、X線
検出器4により検出し、ここで電気的なX線吸収データ
に変換し、さらにデータ収集部14によってデータ収集
がなされた後、CPUIIに送られる。このCPUJl
では、データ収集部14からX線吸収データを受けかつ
エンコーダなどの回転位置検出部15からの回転位置デ
ータを受けると、画像再構成処理回路16を用いて被検
体6の断面像を作成するとともに、制御コンソール8を
介してCRTディスプレイ11に表示する。
またを:′1人為的な操作に基づいて回転制御部9、放
射線制御部10および中央演舞処理ユニノ111(以下
、CPUと指相、する)にそれぞれ所定のタイミングで
動作開始信号を供給する。ここで、回転制御部9は、制
御コンソール8からのJ11令を受けて回転部!11機
構部12に[1転駆動制御信月を与え、口1転フレーム
2を連続またシ、]間欠回転させる。一方、放射線制御
部10は、放射線駆動制御信号をX線管3に与え、これ
によりX線管3から間欠的にファン状X線ビーム13が
被検体6に照射される。このとき、被検体6からX線透
過データが透過されて出てくるが、このデータを、X線
検出器4により検出し、ここで電気的なX線吸収データ
に変換し、さらにデータ収集部14によってデータ収集
がなされた後、CPUIIに送られる。このCPUJl
では、データ収集部14からX線吸収データを受けかつ
エンコーダなどの回転位置検出部15からの回転位置デ
ータを受けると、画像再構成処理回路16を用いて被検
体6の断面像を作成するとともに、制御コンソール8を
介してCRTディスプレイ11に表示する。
ところで、以上のような装置においては、回転位置検出
部15から出力される回転位置データを用いて被検体6
0角度位置を定めつつ断面像を作成しているが、この断
面像が正確な位置関係を有して作成されるためには、回
転フレーム2の回転に対してX線管3のX線発生点aと
X線検出器4との相対的位置関係が正確である必要があ
り、このことは必然的に各機器3.4の据付は精度が問
題となってくる。また、回転フレーム2や各機器3,4
は真円を保持しつつ所定の等角度で回転させる必要があ
るが、このために社回転フレーム2およびこのフレーム
2を回転させる回転駆動機構系の仕上げ寸法が高精度で
なIJればならず、また各機器3,40回転フレーム2
への取付は作業は厳密な調整を行ないつつ所定の位置に
据付ける必要がある。従って、従来の装置は、各機器3
,4の据付は作業が煩雑であり、また回転フレーム2を
含む回転駆動機構系全体が高寸法精度で製作および組立
てなければならず、ま圧波検体C自体およびその被検体
6の設定の仕方が特定されてしまうために検査上の制約
が多すぎる欠点があった。
部15から出力される回転位置データを用いて被検体6
0角度位置を定めつつ断面像を作成しているが、この断
面像が正確な位置関係を有して作成されるためには、回
転フレーム2の回転に対してX線管3のX線発生点aと
X線検出器4との相対的位置関係が正確である必要があ
り、このことは必然的に各機器3.4の据付は精度が問
題となってくる。また、回転フレーム2や各機器3,4
は真円を保持しつつ所定の等角度で回転させる必要があ
るが、このために社回転フレーム2およびこのフレーム
2を回転させる回転駆動機構系の仕上げ寸法が高精度で
なIJればならず、また各機器3,40回転フレーム2
への取付は作業は厳密な調整を行ないつつ所定の位置に
据付ける必要がある。従って、従来の装置は、各機器3
,4の据付は作業が煩雑であり、また回転フレーム2を
含む回転駆動機構系全体が高寸法精度で製作および組立
てなければならず、ま圧波検体C自体およびその被検体
6の設定の仕方が特定されてしまうために検査上の制約
が多すぎる欠点があった。
本発明は以上のような点に着目してなされたもので、放
射線発生点の位置を正確に計測して断゛面像の再構成に
反映せしめ得、かつ放射線発生器と放射線検出器との位
置設定および被検体のデータ収集のだめの走査をフレキ
シビリテイに行なうことにより、寸法精度や被検体等の
制約を軽減せしめる産業用断層撮影装置を提供すること
に弗る。
射線発生点の位置を正確に計測して断゛面像の再構成に
反映せしめ得、かつ放射線発生器と放射線検出器との位
置設定および被検体のデータ収集のだめの走査をフレキ
シビリテイに行なうことにより、寸法精度や被検体等の
制約を軽減せしめる産業用断層撮影装置を提供すること
に弗る。
本発明は、放射線発生器と放射線検出器とが互いに非拘
束で位置設定するとともに、放射線発生位置計測手段を
設け、本走査中車たけ本走査前に前記放射線発生計測手
段を用いて各走査位置1での放射線発生器の放射線発生
位置を算出し、こ、の放射線発生位置を用いて再構成画
像処理を行、なって被検体の断面像を作成する産業用断
層撮影装置。
束で位置設定するとともに、放射線発生位置計測手段を
設け、本走査中車たけ本走査前に前記放射線発生計測手
段を用いて各走査位置1での放射線発生器の放射線発生
位置を算出し、こ、の放射線発生位置を用いて再構成画
像処理を行、なって被検体の断面像を作成する産業用断
層撮影装置。
次に、本発明装置、の−実施、例について第1図なやし
第3図を参照して説明する。第1図は本発明装置の機構
部の平面図、第2図は載置の電気的構成を示すブロック
図、第3図は放射線発生点位fit+測手段を説明する
図である。即ち、装置機構部としては、放射線発生系2
0と放射線検出系30とが床上にそれぞれ別々に自由に
移動し得るように設置されてなり、かつ両系20.30
間に例えば長尺状の被検体40が配置されている。
第3図を参照して説明する。第1図は本発明装置の機構
部の平面図、第2図は載置の電気的構成を示すブロック
図、第3図は放射線発生点位fit+測手段を説明する
図である。即ち、装置機構部としては、放射線発生系2
0と放射線検出系30とが床上にそれぞれ別々に自由に
移動し得るように設置されてなり、かつ両系20.30
間に例えば長尺状の被検体40が配置されている。
前記放射線発生系20は、床上に所定の開き角度をもっ
てそれぞれ2個ずつの固定パッド21.21によって支
持返れた支持体22゜22と、これらの支持体:I2,
22間にそれぞれ所定の間隔を有して平行に支持されて
なる走査駆動ねじ23およびこの走査駆動ねじ23を挾
む如く設けられた一対のガイドレール24゜24と、前
記走査駆動ねじ23に螺合され、例えば図示右側の支持
体22に内蔵された走査駆動部25の駆動による走査駆
動ねじ23の回転方向に応じて図示右側方向または図示
左側方面に所定の速度で移動する走査フレーム26とが
備えられ、かつ前記走査フレーム26−Lに首振り機@
xyを介して放射線発生器(例えばX線管等)28が載
置されてなるものである。29は放射線発生器28から
放射されるファン状放射線ビームである。4ノは放射線
発生器28の前面側に設置された較正用検出器であって
、これは放射線発生器28から放射される放射線ビーム
の強度を検出し、後述するCPUでその検出データを用
いて放射線検出系30の出力データを仮想的に求め、こ
の仮想データと放射線検出系30からの実出力データと
の比から較正用データを求めて較正の用に供せしめるも
のである〇 一方、放射線検出系30は、横方向に列状をなして多数
の検出素子を密接配置させた放射線検出器31を有し、
この検出器31の後部側にはデータ収集部32が設けら
れ、かつこれらの機器3!、320両側端にそれぞれ放
射線源位置検出手段33に、33Bが設けられており、
これら各要素31〜33Bは一体化されて前述同様に複
数の固定パッド34.・・によって床−Lに設置されて
いる。前記放射線源位置検出手段3JA、3.9Bは、
予め知りうる規則的または不規則重々間隔をもって複数
の放射線透過用ピンホールが穿けられたマルチビンボー
ルコリメータ板331に、331Bと、このコリメータ
板、9J7A、331Bの後方側に所定の距離を有して
配置されピンホールを通って入射されるピンホールビー
ムの二次元位置を検出する二次元放射線検出器332A
、332Bとによって構成されている。
てそれぞれ2個ずつの固定パッド21.21によって支
持返れた支持体22゜22と、これらの支持体:I2,
22間にそれぞれ所定の間隔を有して平行に支持されて
なる走査駆動ねじ23およびこの走査駆動ねじ23を挾
む如く設けられた一対のガイドレール24゜24と、前
記走査駆動ねじ23に螺合され、例えば図示右側の支持
体22に内蔵された走査駆動部25の駆動による走査駆
動ねじ23の回転方向に応じて図示右側方向または図示
左側方面に所定の速度で移動する走査フレーム26とが
備えられ、かつ前記走査フレーム26−Lに首振り機@
xyを介して放射線発生器(例えばX線管等)28が載
置されてなるものである。29は放射線発生器28から
放射されるファン状放射線ビームである。4ノは放射線
発生器28の前面側に設置された較正用検出器であって
、これは放射線発生器28から放射される放射線ビーム
の強度を検出し、後述するCPUでその検出データを用
いて放射線検出系30の出力データを仮想的に求め、こ
の仮想データと放射線検出系30からの実出力データと
の比から較正用データを求めて較正の用に供せしめるも
のである〇 一方、放射線検出系30は、横方向に列状をなして多数
の検出素子を密接配置させた放射線検出器31を有し、
この検出器31の後部側にはデータ収集部32が設けら
れ、かつこれらの機器3!、320両側端にそれぞれ放
射線源位置検出手段33に、33Bが設けられており、
これら各要素31〜33Bは一体化されて前述同様に複
数の固定パッド34.・・によって床−Lに設置されて
いる。前記放射線源位置検出手段3JA、3.9Bは、
予め知りうる規則的または不規則重々間隔をもって複数
の放射線透過用ピンホールが穿けられたマルチビンボー
ルコリメータ板331に、331Bと、このコリメータ
板、9J7A、331Bの後方側に所定の距離を有して
配置されピンホールを通って入射されるピンホールビー
ムの二次元位置を検出する二次元放射線検出器332A
、332Bとによって構成されている。
次に、第2図に示す装置の電気的構成は、放射線検出器
3Iと放射線源位置検出手段33”A。
3Iと放射線源位置検出手段33”A。
JJBとがデータ収集部42を介してCPU4Jに接続
されており、このCPU4Jは走査制御部44および放
射線制御部45とともに制御コンソール46の指令の下
に所定の動作を行なうようになっている。この走査制御
部44は走査駆動部25を駆動制御し、放射線制御部4
5は放射線発生器2Bを駆動制御する。47は画像再構
成処理回路、48はCRTディスプレイ装置である。
されており、このCPU4Jは走査制御部44および放
射線制御部45とともに制御コンソール46の指令の下
に所定の動作を行なうようになっている。この走査制御
部44は走査駆動部25を駆動制御し、放射線制御部4
5は放射線発生器2Bを駆動制御する。47は画像再構
成処理回路、48はCRTディスプレイ装置である。
次に、以上のように構成された装置の作用を説明する。
制御コンソール46がシーケンスプログラムまだは人為
的操作に基づいて所定のタイミングで各部43〜45に
動作指令信号を与え石と、放射線制御部45け簡欠的に
放射線発生器28を駆動してファン状放射線ビーム50
を被検体40に照射し、一方、走査制御部44において
は走査駆動部25を制御して走査ンレーム26を例えば
右側端部から左側端部へ所定の速度で移動させていく。
的操作に基づいて所定のタイミングで各部43〜45に
動作指令信号を与え石と、放射線制御部45け簡欠的に
放射線発生器28を駆動してファン状放射線ビーム50
を被検体40に照射し、一方、走査制御部44において
は走査駆動部25を制御して走査ンレーム26を例えば
右側端部から左側端部へ所定の速度で移動させていく。
このとき、首振り機構27は、走査駆動ねじ23と螺着
して所定のギヤ比で回転する歯車機構な戸を介して走査
フレーム26の移動距離に伴なって左側から右側方向に
首振りを行なうことにより、放射線発生器28から常に
放射線検出器3ノおよび両放射線源位置検出手段33に
、33Bを覆う幅をもってファン状放射線ビーム50が
放射されることになる。
して所定のギヤ比で回転する歯車機構な戸を介して走査
フレーム26の移動距離に伴なって左側から右側方向に
首振りを行なうことにより、放射線発生器28から常に
放射線検出器3ノおよび両放射線源位置検出手段33に
、33Bを覆う幅をもってファン状放射線ビーム50が
放射されることになる。
一方、放射線検出系s o lllにあっては、被検体
40から透過されて出てくる放射線透過データを放射線
検出器31で検出し、また各放射線源位置検出手段Jj
A、33Bでは各コリメータ板331に、331Bのピ
ンホールを通って入射されるピンホールビームを二次元
放射線検出器332に、332Bによりピンホールの数
だけ二次元位置データとして検出する。これらの各検出
器37.332に、332Bはそれぞれ入射される放射
線の強度に比例しだ電気的な・放射線吸収データに変換
した後、それぞれ対応するデータ収集部42を通ってC
PUJJへ送られる。
40から透過されて出てくる放射線透過データを放射線
検出器31で検出し、また各放射線源位置検出手段Jj
A、33Bでは各コリメータ板331に、331Bのピ
ンホールを通って入射されるピンホールビームを二次元
放射線検出器332に、332Bによりピンホールの数
だけ二次元位置データとして検出する。これらの各検出
器37.332に、332Bはそれぞれ入射される放射
線の強度に比例しだ電気的な・放射線吸収データに変換
した後、それぞれ対応するデータ収集部42を通ってC
PUJJへ送られる。
しかして、CPU4Jはデータ収集部42から送られて
くる放射線吸収データを受けて補正処理および画像再構
成処理回路47を用いて再構成画像処理を行なう。補正
処理は放射線吸収デ ′−夕を受けて遂次オフセット補
正、リファレンス補正および放射線強度変動に伴なう補
正を放射線検出器31の各放射線検出素子別に行なうも
のであり、そのために較正用検出器41からデータ収集
部42を介して取り込んだ放射線強度に比例したディジ
タルデータを用いて行なう。
くる放射線吸収データを受けて補正処理および画像再構
成処理回路47を用いて再構成画像処理を行なう。補正
処理は放射線吸収デ ′−夕を受けて遂次オフセット補
正、リファレンス補正および放射線強度変動に伴なう補
正を放射線検出器31の各放射線検出素子別に行なうも
のであり、そのために較正用検出器41からデータ収集
部42を介して取り込んだ放射線強度に比例したディジ
タルデータを用いて行なう。
即ち、放射線発生器28の放射線発生点aから較正用検
出器41までの距離をr6、この発生点aから放射線検
出器3ノまでの距離をrとし、かつ較正用検出器41で
検出された放射線強度に比例した信号をIRef と
すると、放射線検出器31から検出されるべき仮想的な
信号I0 は、によって求められる。kは定数である
。一方、実際に被検体40を透過して放射i!!検出器
31によって検出された信号をIとすると、較正信号1
/I は、 によって求められる。ここで、α、1]f は検出素
子ごとに異なる定数である。従って、CPU4Jは、以
上のような式に基づいて較正信号を得、各検出素子ごと
にその出力を較正する。
出器41までの距離をr6、この発生点aから放射線検
出器3ノまでの距離をrとし、かつ較正用検出器41で
検出された放射線強度に比例した信号をIRef と
すると、放射線検出器31から検出されるべき仮想的な
信号I0 は、によって求められる。kは定数である
。一方、実際に被検体40を透過して放射i!!検出器
31によって検出された信号をIとすると、較正信号1
/I は、 によって求められる。ここで、α、1]f は検出素
子ごとに異なる定数である。従って、CPU4Jは、以
上のような式に基づいて較正信号を得、各検出素子ごと
にその出力を較正する。
そし゛C1以ヒのような補正処理を行なった後、再構成
画像処理によって被検体40の断面像を作成するが、こ
の場合には放射線発生点aの位置を明らかにする必要が
あり、この処理は次のようにして行、tう。例えば真正
面からコリメータ1Hi331A、331Bのピンホー
ルを通って二次元放射線検出器3321.332Bで検
出する放射線ビーへ29に係るピンホールビーム位置デ
ータおよびコリメータ板3311.331Bから二次元
放射線検出器332に、332B 二’f、での距離デ
ータとを既知データとして予めCPU43のメモリに格
納しておく。しかる後、実際の本走査のときに放射線発
生器28の放射線発生点aから放射される放射線ビーム
29を第3図に示すようにコリメータ板3.91A、3
31BのピンホールPA、PBを介(7て二次元放射、
S検出器332k。
画像処理によって被検体40の断面像を作成するが、こ
の場合には放射線発生点aの位置を明らかにする必要が
あり、この処理は次のようにして行、tう。例えば真正
面からコリメータ1Hi331A、331Bのピンホー
ルを通って二次元放射線検出器3321.332Bで検
出する放射線ビーへ29に係るピンホールビーム位置デ
ータおよびコリメータ板3311.331Bから二次元
放射線検出器332に、332B 二’f、での距離デ
ータとを既知データとして予めCPU43のメモリに格
納しておく。しかる後、実際の本走査のときに放射線発
生器28の放射線発生点aから放射される放射線ビーム
29を第3図に示すようにコリメータ板3.91A、3
31BのピンホールPA、PBを介(7て二次元放射、
S検出器332k。
332Bで演出する〇そして、ピンホールビーム検出位
置データ6データ収集部、7 jを介してCP U 4
3に人υさ比るが、ここでCP U 43は既知データ
であるピンホールビーム【■量データを読出してピンホ
ールビーム検出位置データのx、y方向のずれ量を求め
、かつこのずれ量データと前記距離データとを用いてそ
れぞれの放射線ビーム方向を求めて交点を計算によって
得、この交点を放射線発生点1とするものである。
置データ6データ収集部、7 jを介してCP U 4
3に人υさ比るが、ここでCP U 43は既知データ
であるピンホールビーム【■量データを読出してピンホ
ールビーム検出位置データのx、y方向のずれ量を求め
、かつこのずれ量データと前記距離データとを用いてそ
れぞれの放射線ビーム方向を求めて交点を計算によって
得、この交点を放射線発生点1とするものである。
このようにして放射線発生点aを求めた後、この発生点
aを用いて従来周知の再構成画像処理により被検体40
の断面像を作成するものである0 従って、以上のような構成によれば、放射線検出系30
@Jにおいて放射線検出器31の両側に放射線源位置検
出手段ask、ssBを設け、放射線発生器28の放射
線発生点aの位置を求めて再構成画像処理を行なうよう
にしたので、従来のようにX線管3およびX線検出器4
を高精度に据付ける必要がなく、また回転テーブル2お
よびその回転駆動系が常に真円を維持して回転させる必
要がなくなり、寸法精度などについてそれほど問題とな
らない。このことは、放射線発生系20と放射線検出系
30とを別体的に組立゛Cおよび設置できるため、取扱
いの−りでも便利であり、位置設定も大まかでよく、被
検体40にも制約されずに断面像を作成できる。
aを用いて従来周知の再構成画像処理により被検体40
の断面像を作成するものである0 従って、以上のような構成によれば、放射線検出系30
@Jにおいて放射線検出器31の両側に放射線源位置検
出手段ask、ssBを設け、放射線発生器28の放射
線発生点aの位置を求めて再構成画像処理を行なうよう
にしたので、従来のようにX線管3およびX線検出器4
を高精度に据付ける必要がなく、また回転テーブル2お
よびその回転駆動系が常に真円を維持して回転させる必
要がなくなり、寸法精度などについてそれほど問題とな
らない。このことは、放射線発生系20と放射線検出系
30とを別体的に組立゛Cおよび設置できるため、取扱
いの−りでも便利であり、位置設定も大まかでよく、被
検体40にも制約されずに断面像を作成できる。
なお、上記実施例では各コリメータ板33 、、I A
。
。
331BI7C複数個のピンホールPA、・・・、PB
・を形成I7たが、それぞれi flDずつであっても
よい。また、ピンホールPA、PBではなく任意のパタ
ーン例え■形ボール、凹形ホールの何れでもよいもので
ある。
・を形成I7たが、それぞれi flDずつであっても
よい。また、ピンホールPA、PBではなく任意のパタ
ーン例え■形ボール、凹形ホールの何れでもよいもので
ある。
次に、第4図(A) +Φ)は本発明装置の第2の実施
例を示す図である。同図(A)は平面図、同図(B)は
左側臀篠ある。即ち、この実施例装置は、被検体40の
放射線透過データを収集する走査とは別に放射線発生点
を側°測するだめの走査を行なうことおよび縦長の被検
体40の検査に最適な構成にしたことである。先r1前
者の放射線源位置検出手段と1.では、放射線発生器2
8の前面側にマルチピンホールシャッタ61お、よびジ
−ツタ駆動部62を設け、一方、放射線検出系3o81
11から放射線源位置検出手段33A。
例を示す図である。同図(A)は平面図、同図(B)は
左側臀篠ある。即ち、この実施例装置は、被検体40の
放射線透過データを収集する走査とは別に放射線発生点
を側°測するだめの走査を行なうことおよび縦長の被検
体40の検査に最適な構成にしたことである。先r1前
者の放射線源位置検出手段と1.では、放射線発生器2
8の前面側にマルチピンホールシャッタ61お、よびジ
−ツタ駆動部62を設け、一方、放射線検出系3o81
11から放射線源位置検出手段33A。
33Bを取り除いてその機能を前記マルチピンホールシ
ャッタ61と放射線検出器31で行なうことにある。具
体的な計測手段としては、本来のデータ収集走査に先だ
ち、マルチピンボールシャッタ61を閉の状態にし、本
走査と同洋々走査を行ない寿から放射線発生器28から
一ノアン状放射線ビーム29を放射し、マルチピンホー
ルシャッタ61を通してマルチベンシルビームを放射線
検出系30側へ放射する。モして、このマルチペンシル
ど−ムを放射線検出器31で検出し、この検出データを
データ収集部42を介してCPU43で取得する。この
CPU43にハ予メマルチピンホールシャソタ61の各
ピンホール位置データおよび各ピンホールから放射線発
生点aまでの距離データが格納されているので、これ、
らの既知データと前記放射線検出器31によって検出さ
れたビーl、位置データとを用いて三角区分法などの割
算により各走査位置での放射線発生点aを求め、これら
を記憶1.ておく。そして、本走査によって被検体40
に係るデータが収集されると、前記放射線発生点aの記
憶データを読出して再構成画像処理に使用する。なお、
本走査時にはマルチピンホールシャッタ61を開状態と
し、放射線発生器28からの放射線がし中蔽されないよ
うにする。
ャッタ61と放射線検出器31で行なうことにある。具
体的な計測手段としては、本来のデータ収集走査に先だ
ち、マルチピンボールシャッタ61を閉の状態にし、本
走査と同洋々走査を行ない寿から放射線発生器28から
一ノアン状放射線ビーム29を放射し、マルチピンホー
ルシャッタ61を通してマルチベンシルビームを放射線
検出系30側へ放射する。モして、このマルチペンシル
ど−ムを放射線検出器31で検出し、この検出データを
データ収集部42を介してCPU43で取得する。この
CPU43にハ予メマルチピンホールシャソタ61の各
ピンホール位置データおよび各ピンホールから放射線発
生点aまでの距離データが格納されているので、これ、
らの既知データと前記放射線検出器31によって検出さ
れたビーl、位置データとを用いて三角区分法などの割
算により各走査位置での放射線発生点aを求め、これら
を記憶1.ておく。そして、本走査によって被検体40
に係るデータが収集されると、前記放射線発生点aの記
憶データを読出して再構成画像処理に使用する。なお、
本走査時にはマルチピンホールシャッタ61を開状態と
し、放射線発生器28からの放射線がし中蔽されないよ
うにする。
一方、後者の縦長の被検体検査に対しては、走査フレー
ム26の上部に昇降駆動ねじ63を立役するとともに、
放射線発生器28の後部に設けた螺子係合片64を昇降
駆動ねじ63に係合せしめ、昇降駆動部65による昇降
駆動ねじ63の駆動により放射線発生器28を昇降制御
する066はガイドレールである。放射線検出系30に
あっては、放射線検出器31の後部両側にそれぞれブロ
ック67.61’を介して螺子保合片68,611’を
取着するとともに、この螺子保合片611.68’に螺
合する昇降駆動ねじ69,69’を立設し、この昇降駆
動ねじ69.69’に昇降駆動部70から歯車などの回
転伝達系7Iを介し′C回転力を与え、放射線検出器3
1を昇降制御する。この場合、両系20.30の昇降駆
動系は同期して駆動制御することが望ましい。72.7
2’はガイドレールである。
ム26の上部に昇降駆動ねじ63を立役するとともに、
放射線発生器28の後部に設けた螺子係合片64を昇降
駆動ねじ63に係合せしめ、昇降駆動部65による昇降
駆動ねじ63の駆動により放射線発生器28を昇降制御
する066はガイドレールである。放射線検出系30に
あっては、放射線検出器31の後部両側にそれぞれブロ
ック67.61’を介して螺子保合片68,611’を
取着するとともに、この螺子保合片611.68’に螺
合する昇降駆動ねじ69,69’を立設し、この昇降駆
動ねじ69.69’に昇降駆動部70から歯車などの回
転伝達系7Iを介し′C回転力を与え、放射線検出器3
1を昇降制御する。この場合、両系20.30の昇降駆
動系は同期して駆動制御することが望ましい。72.7
2’はガイドレールである。
従って、この実施例の構成によれば、放射線検出系30
をコンパクトな構成とすることができ、また被検体40
が縦方向に長いものでも被検体40の各個所を輪切り状
にしてその断面像を作成することができる。
をコンパクトな構成とすることができ、また被検体40
が縦方向に長いものでも被検体40の各個所を輪切り状
にしてその断面像を作成することができる。
次に、第5図は本発明装置の第3の実施例を示す図であ
る。この実施例は、放射線源位置検出手段としては放射
線検出器31の上部、下部または中間部に所定間隔を有
して複数の放射線テ1ノビカメラ13,73.・・・を
配置し、かつ第1図のようにカメラ前面にマルチピンホ
ールコリメータ板を設けるか、第4図のように放射線発
生器28の前面側にマルチピンホールシャッタ6ノを設
けることによっても同様に放射線発生点aを計測するこ
とができる。
る。この実施例は、放射線源位置検出手段としては放射
線検出器31の上部、下部または中間部に所定間隔を有
して複数の放射線テ1ノビカメラ13,73.・・・を
配置し、かつ第1図のようにカメラ前面にマルチピンホ
ールコリメータ板を設けるか、第4図のように放射線発
生器28の前面側にマルチピンホールシャッタ6ノを設
けることによっても同様に放射線発生点aを計測するこ
とができる。
次に、第6図は電子走査X線管を用いた断層撮影装置に
適用した例である。即ち、この適用例は、リング状の放
射線発生ターゲット8ノと、このターゲット81よりも
上側または下側に位置するようにリング状放射線検出器
82とを設け、ターゲット81を走査して放射線発生点
aを順次移動させながら被検体40を検査するものであ
る。この場合の放射線源位置検出手段83はリング状放
射線検出器82の上側または下側に設け、放射線発生点
aを検出するものである。
適用した例である。即ち、この適用例は、リング状の放
射線発生ターゲット8ノと、このターゲット81よりも
上側または下側に位置するようにリング状放射線検出器
82とを設け、ターゲット81を走査して放射線発生点
aを順次移動させながら被検体40を検査するものであ
る。この場合の放射線源位置検出手段83はリング状放
射線検出器82の上側または下側に設け、放射線発生点
aを検出するものである。
その他、本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形
して実施できる。
して実施できる。
以上詳記したように本発明によれば、走査中の放射線発
生点の位置を放射線源検出手段およびCPUにより自動
的に求めて再構成画像処理に反映させるようにしたので
、放射線発生器と放射線検出器の位置設定および走査を
フレキシビリティに取扱うことができ、かつ両系を別々
に設置できるため被検体に制約されずに検査できる産業
用断層撮影装置を提供できる。
生点の位置を放射線源検出手段およびCPUにより自動
的に求めて再構成画像処理に反映させるようにしたので
、放射線発生器と放射線検出器の位置設定および走査を
フレキシビリティに取扱うことができ、かつ両系を別々
に設置できるため被検体に制約されずに検査できる産業
用断層撮影装置を提供できる。
第1図ないし第3図は本発明に係る産業用断層撮影装置
の第1の実施例を説明するために示したもので、第1図
は装置機構部を示す平面図、第2図は装置の電気重々構
成を示す図、第3図は第1図に示す放射線源位置検出手
段を説明するための模式図、第4図は本発明装置の第2
の実施例を説明するための図であって、同図(A)は一
部を断面にして示す平面図、同図(6)は一部を断面に
して示す左側面図、第5図は同じく本発明装置の他の実
施例を示す概略平面図、第6図は電子走査X線管を持っ
九断層撮影装置に放射線源位置検出手段を適用した図、
第7図は従来装置の構成図である。 20・・・放射線発生系、23・・・走査駆動ねじ、2
5・・・走査駆動部、26・・・走査フレーム、27・
・・首振り機構、28・・・放射線発生器、30・・・
放射線検出系、31・・・放射線検出器、32・・・デ
ータ収集部、33に、33B・・・放射線源検出手段、
40・・・被検体、41・・・較正用検出器、43・・
・CPTJ、44・・・走査制御部、45・・・放射線
制御部、46・・・制御コンソール、47・・・画像再
構成処理回路、6ノ・・・マルチピンホールシャッタ、
62・・・シャッタ駆動部、63,69.69’・・昇
降駆動ねじ、65.70・・昇降駆動部、73・・・放
射線テレビカメラ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦、 第3
図 争 氏 第4図 第4図 第5図
の第1の実施例を説明するために示したもので、第1図
は装置機構部を示す平面図、第2図は装置の電気重々構
成を示す図、第3図は第1図に示す放射線源位置検出手
段を説明するための模式図、第4図は本発明装置の第2
の実施例を説明するための図であって、同図(A)は一
部を断面にして示す平面図、同図(6)は一部を断面に
して示す左側面図、第5図は同じく本発明装置の他の実
施例を示す概略平面図、第6図は電子走査X線管を持っ
九断層撮影装置に放射線源位置検出手段を適用した図、
第7図は従来装置の構成図である。 20・・・放射線発生系、23・・・走査駆動ねじ、2
5・・・走査駆動部、26・・・走査フレーム、27・
・・首振り機構、28・・・放射線発生器、30・・・
放射線検出系、31・・・放射線検出器、32・・・デ
ータ収集部、33に、33B・・・放射線源検出手段、
40・・・被検体、41・・・較正用検出器、43・・
・CPTJ、44・・・走査制御部、45・・・放射線
制御部、46・・・制御コンソール、47・・・画像再
構成処理回路、6ノ・・・マルチピンホールシャッタ、
62・・・シャッタ駆動部、63,69.69’・・昇
降駆動ねじ、65.70・・昇降駆動部、73・・・放
射線テレビカメラ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦、 第3
図 争 氏 第4図 第4図 第5図
Claims (8)
- (1)放射線発生器および放射線検出器のうち少なくと
も放射線発生器を被検体と相対的に、または被検体無し
の状態で移動させる走査手段と、この走査手段によって
前記放射線発生器から放射される放射線ビームをパター
ン板を通してパターン通過ビームを検出し、このパター
ン通過ビームの検出位置から前記放射線発生器の放射線
発生点を計測する放射線発生位置計測手段と、前記走査
手段によって取得された前記被検体に関する放射線吸収
データの補正処理を行なうとともに、前記放射線源位置
計測手段によって求められた放射線発生点位置データを
用いて再構成画像処理を行なって前記被検体の断面像を
作成する画像作成手段とを備えたことを特徴とする産業
用断層撮影装置。 - (2)放射線発生器および放射線検出器は、それぞれ独
立して別体的に構成されたものである特許請求の範囲第
1項記載の産業用断層撮影装置。 - (3)パターン板は、少なくとも1個以上のピンホール
が形成されたものである特許請求の範囲第1項記載の産
業用断層撮影装置。 - (4)パターン板は、予め定められた任意の形状のパタ
ーンが形成されたものである特許請求の範囲第1項記載
の産業用断層撮影装置。 - (5)放射線発生位置計測手段は、前記放射線検出器の
両側にそれぞれ設けられた少なくとも1個以上のピンホ
ールが形成されたパターン板およびこのパターン板から
所定距離後方に配置された二次元放射線検出器よりなる
放射線源位置検出手段と、これらの二次元放射線検出器
によってそれぞれ検出された既ビーム位置データに対す
るピンホールビーム検出位置の二次元的なずれ量データ
と前記所定距離データとを用いて放射線発生点を求める
演算手段とを有するものである特許請求の範囲第1項記
載の産業用断層撮影装置。 - (6)放射線発生位置計測手段は、放射線発生器の前面
側にパターン板としてのマルチピンホールシャッタ板を
設けるとともに、このシャッタ板の各ピンホールの位置
データおよび各ピンホールから放射線発生点までの距離
データを予め記憶し、この記憶データと前記放射線検出
器で検出される前記シャッタ板のピンホールからのピン
ホールビーム位置データとを用いて前記放射線発生点を
求めるものである特許請求の範囲第1項記載の産業用断
層撮影装置。 - (7)放射線発生位置計測手段は、少なくとも1個以上
のピンホールが形成された複数のパターン板およびこれ
らのパターン板から所定距離後方に配置された放射線テ
レビカメラよりなる放射線源位置検出手段と、これらの
テレビカメラによってそれぞれ検出された既ビーム位置
データに対するピンホールビーム検出位置の二次元的な
ずれ量データと前記所定距離データとを用いて放射線発
生点を求める演算手段とを有するものである特許請求の
範囲第1項記載の産業用断層撮影装置。 - (8)放射線吸収データの補正処理手段は、放射線発生
器の前面側に設けられ放射線ビーム強度を検出する較正
用検出器と、この較正用検出器の出力から演算によって
放射線検出器側から得られる放射線吸収データを仮想的
に求めるとともに、この仮想放射線吸収データと実放射
線吸収データとの比から較正データを得、前記実放射線
吸収データを較正する手段とを有するものである特許請
求の範囲第1項記載の産業用断層撮影装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59185712A JPS6162847A (ja) | 1984-09-05 | 1984-09-05 | 産業用断層撮影装置 |
US06/770,248 US4907157A (en) | 1984-09-05 | 1985-08-28 | Method and system for allowing imaging of any size object through use of separate source and detector unit |
DE19853531741 DE3531741A1 (de) | 1984-09-05 | 1985-09-05 | Tomographiegeraet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59185712A JPS6162847A (ja) | 1984-09-05 | 1984-09-05 | 産業用断層撮影装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6162847A true JPS6162847A (ja) | 1986-03-31 |
Family
ID=16175531
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59185712A Pending JPS6162847A (ja) | 1984-09-05 | 1984-09-05 | 産業用断層撮影装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6162847A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001061827A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-03-13 | Siemens Ag | 移動形x線装置及び撮影位置の決定方法 |
JP2007232530A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Toshiba Corp | X線検査装置およびx線検査方法 |
WO2019204887A1 (pt) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | Issamu Haraguchi Marcio | Sistema e processo de imageamento de equipamentos industriais |
-
1984
- 1984-09-05 JP JP59185712A patent/JPS6162847A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001061827A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-03-13 | Siemens Ag | 移動形x線装置及び撮影位置の決定方法 |
JP2007232530A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Toshiba Corp | X線検査装置およびx線検査方法 |
WO2019204887A1 (pt) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | Issamu Haraguchi Marcio | Sistema e processo de imageamento de equipamentos industriais |
US11442030B2 (en) | 2018-04-24 | 2022-09-13 | Marcio Issamu Haraguchi | Imaging system for industrial equipment and process |
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