JP3081002B2 - ガンマ又はｘ線によるテスト対象物検査装置 - Google Patents

ガンマ又はｘ線によるテスト対象物検査装置

Info

Publication number
JP3081002B2
JP3081002B2 JP03000218A JP21891A JP3081002B2 JP 3081002 B2 JP3081002 B2 JP 3081002B2 JP 03000218 A JP03000218 A JP 03000218A JP 21891 A JP21891 A JP 21891A JP 3081002 B2 JP3081002 B2 JP 3081002B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
detector
test object
ray
slit diaphragm
slit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP03000218A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04160351A (ja
Inventor
コサネツスキー ヨーゼフ
ハインツ フィッシャー カール
Original Assignee
イクスロン インターナショナル ホールディング ゲーエムベーハー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by イクスロン インターナショナル ホールディング ゲーエムベーハー filed Critical イクスロン インターナショナル ホールディング ゲーエムベーハー
Publication of JPH04160351A publication Critical patent/JPH04160351A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3081002B2 publication Critical patent/JP3081002B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20066—Measuring inelastic scatter of gamma rays, e.g. Compton effect
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/05—Investigating materials by wave or particle radiation by diffraction, scatter or reflection
    • G01N2223/063—Investigating materials by wave or particle radiation by diffraction, scatter or reflection inelastic scatter, e.g. Compton effect
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
    • G01N2223/101—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
    • G01N2223/1013—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation gamma
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
    • G01N2223/101—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
    • G01N2223/1016—X-ray
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/316—Accessories, mechanical or electrical features collimators
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/32—Accessories, mechanical or electrical features adjustments of elements during operation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/321—Accessories, mechanical or electrical features manipulator for positioning a part

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はテスト対象物に向けられ
る少なくとも一つの１次Ｘ線ペンシルビームを発生する
１次Ｘ線源と、テスト対象物と検出器との間に配置され
る少なくとも一つのスリットダイアフラムとからなり、
ガンマ又はＸ線によりテスト対象物を検査し、テスト対
象物に１次ビームにより発生した２次Ｘ線（コンプトン
効果）を少なくとも一つの検出器に向ける装置に係る。
【０００２】
【従来の技術】この種の装置は欧州特許明細書第１８４
２４７号で公知であり、高品質部品、例えば航空宇宙産
業に用いられる部品の非破壊検査に用いられる。
【０００３】テスト対象物の物質を貫通するペンシル型
１次Ｘ線ビームの強度は吸収及び散乱により変化する。
１次放射エネルギーが大きくなるにつれ、コンプトン散
乱は大きくなり、その散乱は１次放射線の通路上の物質
の各点から実質的に球状に伝搬する。従ってコンプトン
散乱の強度は全ての角方向に実質的に等しい。軽金属，
プラスチック，積層又はセラミックのような優れた物質
は有利に試験されうる。
【０００４】１次の放射線方向に対して後方散乱される
２次放射線の物質が適切な検出器により検出される時、
特に簡単なテスト用装置が得られる。次に、検出器は１
次Ｘ線源と同じテスト対象物側に配置される。
【０００５】スリットダイアフラムはピンホールカメラ
と同じように動作する。検出器に関する空間のその位置
は１次ビーム，路に位置するテスト対象物のその点から
決められ、散乱放射線は検出器に至る。テスト対象物の
３次元領域は検査装置に対するテスト対象物の変位又は
その逆により検査されうる。
【０００６】複数の検出器のアレーが用いられる場合、
所定の奥行範囲で１次Ｘ線ビームの方向に互いに続くテ
スト対象物の点はテスト対象物又は検査装置の置換なし
に走査されうる。更に、１次Ｘ線ビームは、例えば欧州
特許明細書第１８４２４７号に記載のような適切なたわ
み装置によりビーム方向に直角にシフトされ、これによ
りテスト対象物の面は検査装置の複雑な変位なしに走査
されうる。
【０００７】テスト対象物及び検査装置間の所定の空間
関係に対し、測定されうる奥行範囲はスリットダイアフ
ラム及び検出器の位置間の幾何方向関係により予め決め
られる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、検出
器によりカバーされるテスト対象物の奥行範囲がテスト
対象物又は検査装置の位置を変えることなしに変えられ
うるような上記種類の装置を構成することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的は、検出器に関
するスリットダイアフラムの位置が調整装置により変更
されうることにより達せられる。
【００１０】本発明によりスリットダイアフラム又は検
出器からなる検査装置の小さい部品だけを調整するだけ
でよい。これは高精度で簡単に実現されうる。スリット
ダイアフラムの位置を変更することは特に簡単である。
【００１１】スリットダイアフラムの相対位置はテスト
対象奥行を予め決め、それからの２次放射は検出器によ
り検出される。複数の検出器のアレーが用いられる時、
スリットダイアフラムの位置はまたは検出器によりカバ
ーされる位置の間の距離に影響する。従って、検出器の
アレー、即ち個々の関連した測定点間の距離による解像
度のみが変化する場合、スリットダイアフラムはスリッ
トを貫通する２次放射の中心軸に対応する座標方向に望
ましくは変位される。しかし、個々の点がその空間を変
えずに１次ビームの方向に共にシフトされうる場合、変
位の座標方向は散乱放射の中心軸に関して望ましくは傾
けられるべきである。その場合には、座標方向が２次Ｘ
線の中心軸に並行に延在することで通常は十分であり；
これは構造的に単純な方法で達成される。この単純な解
決策により、検出された個々の点間の空間はただ無意味
に変えられうる。
【００１２】検出された点の空間と同様奥行の位置が変
えられる場合、スリットダイアフラム又は検出器は２つ
の座標方向に変位可能であるべきである。
【００１３】スリットダイアフラム又は検出器がマニピ
ュレータにより少なくとも一つの座標方向に変位可能で
ある時に、容易に取扱える検査装置が得られる。所望の
解決策により、マニピュレータは電動モータにより駆動
されうる。その場合には、調整操作は任意の位置の制御
ディスク上で始められる。
【００１４】マニピュレータの電動モータがプログラム
可能な制御回路を介して制御される時、所定の領域に位
置した測定点は自動的に走査されうる。個々の点に対す
る測定値は全体の映像を形成するよう蓄積されうる。
【００１５】
【実施例】本発明は添付図面を参照して詳細に説明され
る。
【００１６】任意の公知の型のＸ線源（図示せず）から
放射するＸ線１は、測定ヘッド５のチャンネル４を介し
てスリット２から放射した後ペンシルビーム３としてテ
スト対象物４を貫通する。テスト対象物を通るその通路
の全ての点において、散乱放射は全ての角方向に分散
し、該放射の強度は物質の種類に存る。
【００１７】スリットダイアフラム８，９は２次放射線
を所定の点から測定ヘッド５に固定的に配置された検出
器アレー６及び７へ伝送する。これらの検出器アレーの
それぞれは、例えば１次ビーム３の方向に互いに重なっ
て配置される。５つの個々の検出器からなり、これによ
り検出器アレー６又は７は夫々奥行領域１０又は奥行領
域１１の５つの点をカバーする。
【００１８】２つの検出器アレー６及び７により覆われ
た点は一般的に同一でなく、例えばそれらは互いに交互
にづれた状態になる。原則的に単一検出器からなる単一
検出アレーは本発明による装置を満足する。しかし、複
数の検出器は並行測定の同時実行により測定時間を削減
するのに有利である。これは、走査さるべき多数の測定
点及び雑音抑圧に必要な測定時間がテスト対象物の検査
用に対する実質的測定期間になるからである。
【００１９】スリットダイアフラム８及び９は各ダイア
フラム部材１６及び１７の各スリットリム１２，１３及
び１４，１５間に形成される。これらのダイアフラム部
材は夫々マニピュレータ１８及び１９により夫々スピン
ドル２０，２１及び２２，２３を介して各両側矢印２４
及び２５の方向に独立的に調整自在である。
【００２０】右側ダイアフラム部材１６がきわめて低い
位置にある時、左側ダイアフラム部材１７は持ち上った
位置に上げられる。従って、検出器アレー７に至る２次
極限放射２６及び２７は検出器アレー６に至る２次の極
限放射２８及び２９間の奥行領域１０より高い奥行領域
１１を画成する。
【００２１】マニピュレータ１８及び１９は夫々制御回
路３０及び３１により制御される電動モータ（図示せ
ず）により駆動される。制御回路は、測定点が自動的に
シーケンスで異なる奥行領域に順次カバーされるようプ
ログラムされてもよい。測定データが蓄積され、表示ス
クリーン上に最後に表示される。
【００２２】たわみ装置（欧州特許明細書第１８４２４
７号参照）が１次ビーム（簡略化の為図示されない）
（欧州特許第１８４２４７号参照）の為に設けられてい
る時、テスト対象物４の平面領域が撮像されうる。測定
ヘッドが第３の座標方向に所定の範囲に亘って付加的に
変位自在である時、テスト対象物４の３次元部分が映像
されうる。
【００２３】検査によりカバーされた奥行範囲の望まし
い変更は、スリットダイアフラムが矢印２４又は１次ビ
ーム３の方向にのみ調整自在である時、既に可能であ
る。その場合は、調整機構の特に簡単な構成が得られ、
ここでダイアフラム部材１６及び１７は一つの構造ユニ
ットとして共に変位されうる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるテスト対象物の非破壊検査用装置
の測定ヘッドの断面図である。
【符号の説明】
１ Ｘ線 ２ スリット ３ ペンシルビーム ４ テスト対象物 ５ 測定ヘッド ６，７ 検出器アレー ８，９ スリットダイアフラム １０，１１ 奥行領域 １２，１３，１４，１５ スリットリム １６，１７ ダイアフラム部材 １８，１９ マニピュレータ ２０，２１，２２，２３ スピンドル ２４，２５ 矢印 ２６，２７，２８，２９ 極限放射 ３０，３１ 制御回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−120294（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−149157（ＪＰ，Ｕ) 特表 平５−500415（ＪＰ，Ａ) 米国特許5150395（ＵＳ，Ａ) 欧州特許436986（ＥＰ，Ｂ１) Ｇ．Ｈａｒｄｉｎｇ，”ＯＮ ＴＨＥ ＳＥＳＩＴＩＶＩＴＹ ＡＮＤ ＡＰ ＰＬＩＣＡＴＩＯＮ ＰＯＳＳＩＢＩＬ ＩＴＩＥＳ ＯＦ Ａ ＮＯＶＥＬ Ｃ ＯＭＰＴＯＮ ＳＣＡＴＴＥＲ ＩＭＡ ＧＩＮＧ ＳＹＳＴＥＭ”，ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｎｕ ｃｌｅａｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，（1982) Ｖｏｌ．ＮＳ−29，Ｎｏ．３，ｐ1260− ｐ1265 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 23/00 - 23/227 G01T 1/00 - 7/12 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 テスト対象物（４）に向けられる少なく
    とも一つの１次Ｘ線ペンシルビーム（３）を発生する１
    次Ｘ線源と、テスト対象物（４）と検出器（６，７）と
    の間に配置される少なくとも一つのスリットダイアフラ
    ム（８，９）とからなり、ガンマ又はＸ線によりテスト
    対象物（４）を検査し、テスト対象物（４）に１次ビー
    ム（３）により発生した散乱Ｘ線（２６，２７，２８，
    ２９）を少なくとも一つの検出器（６，７）に向ける装
    置であって、検出器（６，７）に対するスリットダイア
    フラム（８，９）の位置が調整装置（１８，１９）によ
    り変更されうることを特徴とする装置。
  2. 【請求項２】 スリットダイアフラム（８，９）の位置
    が変更されうることを特徴とする請求項１の装置。
  3. 【請求項３】 検出器（６，７）の位置が変更されうる
    ことを特徴とする請求項１の装置。
  4. 【請求項４】 スリットダイアフラム（８，９）又は検
    出器（６，７）が単一座標方向に変位されうることを特
    徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項の装置。
  5. 【請求項５】 座標方向が２次Ｘ線（２６，２７又は２
    ８，２９）の中心軸に関して傾くことを特徴とする請求
    項４の装置。
  6. 【請求項６】 座標方向が散乱Ｘ線（２６，２７又は２
    ８，２９）の中心軸に本質的に並行に延在することを特
    徴とする請求項４の装置。
  7. 【請求項７】 スリットダイアフラム（８，９）又は検
    出器（６，７）は２つの座標方向に変位可能であること
    を特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項の装
    置。
  8. 【請求項８】 スリットダイアフラム（８，９）又は検
    出器（６，７）はマニピュレータ（１８，１９）により
    少なくとも一つの座標方向に変位できることを特徴とす
    る請求項１乃至７のうちいずれか一項の装置。
  9. 【請求項９】 マニピュレータ（１８，１９）は電動モ
    ータにより駆動されうることを特徴とする請求項８の装
    置。
  10. 【請求項１０】 マニピュレータ（１８，１９）の電動
    モータはプログラム可能な制御回路（３０，３１）によ
    り制御されうることを特徴とする請求項９の装置。
JP03000218A 1990-01-10 1991-01-07 ガンマ又はｘ線によるテスト対象物検査装置 Expired - Fee Related JP3081002B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4000507A DE4000507A1 (de) 1990-01-10 1990-01-10 Anordnung zur untersuchung eines pruefobjekts mit gamma- oder roentgenstrahlung
DE40005070 1990-01-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04160351A JPH04160351A (ja) 1992-06-03
JP3081002B2 true JP3081002B2 (ja) 2000-08-28

Family

ID=6397820

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03000218A Expired - Fee Related JP3081002B2 (ja) 1990-01-10 1991-01-07 ガンマ又はｘ線によるテスト対象物検査装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5150395A (ja)
EP (1) EP0436986B1 (ja)
JP (1) JP3081002B2 (ja)
DE (2) DE4000507A1 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9020353D0 (en) * 1990-09-18 1990-10-31 Univ Guelph Method and apparatus for low dose estimates of bone minerals in vivo by gamma ray backscatter
DE4215343A1 (de) * 1992-05-09 1993-11-11 Philips Patentverwaltung Filterverfahren für ein Röntgensystem und Anordnung zur Durchführung eines solchen Filterverfahrens
DE19721535C2 (de) * 1997-05-22 2001-09-06 Siemens Ag Röntgen-Computertomograph zur Erzeugung von Röntgenschattenbildern
US6175117B1 (en) 1998-01-23 2001-01-16 Quanta Vision, Inc. Tissue analysis apparatus
US6281503B1 (en) 1998-05-06 2001-08-28 Quanta Vision, Inc. Non-invasive composition analysis
CA2355560C (en) 2000-08-28 2003-11-18 Balza Achmad X-ray compton scatter density measurement at a point within an object
CA2513990C (en) * 2004-08-27 2010-09-14 Paul Jacob Arsenault X-ray scatter image reconstruction by balancing of discrepancies between detector responses, and apparatus therefor
DE102005029674B4 (de) * 2005-06-20 2008-08-21 BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung Blende für eine bildgebende Einrichtung
DE102007045798B4 (de) * 2007-09-25 2010-12-02 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Anordnung und Verfahren zur Aufnahme von Röntgenstrahlen-Streuungsbildern
DE102008025109B4 (de) 2008-05-22 2010-06-17 BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung Blende für eine bildgebende Einrichtung
ATE545935T1 (de) 2009-12-08 2012-03-15 Bam Bundesanstalt Matforschung Asymmetrische schlitzblende sowie vorrichtung und verfahren zur herstellung derselben

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2547981A1 (de) * 1975-10-27 1977-04-28 Heribert Dipl Phys Dr Rer Luig Nuklearmedizinisches diagnosegeraet zum ermitteln des verteilungsmusters eines radioaktiven strahlers
DE2713581C2 (de) * 1977-03-28 1983-04-14 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Anordnung zur Darstellung einer Ebene eines Körpers mit Gamma- oder Röntgenstrahlung
DE3120567A1 (de) * 1981-05-23 1983-01-20 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Streustrahlen-untersuchungsanordnung
US4423422A (en) * 1981-08-10 1983-12-27 Andrew Corporation Diagonal-conical horn-reflector antenna
DE3443095A1 (de) * 1984-11-27 1986-05-28 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Anordnung zur untersuchung eines koerpers mit gamma- oder roentgenstrahlung
US4947414A (en) * 1986-07-14 1990-08-07 Hologic, Inc. Bone densitometer
US4809312A (en) * 1986-07-22 1989-02-28 American Science And Engineering, Inc. Method and apparatus for producing tomographic images
US4899283A (en) * 1987-11-23 1990-02-06 American Science And Engineering, Inc. Tomographic apparatus including means to illuminate the bounded field of view from a plurality of directions
FR2629914B1 (fr) * 1988-04-06 1991-09-06 Aerospatiale Procede et dispositif pour determiner la masse volumique d'un volume elementaire de matiere

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Ｇ．Ｈａｒｄｉｎｇ，"ＯＮ ＴＨＥ ＳＥＳＩＴＩＶＩＴＹ ＡＮＤ ＡＰＰＬＩＣＡＴＩＯＮ ＰＯＳＳＩＢＩＬＩＴＩＥＳ ＯＦ Ａ ＮＯＶＥＬ ＣＯＭＰＴＯＮ ＳＣＡＴＴＥＲ ＩＭＡＧＩＮＧ ＳＹＳＴＥＭ"，ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｎｕｃｌｅａｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，（１９８２）Ｖｏｌ．ＮＳ−２９，Ｎｏ．３，ｐ１２６０−ｐ１２６５

Also Published As

Publication number Publication date
EP0436986A2 (de) 1991-07-17
EP0436986A3 (en) 1992-07-29
DE59010822D1 (de) 1998-06-25
JPH04160351A (ja) 1992-06-03
US5150395A (en) 1992-09-22
DE4000507A1 (de) 1991-07-11
EP0436986B1 (de) 1998-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6049586A (en) Non-destructive inspection apparatus and inspection system using it
US6054712A (en) Inspection equipment using small-angle topography in determining an object's internal structure and composition
US4229651A (en) Radiation scanning method and apparatus
US6563906B2 (en) X-ray compton scattering density measurement at a point within an object
JP2009531108A (ja) 効率的な二重エネルギーｘ線減衰測定
JP2001269331A (ja) 検査域におけるパルス運動量移動スペクトルを決定するコンピュータ断層撮影装置
KR100220146B1 (ko) 금속시트의 온라인 단층촬영 측정방법 및 장치
JPS6154412B2 (ja)
JPH0126019B2 (ja)
JP3081002B2 (ja) ガンマ又はｘ線によるテスト対象物検査装置
JP2000321221A (ja) Ｃｔシステムで投影データを作成する方法およびシステム
KR20040097164A (ko) 스캐닝에 근거를 둔 전리 방사선 검출에 있어서의 노출 제어
JPH0628657B2 (ja) パルス伝送スペクトル測定装置
WO1998033062A1 (en) Inspection equipment using small-angle topography in determining an object's internal structure and composition
JPH01147351A (ja) 被検体検査装置
JPS63501735A (ja) 改良されたｘ線減衰方法および装置
JPH027421B2 (ja)
JPS5932137B2 (ja) 人体部分の吸収差の測定装置
JPS61132846A (ja) 物体検査装置
US10073048B2 (en) Apparatus and method for scanning a structure
US4466113A (en) X-Ray examination device having a high local resolution
US5684857A (en) Method for GE-XRF X-ray analysis of materials, and apparatus for carrying out the method
JP4554512B2 (ja) 検出器及び付随コリメータのアレイを具えたトモグラフィックエネルギー分散型ｘ線回折装置
JP2001524011A (ja) 組織分析装置
GB2049237A (en) Device for determining local absorption differences in an object

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees