KR20040097164A - 스캐닝에 근거를 둔 전리 방사선 검출에 있어서의 노출 제어 - Google Patents

스캐닝에 근거를 둔 전리 방사선 검출에 있어서의 노출 제어 Download PDF

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Abstract

대상물에 대한 2차원 이미지를 기록하는 장치는 복수의 1차원 검출기 유닛들(41)을 포함하는데, 상기 유닛들 각각은 상기 대상물을 관통하거나 상기 대상물로부터 분산된 전리 방사선에 노출되어 있으며, 상기 유닛이 노출되는 상기 전리 방사선을 1차원 이미지화하게 배열되어 있다. 상기 검출기 유닛들로부터 나온 상기 전리방사선에 대한 1차원 이미지가 상기 2차원 이미지의 일부분에 분포되도록, 상기 검출기 유닛들은 밀집 배열로 분포되어 있다. 상기 장치는, 상기 검출기 유닛들이 반복적으로 검출하여 상기 대상물에 대한 2차원 이미지를 생성하는 동안, 상기 대상물에 관련하여 상기 검출기 유닛들을 이동하는 디바이스(87 내지 89, 91) 및, (i) 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정동안 전리 방사선을 검출하는 검출기 유닛들을 제어하고, (ii) 상기 짧은 시간에 근거하여 상기 반복되는 검출에 대한 최적의 노출 시간을 계산하며, 그리고 (iii) 상기 반복되는 검출을 제어하여 자동적으로 최적의 노출 시간을 얻는 제어 디바이스를 포함한다.

Description

스캐닝에 근거를 둔 전리 방사선 검출에 있어서의 노출 제어{Exposure Control In Scanning-Based Detection Of Ionizing Radiation}
디지털 의료 X-선 진단에 있어서, 채용된 상기 X-선 방사 시간, 에너지 및 플럭스는, 기록된 이미지들의 최적의 질을 얻기 위하여 주의깊게 제어되어야 한다.
상기 노출은, 상기 이미지들이 높은 신호대 잡음비를 갖도록 그리고, 과다 노출되는 것 없이, 즉 상기 검출기가 포화상태가 되는 것 없이 높은 동적 범위를 갖도록, 선택되어져야 한다.
CCD와 같은 감광성 2차원 검출기 배열의 노출을 제어하는 한가지 방법은, 이미지를 기록하고, 그 기록된 것을 신호 세기들과 관련하여 분석하여, 그 분석된 결과들을 명암대비하여서, 상기 노출을 조정하는 것인데, 그 후 제2 고품질 이미지들이 기록된다. 이런 접근법이 고품질 이미지들의 기록에 대비하는 것이라고는 하나, 그럼에도 불구하고 몇개의 결점을 지니고 있다. 우선, 상기 방법은 시간 소모적이라는 것인데 그 이유는, 두개의 판독치들이 중간의 분석 및 조정들을 가지고서, 이미지화 될 각각의 대상물 구역에 대하여 만들어져야 하기 때문이다. 또한, 이미지화될 상기 대상물 구역이 방사선에 두번 노출되기 때문에, 이미지화될 상기 대상물 구역에 대한 상기 방사선 조사량이 더 높아진다는 것이다.
야나키에 의해 미국 특허 재발행 공보 33,634호에서 개시된 또 다른 방법은, 진찰될 대상물에 대하여 총 노출 시간 중 짧은 시간 동안 통과되는 방사선을 센서에 의하여 샘플화하여, 노출 시간 및 상기 X-선 소스의 전압, 전류와 촛점(spot)의 크기를 조정하여서, 상기 X-선 튜브에 의하여 전달된 상기 방사선이, 상기 총 노출의 나머지 노출 시간 동안, 상기 진찰된 대상물 안에 있는 구조들간의 최적화된 명암대비화 및, 필름, 전자사진술에 의한 사진, 형광 투시법에 의한 이미지 또는 다른 기록 매체에 대한 최적의 음영화를 만들게 한다. 상기 방법은 방사선 사진 촬영될 하나의 대상물과 그 대상물의 다음의 대상물 간의 흡수율에 있어서의 편차들에 대해서 대비되어 있다.
다른 종래의 방법들은 X-선 이미지들의 플럭스 등화에 근거를 두고 있는데, 예를 들어 미국 특허 번호 4,953,189(WANG) 및 5,008,914(MOORE)를 참고할 수 있다. 상기 빔 강도는, 상기 환자의 X-선 감쇠 편차를 보상하기 위하여 다수의 포인트들에서 조정된다.
본 발명은 전체적으로, 스캐닝에 근거를 둔 2차원 방사선 검출을 위한 장치들 및 방법들에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 최적의 이미지 질을 얻는 자동 노출 제어에 관한 것이다.
도 1 은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 X-선 진찰용 디바이스를 측면도로 개략적으로 설명하고 있다.
도 2 는 도 1 의 디바이스에 포함되는 팬(fan) 빔 시준기의 개략적인 평면도이다.
도 3 은 도 1 의 디바이스에 포함되는 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부를 정면도로 개략적으로 설명하고 있다.
도 4 는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 도 1 의 디바이스에서의 자동 노출 제어 방법의 흐름도이다.
도 5 는 도 2 의 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부를 정면도로 개략적으로 설명한 것으로서, 도 1 의 디바이스에 포함되는 시준기 디바이스에 의한 차폐가 나타내어져 있다.
도 6 은 본 발명의 또 다른 바람직한 일실시예에 따른 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부를 정면도로 개략적으로 설명하고 있다.
야나키에 의해 개시된 기술의 하나의 단점은, 2차원 이미지의 생산을 위해 기록 매체에 더하여 센서가 필요하다는 것이다. 이러한 해결책은 불필요하게 복잡하며, 상기 센서 및 기록 매체는 상이한 감광도, 상이한 동적 범위들 및 상이한 노이즈 레벨들을 갖을 수 있어서, 눈금 조정 및 노출 제어를 더욱 복잡하게 만들 수 있다.
또 다른 단점은, 채용된 상기 센서가 이미지의 상이한 위치들에서 신호의 세기들을 동시에 감지할 능력 및/또는 높은 공간 분해능을 가지고서 상이한 신호들을 감지할 능력이 부족하다는 것인데, 이러한 능력들은 가장 높은 밀집도와 그에 따른 가장 높은 흡수율을 갖는 상기 대상 지역의 상기 신호 세기, 상기 이미지를 가로지르는 신호 세기들에 있어서의 상기 편차들, 그리고 상기 신호 세기의 공간적으로 집적화된 신호 값을 얻는데 필요된다.
상기 플럭스 등화 방법의 단점은, 상기 방법들이 매우 복잡하며, 복잡한 스캐닝 동안 강도 변화가 수행되어야 한다는 것이다. 또한, 상기 방법들은 비실용적이며, 얻어진 상기 이미지들은 노이즈화될 수 있으며 및/또는 스캐닝 동안 강도 편차로 인해 해석하기가 어려울 수도 있다.
따라서, 본 발명의 주 목적은, 상기 종래 기술과 관련된 제한성들을 극복하는 자동 노출 제어를 포함하는 전리 방사선 검출 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
이런 관점에서 볼 때, 복잡하지 않은면서, 뛰어난 신대호 잡음비, 동적 범위 및 이미지의 명암대비를 갖는 고품질 이미지를 생산할 수 있는, 장치 및 방법을 제공하는 것에 특정한 목적이 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 기록될 대상물의 외형의 외측을 지나가는 방사선을 자동적으로 차폐하는 상기 자동 노출 제어와 통합된 차단 기능성을 선택적으로 포함하는 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 신뢰성 있고, 정밀하고, 정확하며, 저렴한 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 대량 생산에 적합하고, 긴 수명을 갖는 장치를 제공하는 것이다.
많은 목적들 중에서도 이러한 목적들은 첨부된 청구범위에 청구된 바와 같은 장치 및 방법에 의하여 달성될 수 있다.
본 발명자들은, 유방암 진찰에 있어서의 가슴들과 같은 대상물들을 고분해능으로 2차원 이미지화하는 스캐닝에 근거를 둔 검출 장치로서, 고속의 정교화된 자동 노출 제어에 매우 적합한 상기 검출 장치가, 보다 작은 1차원 방사선 검출 유닛들을 일정 배열로 배열하는 것에 의하여 제공된다는 것을 알아내었다. 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들로부터의 상기 방사선에 대한 1차원 이미지들이, 기록될 상기 대상물의 2차원 이미지의 일부분에 분포되게 하는 배열로, 상기 검출기 유닛들은 분포되어 있다. 두개의 인접한 1차원 방사선 검출기 유닛들 간의 거리는 약 30mm 보다 작아야 하며, 바람직하게는 약 20mm보다 작아야 하며, 더 바람직하게는 약 10mm보다 작아야 하며, 가장 바람직하게는 약 5mm보다 작아야 한다.
상기 검출기 유닛들은, 스캐닝 거리를 줄이고, 이미지화될 전체 대상물 구역의 거시적인 구조 정보를 스캐닝 없이 제공하는, 일정의 밀집된 배열로 배열되어 있다. 상기 검출기 유닛들은 또 다른 대안으로서, 다른 패턴들 예를 들어 원형으로 배열되어 있는데, 여기에서 각각의 유닛들이 상기 원형에 대하여 방사상으로 방향잡혀져 있게 된다. 인접한 두개의 1차원 방사선 검출기 유닛들 간의 거리가 약30mm 보다 작으면, 거시적인 이미지 정보는 모서리 부터 모서리가 30mm를 나타내는 구조에 대해서 확실하게 얻어진다. 또한, 더 작은 구조들은 상기 검출기 열의 초기 위치와 관련된 자신들의 위치에 따라서 관찰가능하게 될 수도 있다. 상기 1차원 방사선 검출기 유닛들 간의 거리가 더 짧다면, 더 작은 구조들도 노출 측정 동안 검출될 수 있다. 이것은 예를 들어 유방암을 포함하는 다양한 응용 분야들에 있어서 매우 중요하다.
통상적으로, 상기 스캐닝에 근거를 둔 검출기 장치는, 적어도 100개의 검출기 유닛들을 포함하고 있는데, 그 각각의 유닛들은 적어도 100개의 채널들을 갖고 있다. 이러한 밀집 매트릭스의 검출기 유닛들은, 상기 노출의 매우 짧은 초기 시간 동안, 진찰될 모든 대상물에 걸쳐 퍼져있는 수많은 픽셀들에 있는 데이터를 흡수하는데 대비한다. 또한, 상기 대상물을 가로지르는 상기 감쇠의 수많은 픽셀값들로부터, 상기 1차원 검출기 유닛들 각각을 따르는 공간 감쇠 미분계수는 계산될 수 있어, 이 후 최적의 노출 파라미터들의 계산에 이용될 수 있다.
바람직한 선 검출기 유닛은, 예를 들어, 선택적으로 전자 애벌런치 증폭기가 구비된 가스에 근거를 둔 이온화 검출기 및 보다 상세하게는 내부에서 자유 전자들이 입사 방사선의 방향에 직각인 방향으로 이동되는 가스에 근거를 둔 이온화 검출기와 같은 광자 카운팅 검출기 유닛이다. 이러한 검출기 유닛으로부터의 상기 신호들은, 입사 광자들의 에너지를 통합하는 다른 많은 종류의 검출기들과 대조적으로, 입사 광자 에너지와 무관하게 입사 광자들의 수에 비례하며, 상기 출력된 신호들은 상기 광자 흐름의 통합된 에너지의 측정값들인데, 여기서 주된 작용은, 상기 대상물에 의하여 낮은 에너지의 광자들보다는 덜 감쇠된 높은 에너지의 광자들로부터 유래된다. 따라서, 상기 감쇠의 매우 신뢰성 있는 측정값은 얻어지게 되며, 이러한 결과에 따라 상기 노출 파라미터들의 보다 우수한 값들이 결정될 수도 있다.
또한, 노이즈는 전혀 없거나 매우 낮은 레벨로 존재하게 되는데, 이것은 높은 감광성의 측정값에 대비하기 위함이다. 광자 카운팅 검출기를 상기한 바와 같이 이용할 때, 매우 적은 광자들은, 상기 노출 측정에 대한 시간을 줄이거나 및/또는 상기 환자에 대한 방사선량을 감소시키는 노출 파라미터들을 결정하는데 필요된다. 노출 시간은 바람직하게는 100ns 내지 1s의 인터벌을 갖고서, 더 바람직하게는 1㎲ 내지 100ms의 인터벌을 갖고서, 가장 바람직하게는 10㎲ 내지 10ms의 인터벌을 갖고서 상기 노출 측정에 이용된다.
스캔의 초기 과정 전 또는 상기 초기 과정 동안의 짧은 기간 동안, 일정 배열의 1차원 검출기 유닛들에 의하여 전리 방사선을 검출하는 것에 따라, 사진의 일부분에 걸쳐 분포되어 있는 선 이미지들의 사진이 매우 빨리 얻어질 수 있다는 것은, 스캔될 상기 대상물의 정보 예를 들어, 상기 대상물의 평균, 최대 및 최소 밀도와 같은 정보를 획득하는데 매우 우수하다.
따라서, 이후에 일어나는 스캔 또는 상기 스캔의 나머지 스캔 동안에, 각각의 판독에 대한 최적의 노출 시간은, 선 이미지들의 사진으로부터 유도되는 정보 및 짧은 시간에 근거를 두어 계산되며, 이후 이런 최적의 노출 시간은 상기 스캔 또는 상기 스캔의 나머지 스캔 동안 각각의 판독에 채용된다. 이에 의하여, 최적의 이미지 질이 달성된다.
상기 노출 시간은, 선 이미지들의 사진 또는 그것의 제한된 구역에 있는 최소 또는 평균 신호 값으로부터, 또는 예를 들어 선 이미지들 사진의 막대그래프에 근거를 둔 정교한 알고리즘으로부터 계산될 수 있다. 바람직하게는, 최소 또는 평균 신호값은, (스캔될 상기 대상물의 대부분의 흡수 부분에 상응하는)가장 낮은 평균 신호 세기를 갖는 다수의 인접한 선 이미지들로부터 유도된다.
바람직하게는, 다양한 대상물의 특성들(예를 들어 압박받는 상이한 가슴 두께들)에 대하여 요구되는 신호 세기의 룩업(loo-up) 테이블이 제공되고, 2차원 이미지로 기록될 상기 대상물의 특성이 예를 들어 센서 또는 상기 장치의 작동자로부터 얻어진 후, 상기 최적의 노출 시간은, 선 이미지들의 상기 사진으로부터 얻어지는 신호 세기와 소정된 신호 세기와의 비율을 가지고서 상기 짧은 시간을 증가시키는 것에 의하여 계산되어 진다.
선택적으로 포함될 수 있는, 본 발명의 또 다른 특징은, 상기 대상물의 상류측에 있는 전리 방사선의 경로에 배열되어 있는 가변 가능한 조리개를 갖는 시준기 디바이스이다. 선 이미지들의 사진에 의하여, 상기 대상물의 외형은 결정될 수 있으며, 상기 가변 가능한 조리개는 상기 대상물과 상호작용하지 않는 방사선을 차폐하게 조정되어 진다.
본 발명의 또 다른 특징들 및 그에 따른 잇점들은, 본 발명의 제한이 아닌 단지 예시의 목적으로만 주어진, 이하에 제공된 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명 및 첨부된 도 1 내지 도 6 으로부터 명백하게 될 것이다.
본 발명이 X-레이 방사선 및 X-레이 튜브로서 상세하게 설명되었지만, 상기본 발명이 필요한 변경을 가하여 다른 종류의 전리 방사선 및 전리 방사선 소스에 적용될 수 있다는 것은, 특히 강조될 것이다.
또한, 본 발명이 근본적으로 의료 응용분야 및 특히 유방암 검사용에 촛점이 맞추어져 있으나, 그럼에도 불구하고 본 발명은, 비파괴 검사 및 예를 들어 인쇠회로기판과 파이프라인에 대한 조사를 포함하는 다른 종류의 산업 응용분야들에 유용하다. 따라서, 이미지화될 상기 대상물이 이하의 설명에 있어서 가슴으로 칭하여 지더라도, 상기 대상물이 본 발명으로부터의 벗어남 없이 실질적으로 어떠한 다른 종류의 대상물로도 변경될 수 있다는 것은 이해될 것이다.
유방암 진찰용으로 바람직하게 디자인된 디바이스를 측면도로 개략적으로 설명하고 있는 도 1 을 참조하여, 본 발명의 바람직한 일실시예가 설명된다.
위로부터 아래로, 상기 디바이스는, X-선 소스(81), 필터 디바이스(82), 시준기 디바이스(83a), 팬 빔 시준기(83b), 압박 플레이트(84) 및 대상물 테이블(85) 그리고 복수의 1차원 검출기 유닛들을 포함하고 있는 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부(86)를 포함하고 있다.
상기 X-선 소스(81)는, 전자들을 방출하는 캐소드 및 상기 전자들이 충돌하고, X-선들의 소스로 작용하는 애노드를 갖고 있는 종래의 X-선 튜브이며, 상기 튜브는 상기 애노드 및 캐소드 간에 전압 강하인 작동 전압, 상기 애노드 및 캐소드 간의 전류인 튜브전류, 그리고 상기 전자들이 충돌하는 상기 애노드의 구역인 촛점 크기를 갖고있다.
상기 작동 전압, 튜브 전류 및/또는 촛점 크기는 조정될 수도 있다. 상기 X-선 튜브에 낮은 피크 전압을 인가하는 것에 의하여, 낮은 에너지의 X-선 광자들은 생산되어, 보다 쉽게 조직에 흡수된다. 상기 X-선 튜브에서 캐소드로부터 애노드로 가는 전류를 증가시키는 것에 의하여, 상기 X-선 플럭스는 비례적으로 증가된다. 상기 촛점의 크기를 증가시키는 것에 의하여, 상기 X-선 튜브의 전력률은 증가될 수 있다. 방사선 진찰에 대한 작동 전압, 튜브 전류 및 촛점 크기의 효과에 관련한보다 상세한 설명을 위하여, 참조는 야나키 특허(미국 재발행 특허 번호 제33,634)에 만들어지는데, 상기 특허의 내용은 참고로서 여기에 편입되어 있다.
상기 X-선 튜브의 바로 아래에는, 필터 디바이스(82)가 위치되는데, 상기 필터 디바이스는, 이미지 질에는 중요한 기여를 하지 않으면서도 상기 환자에 대한 방사선량을 증가시키는 가장 낮은(및 때로는 또한 가장 높은) 에너지 광자들을 흡수하도록 필터들로서 작동하는 금속 박막을 포함하고 있다. 상기 필터 디바이스는 가변 가능한 스펙트럼 전송 특성들을 갖을 수도 있다.
상기 시준기 디바이스(83a)는 방사선을 흡수하는 것이지만, 방사선이 통과되게 제어가능한 가변 조리개를 갖고 있어서, 상기 진찰에 불필요한 방사선의 많은 양이 진찰 대상물의 레벨에, 즉, 유방암 진찰에 있어서의 가슴의 레벨에 도달하기 전에 정지될 수도 있다. 이에 의하여, 상기 환자로의 조사량을 증가시키고 이미지에 있는 명암대비를 감소시키는, 분산된 방사선의 양은 줄어들 수 있다.
도 2 에서 개략적으로 설명되고 있는 상기 팬 빔 시준기(83b)는, 에칭처리에 의해 형성된 복수의 좁은 방사선 통과 슬릿들(52)을 가진 예를 들면, 텅스텐과 같은 재질의 박막(51)이 될 수도 있다. 상기 슬릿들은, 일정 열(53)들 및 일정 더미(54)들로 배열되어 있으면서, 대응하는 선 형상의 감광성 구역 또는 상기 검출기 배열부의 상기 검출기 유닛들의 도입 슬릿들과 맞추어져서, 각각의 슬릿(52)을 통과하는 X-선들이, 해당하는 감광성 구역 또는 상기 검출기 배열부에 도달하게 한다. 이러한 시준기의 목적은 진찰된 상기 가슴에 대한 방사선량을 줄이는 것이다.
상기 검출기 배열부(86)는 도 3 에 도시되어 있으며, 열(44)들 및 더미(45)들의 2차원 배열로 공통 지지 구조물(42)에 배열되어 있는 복수의 1차원 검출기 유닛(41)들을, 상기 검출기 유닛들 각각의 감광성 구역들 또는 도입 슬릿(43)들이 상기 배열부의 전면에 직면하고 있는 상태에서 포함하고 있다. 상기 배열부가 더 많은 유닛들을 포함하고 있다는 것이 이해될 수 있지만, 설명의 목적을 위해서, 단지, 4 X 10 매트릭스의 검출기 유닛들이 도시되어 있는데, 즉 각각의 열(44)이 4개의 검출기 유닛들을 포함하고 있고, 각각의 더미(45)가 10개의 검출기 유닛들을 포함하고 있다. 예를 들어, 상기 검출기 유닛들이 S1=5mm(검출기 유닛에서 검출기 유닛사이) 만큼 이격되어 있고, 20×20 내지 50×50cm2범위의 영역이 커버되어 진다면, 각각의 더미는 40 내지 100개의 검출기 유닛들을 포함할 수도 있다. 각각의 선 검출기 유닛의 폭은, 예를 들어 40 내지 60mm가 되어, 5 내지 12 개의 검출기 유닛들이 각각의 열에 배열된다. 각각의 검출기 유닛은 수 백개의 채널들을 포함하고 있어서, 상기 검출기 유닛들에 의하여 기록된 1차원 이미지들에 있는 높은 공간 분해능에 대비한다.
또한, 도 3 의 상기 검출기 배열부는 측면 및 정면 커버들(도시되어 있지 않음)을 포함할 수도 있다.
상기 유방암 진찰동안, 상기 가슴은 상기 압박 플레이트(84) 및 상기 대상물 테이블(85) 사이에서 압박을 받는데, 여기에서 이러한 목적을 위하여 상기 압박 플레이트(84)는 수직 방향으로 이동될 수 있으며, 위치 고정될 수 있다. 도 1 의 상기 디바이스가 유방암 진찰 외에 다른 종류의 측정에 이용된다면, 상기 두개의 압박 플레이트(84) 및 대상물 테이블(85)은 측정될 특정 대상물(도시되어 있지 않음)을 유지시키는 홀더 또는 지지대에 의하여 대체될 수도 있다.
상기 X-선 튜브(81), 상기 팬 빔 시준기(83b) 및 상기 검출기 배열부(86)들은 공통의 E자형-아암(87)에 부착되어, 대략 상기 X-선 튜브(81)의 높이에서 주축(89)에 의하여 수직 스탠드(88)에 회전 가능하게 부착되어 있다. 이러한 방식으로, 상기 X-선 튜브(81), 상기 팬 빔 시준기(83b) 및 상기 검출기 배열부(86)는 상기 가슴에 대하여 공통의 피보팅 운동으로 이동될 수 있어서, 상기 가슴을 스캔하여, 그 가슴의 2차원 이미지를 생성한다. 상기 검출기 배열부의 각각의 더미(45)에 있는 상기 검출기 유닛들 간의 거리가 5mm이고(전체 2차원 이미지를 기록하기 위한 가능한 가장 짧은 스캐닝 거리에 상응하는 거리), 상기 주축(89) 및 상기 검출기 배열부 간의 거리가 65cm라고 가정하면, 한번의 스캔은 약 0.44o의 회전에 상당하여, 몇 초내에 실행될 수도 있다. 상기 스캐닝 방향은 도 3 에서 화살표(43)에 의하여 지시되어 있다.
상기 시준기 디바이스(83a)는 상기 수직 스탠드(88)에 고정적으로 부착되어 있으며, 그리고 상기 압박 플레이트(84) 및 대상물 테이블(85)들은 지지대(90)에 고정적으로 부착되어, 상기 수직 스탠드(88)에 고정적으로 부착된다. 이러한 목적을 위해, 상기 E자형-아암(87)은 두개의 오목부 또는 그와 유사한 것이 구비된다(점선들로 도시되어 있음). 스캐닝 동안, 상기 시준기 디바이스(83a) 및 상기 가슴은 정지된 상태로 유지된다.
도 1 의 상기 디바이스가, 진찰될 상기 가슴에 대하여 상기 X-선 튜브(81), 상기 팬 빔 시준기(83b) 및 상기 검출기 배열부(86)의 선형 이동을 위하여 수정되어 배열될 수도 있다는 것은, 이해될 수 있을 것이다.
상기 X-선 튜브(81), 상기 팬 빔 시준기(83b) 및 상기 검출기 배열부(86)가 휴지 상태에 있다고 하더라도, 상기 환자 및 상기 시준기 디바이스들이 스캐닝 동안 움직이도록, 도 1 의 상기 디바이스가 개조될 수도 있다는 것 또한 이해될 수 있을 것이다.
도 3 의 검출기 배열부의 각각의 열(44)에 있는, 상기 검출기 유닛(41)들이 엇갈려져 있다는 것은 주목되어질 것이다. 상기 검출기 유닛들이 그 극단측 부분들에서는 검출할 능력이 없기 때문에, 상기 유닛들은 20 내지 50cm의 모든 거리를 커버하게 엇갈려져 있어서, 어떠한 무용구역도 회피할 수 있다. 하나의 검출기 유닛(41)의 감광 구역 또는 도입 슬릿(43)이 끝나는 부분에서, 또 다른 검출기 유닛의 감광 구역 또는 도입 슬릿은 각각의 열(44)내에서 시작된다. 이러한 특징은 도 3 에 있는 점선(48)을 따라 명확하게 보여질 수 있고, 상기 검출기 유닛들 간의 중첩부(x1)를 필요로 하는데, 여기에서 x1은 적어도 0.05 내지 10mm 또는 더 클 수도 있다.
상기 선 검출기 유닛들이 평면 기판 위에서 서로에 평행하게 배열되지 않지만, 사용된 상기 방사선 소스를 향하게 배열되어 상기 방사선 소스로부터 나온 방사선이 각각의 검출기 유닛으로 들어가게 한다는 것은 이해될 수 있을 것이다.
동일한 목적을 위해, 상기 팬 빔 시준기(83b)는, 상기 검출기 유닛들에 비하여 작게 이격되어 있고 상기 검출기 유닛 도입 슬릿들보다 좁은 슬릿들을 갖고 있다. 상기 방사선 소스(점 소스, 선 소스 또는 2차원 소스), 상기 팬 빔 시준기(83b) 및 검출기 배열부(86) 간의 정렬 맞춤은, 상기 방사선 소스로부터 상기 팬 빔 시준기(83b)를 통하여 상기 검출기 배열부(86)의 각각의 검출기 유닛들(41)내로 들어가는, 다수의 평면 방사선 빔들에 대비한 것이다.
검출기 유닛들의 배열들 및 상기 검출기 유닛들 자체들에 관한 보다 상세한 설명을 위하여, 발명의 명칭이 방사선 검출기 배열부이고, 2001년 2월 15일에 출원된, 스웨덴 출원 번호 제0200446-3호에 참조가 만들어지는데, 상기 출원의 내용들은 참조로서 여기에 편입된 것이다.
또한, 상기 디바이스는, 상기 디바이스를 제어하고, 상기 선 검출기 유닛들로부터의 상기 신호들을 판독처리하여 후처리하기에 적합한 소프트웨어가 구비된 마이크로 프로세서 또는 컴퓨터(91), 그리고 상기 검출기 유닛들 및 상기 마이크로프로세서 또는 컴퓨터(91)에 전력을 공급하여, 상기 수직 스탠드(88)에 격납된 스텝 모터 또는 그 유사물을 구동하여서 주축들(89)을 구동하고 그 결과 E자형-아암(87)을 구동하는 전력 공급부(92)를 포함한다.
작동에 있어서, X-선들은 상기 X-선 튜브(81)로부터 방출되어, 상기 필터 디바이스(82)를 관통한다. 상기 시준기(83a) 및 상기 팬 빔 시준기(83b)들은 상기 X-선들의 대부분을 흡수한다. 상기 팬 빔 시준기(83b)의 슬릿들을 통과하는 X-선들만이 상기 가슴을 횡단한다. 상기 가슴에서, 상기 X-선 광자들은 통과될 수도, 흡수될 수도 또는 분산될 수도 있다. 통과된 상기 X-선들은 상기 가슴을 떠나서, 상기 검출기 배열부(86)의 상기 검출기 유닛들(41)에 들어가서 검출된다.
스캐닝 동안, 상기 X-선 소스(81), 상기 팬 빔 시준기(83b) 및 상기 검출기 배열부(86)를 유지하고 있는 상기 E자형-아암(87)은, 상기 검출기 배열부가 상기 압박 플레이트(84) 및 대상물 테이블(85)에 평행하고, 상기 가슴벽과도 평행한 방향으로 상기 가슴을 가로질러 스캔하도록, 피보팅 운동으로 이동된다.
각각의 선 검출기 유닛은 연속적으로 X-선들을 검출한다. 정규적인 운동 인터벌에서, 10 내지 50 마이크로미터 마다, 상기 검출된 신호들은 판독되어 상기 마이크로프로세서(91)의 메모리에 저장된다. 이러한 방식으로, 각각의 선 검출기 유닛은 상기 가슴의 수많은 선 이미지들을 제공한다. 상기 X-선 소스 및 상기 스캐닝이 정지될 때, 이들 모든 이미지 단편들은 상기 마이크로프로세서(91)에 의하여 함께 그룹화되어, 2차원 이미지를 형성하게 된다.
또 다른 대안의 스캐닝 기술로서, 1차원 검출기 유닛의 상기 배열은 상기 가슴에 대하여 계단적으로 이동되며, 상기 1차원 검출기 유닛들은 1차원 검출기 유닛들의 배열이 상기 계단적인 이동 간에 정지상태로 있는 동안 검출을 하게 된다.
본 발명에 따라 도 1 의 상기 디바이스는, 적의 소프트웨어에 의하여 마이크로프로세서(91)에서 바람직하게 수행되는 자동 노출 제어수단이 구비된다. 대부분의 일반적인 버전에 있어서, 상기 마이크로프로세서(91)는 다음의 동작들을 수행하기에 적합하게 되어있다.:
(i) 노출 측정을 수행하기 위하여 즉, 상기 가슴의 스캐닝의 초기 과정 전또는 그 과정동안에 있어서, 100ns 내지 1s의 짧은 시간, 바람직하게는 1㎲ 내지 100ms 짧은 시간이며, 가장 바람직하게는 10㎲ 내지 10ms 의 짧은 시간 동안 상기 X-선을 검출하기 위하여, 1차원 검출기 유닛들을 제어하는 단계
(ii) 상기 스캔의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 있어서 X-선들의 검출에 근거를 둔 스캔의 각각의 검출을 위한 최적의 노출 시간을 계산하는 단계 및
(iii) 상기 스캔동안 상기 검출들의 각각에 대한 최적의 노출시간을 얻어서, 최적의 질을 갖는 상기 가슴에 대한 2차원 이미지를 얻기 위하여 상기 스캔을 제어하는 단계.
바람직하게는, 검출기 장치들은, 두 개의 인접한 검출기 유닛들 간의 거리(s1)가 약 30mm 보다 작고, 더 바람직하게는 약 20mm보다 작고, 더 바람직하게는 약 10mm보다 작고, 가장 바람직하게는 약 5mm보다 작은 곳에서 이용된다.
스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부에서 수행된 본 발명의 노출 제어의 중요한 장점은, 검출(사전 스캔 검출)의 짧은 시간 및 검출기 유닛들의 분포와 밀집의 결과로서 하나의 사진이 얻어진다는 것인데, 상기 사진은, 다음의 이어지는 스캔동안 기록될 상기 가슴의 2차원 이미지의 일부분에 걸쳐 분포되어 있는 상기 가슴의 복수의 1차원 이미지들을 포함하고 있다. 따라서, 상기 가슴에 대한 양질의 정보 및 그 가슴의 거시적인 구조는 상기 가슴에 대한 최소의 조사를 가지고서 매우 빨리 얻어질 수 있어서, 남아있는 스캐닝에 대한 노출 시간의 최적의 셋팅에 대비한다. 상기 검출기 유닛들의 매우 밀집된 매트릭스로 인하여, 매우 작은 구조들이 노출 측정동안 검출될 수 있으며, 이러한 구조들의 감쇠는 최적의 노출 시간을 결정하는 동안 고려된다. 이것은 점 측정 기술; 단일의 1차원 검출기 배열; 또는 오히려 더 큰 거리로 배열되어 있는 몇개의 1차원 검출기 배열들을 이용하는 것에 의하여는 불가능하다.
상기 스캐닝에 근거를 둔 검출에 대한 최적의 노출 시간은, 상기 스캔의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 상기 X-선들의 검출로부터 얻어지는 최소 또는 평균 신호 값에 근거하여 계산되거나, 또는 선 이미지들의 사진의 특정 구역 내에서, 예를 들어 도 5 에 예시된 바와 같은 중앙에 위치된 구역(56) 내에서 얻어지거나 또는 일정 수의 근접한 선 이미지들로부터 얻어지는 최소 또는 평균 신호 값으로부터 계산될 수 있다. 이처럼 중앙에 위치된 구역(56)은 예를들어, 2cm x 2cm 또는 3cm x 3cm의 크기를 갖을 수도 있다. 상기 구역은 바람직하게는 신호 세기가 최소인 곳(이미지화된 가슴에 대한 대부분의 흡수 부분에 상응하는 곳)에서 위치된다.
또 다른 대안으로서, 상기 스캐닝에 근거를 둔 검출에 대한 최적의 노출 시간은, 하나 또는 몇개의 1차원 검출기 유닛들의 통합된 신호값 예를 들어 가장 낮은 통합된 신호 값을 갖는 하나 또는 몇개의 유닛의 통합된 신호값에 근거하여 계산될 수 있다.
또한, 스캐닝 동안 상기 가슴에 관련하여 1차원 검출기 유닛들의 배열이 이동되는 속도는, 상기 스캔의 초기과정 전 또는 그 과정 동안에 X-선들의 검출에 의존하는데 보다 상세하게는 계산된 최적의 노출 시간에 의존하여 조정될 수도 있다. 예를 들어 매우 짧은 최적의 노출 시간이 계산된다면, 이것은, 과도한 양의 신호값들이 기록되지 않도록 상기 스캐닝이 보다 빨리 수행되어야 한다는 것을 의미한다.
자동 노출 제어 방법에 대한 흠름도인 도 4 를 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예가 설명될 것이다.
상기 방법은, 단계(61)에서, 이미지화될 상기 가슴(또는 다른 대상물)의 특성을 입력 받는 것으로부터 시작된다. 이러한 정보는, 유방암 진찰에 있어서, 상기 압박 플레이트에 적용되는 일정 힘으로 압박받는 상태에 있는 가슴 두께가 될 수도 있다. 이것에 대한 또 다른 대안으로서 또는 보충적인 대안으로서, 상기 정보는 예를 들어 지방 함유량 대 샘 조직으로서 정의되는, 상기 가슴 조직의 산출된 밀도와 관련이 있을 수도 있다. 상기 정보는, 상기 디바이스의 작동자에 의해 입력되는 것에 의하여 또는, 센서 또는 그와 유사한 것(예시되어 있지 않음)에 의하여 감지되는 것에 의하여, 상기 마이크로프로세서(91)에 의해 주어질 수도 있다. 예를 들어, 상기 압박 플레이트들 간의 거리는, 위치 센서들 뿐만 아니라 상기 적용된 힘에 의하여 쉽게 측정될 수 있을 것이다.
또 다른 대안으로서, 가슴에 대한 상기 지방 함유량 대 샘 조직은, 두개의 상이한 압박된 상태들에서(즉, 상기 압박 플레이트에 적용되는 두 개의 서로 다른 힘)에서 (복수의 1차원 검출기들의 배열부(86)에 의하여)상기 가슴에 대한 두개의 짧은 노출의 검출들로부터 결정될 수도 있는데, 왜냐하면 상기 지방 함유량 및 샘 조직은 상당히 다른 흡수율들(흐름도에 예시되어 있지 않음)을 갖고 있기 때문이다.
이후, 단계(62)에서, 조사 중에 있는 상기 가슴의 짧은 노출은, 통과되는 상기 방사선이 복수의 1차원 검출기들의 배열부(86)에 의하여 측정되는 동안, 수행된다. 상기 신호들은, 단계(63)에서 상기 유닛들로부터 판독되어, 상기 마이크로프로세서(91)로 전송된다. 상기 검출기 배열부의 구조로 인하여, 상기 검출 및 판독은 매우 빠르게 수행될 수 있다.
상기 가슴에 대한 골고루 분포된 다수의 선 이미지들을 나타내는 상기 신호들로부터, 신호 값, 예를 들어 카운트 율은, 단계(64)에서 유도된다. 이러한 신호 값은, 예를 들어 상기에서 설명된 바와 같은 다수의 방식들로, 또는 상기 전체 막대그래프 및/또는 공간 신호 정보를 고려하는 복잡한 방법에 의하여 유도될 수도 있다.
다음으로, 단계(65)에서 검색은, 마이크로프로세서(91)에 저장되어 있는 룩업 테이블에서 수행되거나 또는 상기 디바이스의 제작자 또는 작동자에 의하여 입력되는 다양한 가슴 특성들에 대하여 그리고, 선택적으로 가슴에 대한 두께에 대하여 요구되는 신호 세기들의 테이블을 포함하고 있는 접근 가능한 메모리(예시되어 있지 않음)에서 수행된다. 상기 요구된 신호 세기들은, 최적의 또는 허용 가능한 신호대 잡음 레벨, 계속해서 기록되는 2차원 이미지의 명암대비 또는 동적 범위를 달성하도록 계산으로부터 결정될 수도 있으며 또는, 상기 세기들은 조정에 의하여 설정될 수도 있다. 상기 검색은 단계(61)에 있는 입력값에 근거를 두고 있어서, 상기 스캔에 대하여 요구되는 신호 세기가 결정된다. 또 다른 대안으로서, 룩업 테이블을 이용하는 대신, 상기 요구되는 신호 세기는, 적절한 알고리즘을 적용하는 것에 의하여 결정될 수도 있다.
다음으로, 단계(66)에서, 현재의 설정치들에서의 상기 가슴에 대한 최적의 노출 시간은, 상기 요구되는 신호 세기, 단계(64)에서 유도된 상기 신호 값 및 단계(62)에서 이용된 상기 노출 시간에 근거하여 계산되고, 그리고 상기 노출 시간 설정치는 단계(67)에서, 계산된 상기 최적의 노출 시간에 맞추어지며, 이후 상기 방법은 종료되고, 상기 디바이스는 상기 가슴을 스캔하게 준비된다.
또 다른 상기 방법의 특징은, 상기 스캐닝에 대하여 이용되지 않은 방사선이 차폐될 수 있다는 것이다. 따라서, (단계(63) 이후에 수행되어져야 하나, 방법 단계들(64 내지 67)에 관계없이 수행될 수도 있는) 단계(68)에서, '충만(full)' 신호 세기, 즉, 어떠한 흡수도 전혀 발생하지 않아서, X-선들이 상기 가슴을 통과하지 않는 것을 가리키는 충만 신호 세기를 갖는 상기 선 이미지들의 상기 사진 요소들(픽셀들)은 유도된다. 이에 의하여, 상기 가슴의 외형은 결정될 수도 있다. 다음으로, 단계(69)에서, 도 1 의 디바이스의 상기 시준기 디바이스(83a)의 가변 가능한 조리개는 상기 가슴의 외부 형상에 맞추어져서, 상기 가슴을 관통하지 못하는 방사선이 상기 시준기 디바이스를 통과하지 못하게 제어된다. 이러한 방식에 있어서, 상기 환자에 대한 조사량을 증가시켜, 상기 이미지의 명암 대비를 감소시킬 수도 있는 분산된 방사선의 양은 줄어들 수 있다.
상기 방법의 또 다른 특징은, 상기 노출 시간 뿐만 아니라, 추가적으로 다른 노출 파라미터들, 예를 들어 상기 필터 디바이스(82)의 가변 가능한 스펙트럼의 전송 특성 및/또는 상기 X-선 튜브(81)의 상기 작동 전압 또는 작동 전류인 노출 파라미터들이, 상기 초기 노출 측정에 근거하여 조정될 수 있다는 것이다. 따라서, ( 단계(63) 이후에 수행되어져야 하나, 방법 단계들(64 내지 67 및 68 내지 69)에 관계없이 수행될 수 있는)단계(70)에서, 상기 선 이미지들의 사진에 있어서 명암 대비를 나타내는 측정은 수행된다. 이러한 측정은, 바람직하게는 상기 선 이미지들에 있는 상기 사진 요소들(픽셀들)의 신호 세기의 편차에 관련되어 있거나 또는 상기 압박 유닛에 의하여 제어되는 상기 가슴의 상이한 두께들을 위해 검출된 X-선들의 신호 세기에 관련되어 있다.
다음으로, 단계(71)에서 검색은, 마이크로프로세서(91)에 저장되어 있는 룩업 테이블에서 수행되거나 또는, 예를 들어 다양한 가슴 특성들에 대하여, 요구되는 명암 대비 레벨들을 포함하고 있는 접근 가능한 메모리(예시되어 있지 않음)에서 수행된다. 상기 검색은 단계(61)에서의 입력값에 근거를 둘 수도 있으며, 상기 스캔에 대하여 요구되는 명암대비 레벨이 결정된다. 룩업 테이블을 이용하는 대신, 적절한 알고리즘이 적용되어서, 요구되는 명암대비 레벨을 결정할 수도 있다.
상기 스캔에 대하여 요구되는 명암대비 레벨은, 유방암의 경우에 있어서 선택적으로 또는 추가적으로, (i) 압박 힘의 변화에 의하여 야기되는 압박 받는 가슴 두께의 변화 및/또는 (ii) 상이한 압박 힘들에서 상기 압박받는 가슴에 대한 두개의 노출로부터 얻어진 바와 같은 상기 신호 레벨들에 근거를 둘 수도 있다.
다음으로, 단계(72)에서, 상기 선 이미지들의 사진에 있어서의 명암대비를 나타내는 상기 측정은 상기 요구되는 명암대비 레벨과 비교되며, 이러한 비교에 근거하여, 상기 필터 디바이스(82)의 가변 가능한 스펙트럼의 전송 특성들 및/또는상기 X-선 튜브(81)의 작동 전압은, 다음의 스캔에 있어서의 요구되는 명암대비 레벨을 얻게 조정될 수 있다.
이러한 조정은, 상기 가슴을 통과하여 검출되는 상기 X-선들의 변경된 스펙트럼을 고려하도록 또 다른 노출 시간 조정을 필요로 하기 때문에, 단계(62 내지 67)들은, 예를 들어, 상이한 필터들 및/또는 상기 가슴의 상이한 압박을 이용하여, 반복되어져야 할 수도 있다.
또한, 단계(66)에서 계산된 상기 최적의 노출 시간이 매우 길다면, 상기 X-선 플럭스의 증가는 요구될 수도 있다. 매우 긴 노출 시간들은 진찰받는 환자에게 불쾌한 것이 될 수도 있으며, 또한, 상기 환자가 움직여서, 기록된 이미지를 흐리게 하는 위험이 있다. 따라서, 상기에서 설명된 바와 같은 방법은 이하의 방법으로 수정될 수도 있다.
단계(66)에서 계산된 상기 최적의 노출 시간이 특정한 역치값(만약에 있을 수 있는 일련의 측정에 의존하여 상기 제작자 또는 작동자에 의하여 설정될 수 있는 역치값) 보다 길다면, 상기 X-선 튜브의 상기 튜브 전류는 증가되어서, 상기 촛점 크기(예시되어 있지 않음)로도 될 수도 있다.
복수의 1차원 검출기 유닛들로부터의 상기 전리 방사선의 1차원 이미지들이, 기록될 2차원 이미지의 일부분에 걸쳐 분포되게, 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들(41)이 위치되어 있는 한, 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들이 일정 배열에서 임의로 분포될 수도 있다는 것은 이해될 것이다.
예를 들어, 검출기 유닛들(41)은, 도 6 에 예시된 바와 같이 공통 원형 지지대(42') 위에 원형으로 배열될 수도 있는데, 여기에서 각각의 검출기 유닛(41)은 상기 원형에 대하여 방사상으로 방향잡혀져 있으며, 상기 배열부의 전면에 직면하고 있는 감광 구역 또는 도입슬릿(43)을 갖고 있다. 예시된 상기 배열부는, 상기 지지대(42')의 전직경부를 가로질러 배열되어 있는 하나의 광폭 검출기 유닛, 상기 광폭 유닛에 대하여 대칭적으로 배열되어 있는 10개의 중폭 검출기 유닛들, 및 상기 검출기 유닛들 중에서 광폭 유닛들 중의 두 개의 인접한 광폭 유닛들 사이에 각각 대칭적으로 배열되어 있는 12개의 협폭 검출기 유닛들(41)을 갖고 있다.
이러한 배열부는, 이미지화될 상기 가슴 또는 다른 대상물에 관하여 상기 지지대(42')의 평면에서 스캐닝 동안, 화살표(47')에 의해 예시되어 있는 바와 같이 회전된다. 바람직하게는, 도 6 의 상기 배열부는, 그 뒷면에 부착되어 중앙에 위치된 주축(89')에 의하여 회전된다. 하나의 완전한 2차원 이미지는, 원주의 거리(s1)에 상응하는 각도 만큼 상기 배열을 회전시키는 것에 의하여 기록될 수도 있다. 팬 빔 시준기가 이용된다면, 이것은 상기 검출기 배열부와 함께 회전되어 스캐닝 동안 정렬 맞춤을 유지하게 하여야 한다.
검출기 유닛들의 이러한 원형 배열들에 관한 보다 상세한 설명을 위하여, 발명의 명칭이 방사선 검출기 배열부이고, 2001년 2월 15일에 출원된, 스웨덴 특허 출원 번호 제0200447-1호에 참조가 만들어지는데, 상기 출원의 내용들은 참조로서 여기에 편입된 것이다.
대상물을 관통하는 것 대신 대상물로부터 분산될 수 있는 방사선의 2차원 이미지들을 기록하는데 본 발명이 동일하게 적용될 수 있다는 것은 이해될 수 있을 것이다.
상기 검출기 유닛들을 쐬는 상기 전리 방사선의 1차원 이미지들을 기록할 수 있는 1차원 검출기들이 본 발명의 상기 검출기 유닛들인 한, 본 발명의 상기 검출기 유닛이 선택적으로 어떠한 종류의 검출기 유닛들로도 변경될 수도 있다는 것은, 이해될 수 있을 것이다.
하지만, 바람직한 선 검출기 유닛은, 선택적으로 전자 애벌런치 증폭기가 구비된 가스에 근거를 둔 이온화 검출기 및 보다 상세하게는 내부에서 자유 전자들이 입사 이온들의 방향에 수직인 방향으로 이동되는 가스에 근거를 둔 이온화 검출기와 같은 광자 카운팅 검출기 유닛이다.
본 발명에서 이용 가능한 다른 종류의 가스에 근거를 둔 검출기 유닛들에 관한 보다 상세한 설명을 위하여, 톰 프랭크 등에 의해 출원되어 XCounter AB로 양도된 이하의 미국 특허 출원에 참조가 만들어지는데, 상기 출원들은 참조로서 여기에 편입된 것들이다.: 08/969554(미국 특허 번호 6,118,125로 발행됨); 09/443,292; 09/443,320; 09/443,321; 09/444,569; 09/550288; 09/551603; 09/552692; 09/698174; 09/708521; 09/716228; 및 09/760748.

Claims (52)

  1. 전리 방사선이 대상물을 통과하거나 또는 상기 대상물로부터 분산됨에 따라, 상기 전리 방사선에 각각이 노출되어, 상기 각각의 전리 방사선을 1차원 이미지화하게 배열된, 복수의 1차원 검출기 유닛들(41)을 포함하는, 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치에 있어서,
    - 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들로부터의 상기 전리 방사선의 상기 1차원 이미지들이, 기록될 대상물의 상기 2차원 이미지의 일부분에 걸쳐 분포되도록, 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들이 밀집된 배열로 분포되어 있고, 여기에서
    상기 스캐닝에 근거를둔 검출기 장치가,
    - 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들이, 반복적으로 검출하여 상기 대상물의 2차원 이미지를 생성하게 배열되어 있는 동안, 상기 대상물과 관련하여 상기 1차원 검출기들의 배열을 이동시키는 디바이스(87 내지 89, 91); 및
    - 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열의 이동 및 이 배열에 의한 반복적인 검출들을 제어하는 제어 디바이스로서, (i) 상기 일차원 검출기 유닛들의 배열을 제어하여 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안의 짧은 기간 동안 전리 방사선을 검출하기에 적합화되어 있고, (ii) 상기 짧은 시간 동안 및 상기 이동의 초기 과정의 전 또는 그 과정 동안 전리 방사선의 상기 검출에 근거하여 상기 반복되는 검출들 중 각각의 것에 대한 최적의 노출 시간을 계산하기에 적합화되어 있으며, 그리고, (iii) 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열에 의해 상기 반복되는 검출들을제어하여 상기 반복되는 검출들의 각각의 것에 대한 상기 최적의 노출시간을 자동적으로 얻어 최적의 이미지질을 얻기에 적합화되어 있는 상기 제어 디바이스
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    두개의 인접한 일차원 방사선 검출기 유닛들 간의 각각의 거리는, 약 30mm 보다 작거나, 바람직하게는 약 20mm 보다 작거나, 보다 바람직하게는 약 10mm 보다 작거나, 가장 바람직하게는 약 5mm 보다 작은 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들(41)은 적어도 100개이며, 상기 유닛들 각각이 적어도 100개의 채널들을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들(41) 각각은 광자 카운팅 검출기인 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는, 상기 복수의 1차원검출기 유닛들(41) 중 적어도 어느 하나를 따르는 공간 신호 강도 미분계수들를 계산하기에 적합화되어 있으며, 그리고 상기 최적의 노출 시간에 대한 상기 계산을 상기 계산된 공간 신호 강도 미분계수들에 근거하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는, 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 상기 전리 방사선 검출로부터 얻어질 수 있는 최소 또는 평균 신호 값에 근거하여, 상기 최적의 노출 시간을 계산하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는, 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열의 구역 내에서 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 상기 전리 방사선 검출로부터 얻어질 수 있는 최소 또는 평균 신호 값에 근거하여, 상기 최적의 노출 시간을 계산하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  8. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는, 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열 중 하나 또는 몇개의 1차원 검출기 유닛들의, 바람직하게는 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 상기 전리 방사선 검출로부터 얻어질 수 있는, 가장 낮은 통합된 신호 값을 갖는 하나 또는 몇개의 1차원 검출기 유닛들의 통합된 신호값에 근거하여, 상기 최적의 노출 시간을 계산하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는, 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들이 반복적으로 검출하여 상기 대상물의 2차원 이미지를 생성하는 동안, 상기 대상물과 관련하여 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열을 연속적으로 이동시키도록 이동하는 상기 디바이스(87 내지 89, 91)를 제어하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는, 상기 반복된 검출들 각각의 것에 대한 상기 계산된 최적의 노출 시간에 근거를 둔 속도로, 상기 대상물과 관련하여 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열을 이동시키도록 이동하는 상기 디바이스(87 내지 89, 91)를 제어하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  11. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는, (i) 상기 대상물과 관련하여 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열을 계단적으로 이동시키도록 이동하는 상기 디바이스(87 내지 89, 91)를 제어하기에 적합화되어 있으며, 그리고 (ii) 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열이 상기 대상물에 관련하여 고정된 채로 유지되는 동안, 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들을 제어하여 검출하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 1차원 검출기 유닛들의 상기 배열이 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 전리 방사선을 검출하는 동안의 상기 짧은 시간은, 100ns 내지 1s의 시간 간격을 갖거나, 바람직하게는 1㎲ 내지 100ms 의 시간 간격을 갖거나, 가장 바람직하게는 10㎲ 내지 10ms의 시간 간격을 갖는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는, 다양한 대상물 특성들에 대하여 요구되는 신호 세기들의 룩업 테이블 또는 다양한 대상물 특성들에 대하여 요구되는 신호 세기들을 결정하는 알고리즘을 포함하고 있으며, (i) 이차원 이미지로 기록될 상기 대상물의특성을 입력받기에, 그리고 (ii) 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정동안 전리 방사선에 대한 상기 검출로부터 얻어질 수 있는 신호 세기와 상기 요구된 신호 세기와의 비율을 가지고서 상기 짧은 시간을 증가시키는 것에 의하여, 상기 반복되는 검출들의 각각의 것에 대한 최적의 노출 시간을 계산하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 다양한 대상물 특성들은 대상물의 두께들을 포함하고 있으며, 여기에서, 예를들어 상기 대상물은 압박받는 가슴이며, 상기 두께들은 특정 압박 힘에서의 두께들로서 정의되는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  15. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,
    상기 다양한 대상물 특성들은 산정된 밀도들을 포함하고 있으며, 여기에서, 예를 들어 상기 대상물은 가슴이며, 상기 산정된 밀도들은 지방 함유량 대 다른 조직의 함유량으로서 정의되는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  16. 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 대상물은 압박받는 가슴이며, 상기 다양한 대상물 특성들은 압박 힘에있어서의 변화에 의하여 야기될 수 있는 압박받는 가슴 두께 변화들을 포함하는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  17. 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 대상물은 압박받는 가슴이며, 상기 다양한 대상물 특성들은 압박 힘에 있어서의 변화에 의하여 야기될 수 있는 흡수의 변화를 포함하는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항의 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치에 있어서, 상기 대상물(55)의 상류측에 있는 전리 방사선의 경로에 배열되어 있는 제어 가능한 가변 조리개를 갖는 시준기(64)를 포함하고 있으며, 여기에서
    상기 제어 디바이스는, (i) 상기 이동의 초기과정 전 또는 그 과정 동안 상기 전리 방사선 검출로부터 상기 대상물의 외형을 추론하기에 그리고, (ii) 상기 차폐 디바이스의 상기 가변 조리개를 제어하여 상기 대상물을 관통하지 못하거나 또는 상기 대상물로부터 분산되지 못하는 방사선을 차폐하기에 적합화되어 있으며, 그리고 상기 차폐 디바이스(64)는 상기 대상물에 관련하여 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열의 이동 동안에 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열에 관하여 고정되게 배열되는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항의 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기장치에 있어서, 제어가능한 가변 스펙트럼의 전송 특성을 갖고서, 상기 대상물(55)의 상류에 있는 상기 전리 방사선의 경로에 배열되어 있는 필터 디바이스를 포함하고 있으며, 여기에서
    상기 제어 디바이스는, (i) 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안 상기 전리 방사선의 검출로부터 상기 검출의 명암 대비를 나타내는 측정값을 추론하기에, 그리고 (ii) 상기 검출의 명암대비를 나타내는 상기 측정값에 응하여 상기 필터 디바이스의 가변 스펙트럼의 전송 특성들을 제어하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  20. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항의 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치에 있어서, 상기 전리 방사선을 생산하는 X-선 튜브(81)를 포함하며, 상기 X-선 튜브(81)는 전자들을 방출하는 캐소드 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되고 X-선 소스인 애노드를 포함하고, 상기 튜브는 상기 애노드와 상기 캐소드 간에 전압 강하인 제어 가능한 가변 작동 전압, 상기 애노드와 상기 캐소드 간의 전류인 튜브 전류 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되는 상기 애노드 구역인 촛점 크기를 갖고 있으며, 여기에서
    상기 제어 디바이스는, 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 상기 전리 방사선의 검출에 응하여 상기 X-선 튜브의 가변 작동 전압을 제어하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  21. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항의 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치에 있어서, 상기 전리 방사선을 생산하는 X-선 튜브(81)를 포함하며, 상기 X-선 튜브(81)는 전자들을 방출하는 캐소드 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되고 X-선 소스인 애노드를 포함하고, 상기 튜브는 상기 애노드와 상기 캐소드 간에 전압 강하인 제어 가능한 가변 작동 전압, 상기 애노드와 상기 캐소드 간의 전류인 제어 가능한 가변 튜브 전류 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되는 상기 애노드 구역인 촛점 크기를 가지고 있으며, 여기에서
    상기 제어 디바이스는, 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 상기 전리 방사선의 검출에 응하여 상기 X-선 튜브의 가변 튜브 전류를 제어하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  22. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항의 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치에 있어서, 상기 전리 방사선을 생산하는 X-선 튜브(81)를 포함하며, 상기 X-선 튜브(81)는 전자들을 방출하는 캐소드 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되고 X-선 소스인 애노드를 포함하고, 상기 튜브는 상기 애노드와 상기 캐소드 간에 전압 강하인 제어 가능한 가변 작동 전압, 상기 애노드와 상기 캐소드 간의 전류인 제어 가능한 가변 튜브 전류 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되는 상기 애노드 구역인 제어 가능한 가변 촛점 크기를 가지고 있으며, 여기에서
    상기 제어 디바이스는, 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안에 상기 전리 방사선의 검출에 응하여 상기 X-선 튜브의 가변 촛점 크기를 제어하기에 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  23. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은 공통 지지대(42) 위에 2차원 패턴으로 분포되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  24. 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은 열들(44; 46; 71) 및 더미들(45; 63; 73) 상태로 위치되어 있고, 상기 열들은 상기 1차원 검출기 유닛들과 평행하고, 상기 더미들은 상기 일차원 검출기 유닛들에 직교하는데, 여기에서 각각의 열에 있는 상기 1차원 검출기 유닛들은 상기 대상물을 1차원에서 완전히 함께 검출할 수 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  25. 제 24 항에 있어서,
    상기 각 열(44; 61)의 1차원 검출기 유닛들은, 상기 열 방향에서, 인접한 1차원 검출기 유닛들 간의 중첩부(X1)를 갖고서 엇갈려져 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  26. 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은 원형으로 배열되어 있으며, 그 각각이 상기 원형에 관하여 방사상으로 방향잡혀져 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  27. 제 1 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들 각각은 가스에 근거를 둔 전리 방사선 검출기이며, 여기에서 방사선 광자들과 가스들 간의 상호작용에 의하여 방출된 전자들이 상기 1차원 검출기 유닛에 들어온 전리 방사선에 수직한 방향으로 추출될 수 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  28. 제 1 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 대상물(55)의 상류측에 있는 상기 전리 방사선의 경로에 배열되어 있는 흡수 재질의 시준기(51)를 포함하며, 상기 시준기는 복수의 방사선 통과 슬릿(52)을 포함하고 있으며, 상기 방사선 통과 슬릿의 수가 1차원 검출기 유닛들의 수에 상응하며, 여기에서 상기 시준기의 상기 방사선 통과 슬릿들에 관통될 수 있는 평면 선(ray) 묶음들이 상기 각각의 1차원 검출기 유닛들을 비추도록, 상기 방사선 통과 슬릿들이 상기 1차원 검출기 유닛들과 정렬 맞춤되어 있으며, 그리고 상기 대상물에 대한 상기 1차원 검출기 유닛들의 이동 동안 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열에 대하여 고정되게 상기 시준기가 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치.
  29. 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법에 있어서,
    - 복수의 1차원 검출기 유닛들(41)을 포함하되, 상기 각각의 유닛들이 노출되게될 각각의 전리 방사선을 1차원 이미지화하게 상기 각각의 유닛들이 배열되게, 그리고 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들이 밀집된 배열로 분포되어 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들로부터의 상기 전리 방사선에 대한 1차원 이미지들이, 기록될 2차원 이미지의 일부분에 분포되게, 상기 복수의 일차원 검출기 유닛들을 포함하는, 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 장치를 제공하는 단계;
    - 짧은 시간 동안 대상물을 관통하거나 상기 대상물로부터 분산될 수 있는 전리 방사선을 검출하는 단계;
    - 짧은 시간 동안 상기 전리 방사선의 검출에 근거하여 반복되는 검출들 각각에 대한 최적의 노출 시간을 계산하는 단계; 및
    - 상기 대상물을 관통하거나 상기 대상물로부터 분산될 수 있는 전리 방사선에 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들을 노출시키는 동안, 상기 대상물에 관련하여 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들의 배열을 이동시켜서, 상기 계산된 최적의 노출시간을 이용하여 반복적으로 검출하여 상기 대상물의 2차원 이미지를 생성하는 단계
    를 포함하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  30. 제 29 항에 있어서,
    인접한 두개의 1차원 방사선 검출기 유닛들 간의 각각의 거리는 약 30mm보다 작으며, 바람직하게는 약 20mm보다 작으며, 보다 바람직하게는 약 10mm보다 작으며, 가장 바람직하게는 약 5mm보다 작은 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  31. 제 29 항 또는 제 30 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들(41)은 적어도 100개이며, 상기 유닛들 각각은 적어도 100개의 채널들을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  32. 제 29 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들(41) 각각은 광자 카운팅 검출기인 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  33. 제 29 항 내지 제 32 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들(41) 중 적어도 하나를 따르는 공간 신호 강도 미분계수들을 계산하는 단계와, 그리고 상기 최적의 노출 시간의 계산을 상기 계산된 공간 신호 강도 미분계수들에 근거하게 하는 단계
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  34. 제 29 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 최적의 노출 시간은, 짧은 시간 동안 상기 전리 방사선 검출로부터 얻어질 수 있는 최소 또는 평균 신호값에 근거하여 계산되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  35. 제 29 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 최적의 노출 시간은, 짧은 시간 동안 상기 전리 방사선 검출로부터 얻어질 수 있는 상기 1차원 검출기 유닛들의 상기 배열의 구역 내의 최소 또는 평균 신호값에 근거를 두어 계산되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  36. 제 29 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 최적의 노출 시간은, 상기 1차원 검출기 유닛들 배열 중 하나 또는 몇개의 1차원 검출기 유닛들, 바람직하게는 짧은 시간 동안 전리 방사선의 검출로부터 얻어질 수 있는 가장 낮은 통합된 신호값을 갖는 하나 또는 몇개의 1차원 검출기 유닛의 통합된 신호값에 근거하여 계산되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  37. 제 29 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 1차원 검출기 유닛들의 배열은, 반복적으로 검출하여 상기 대상물에 대한 2차원 이미지를 생성하는 동안, 상기 대상물과 관련하여 연속적으로 이동되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  38. 제 37 항에 있어서,
    상기 1차원 검출기 유닛들의 배열은, 상기 계산된 최적의 노출 시간에 근거하는 속도에서 상기 대상물과 관련하여 이동되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  39. 제 29 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 1차원 검출기 유닛들의 배열은 상기 대상물과 관련하여 계단적으로 이동되며, 상기 계산된 최적의 노출 시간을 이용하는 상기 반복되는 검출은 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열이 상기 대상물에 관하여 고정된 채로 유지되는 동안 상기 이동의 각각의 단계들 사이에서 실행되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  40. 제 29 항 내지 제 39 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안 상기 1차원 검출기 유닛들이 전리 방사선을 검출하는 동안의 상기 짧은 시간은, 100ns 내지 1s의 짧은 시간, 바람직하게는 1㎲ 내지 100ms의 짧은 시간이며, 가장 바람직하게는 10㎲ 내지 10ms의 짧은 시간인 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  41. 제 29 항 내지 제 40 항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 2차원 이미지로 기록될 상기 대상물의 특성이 수신되는 단계;
    - 2차원 이미지로 기록될 상기 대상물에 대하여 요구되는 신호 세기가, 다양한 대상물의 특성들에 대하여 요구된 신호 세기들의 룩업 테이블을 참조하는 것에 의하여, 또는 알고리즘에 의하여 설정되는 단계; 및
    - 상기 반복되는 검출들 각각의 것에 대한 상기 최적의 노출 시간이, 짧은 시간 동안 상기 전리 방사선 검출로부터 얻어질 수 있는 신호 세기와 상기 요구된 신호 세기와의 비율을 가지고서 상기 짧은 시간을 증가시키는 것에 의하여 계산되는 단계
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  42. 제 29 항 내지 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 상기 대상물(55)의 상류측에 있는 상기 전리 방사선 경로에 가변 조리개를 갖고 있는 차폐 디바이스(64)를 배열하는 단계;
    - 상기 전리 방사선 검출로부터 상기 대상물의 외형을 짧은 시간동안 추론하는 단계; 및
    - 상기 차폐 디바이스의 가변 조리개를 조정하여, 상기 대상물을 관통하지못하거나 상기 대상물로부터 분산되지 못하는 방사선을 차폐하는 단계를 더 포함하되,
    - 상기 대상물에 관련하여 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열을 이동시키는 단계 동안, 상기 시준기 디바이스(64)는 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열에 관하여 고정되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  43. 제 29 항 내지 제 42 항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 상기 대상물(55)의 상류측에 있는 상기 전리 방사선의 경로에 가변 스펙트럼 전송 특성들을 갖는 필터 디바이스를 배열하는 단계;
    - 상기 이동의 초기 과정 전 또는 그 과정 동안 상기 전리 방사선 검출로부터, 상기 검출의 명암대비를 나타내는 측정값을 추론하는 단계; 및
    - 상기 검출의 명암대비를 나타내는 상기 측정값에 응하여 상기 필터 디바이스의 상기 가변 스펙트럼의 전송 특성들을 조정하는 단계
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  44. 제 29 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 전자들을 방출하는 캐소드 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되고 X-선들의 소스인 애노드를 갖고 있는 X-선 튜브로서, 상기 애노드 및 상기 캐소드 사이에서의 전압 강하인 가변 작동 전압, 상기 애노드 및 상기 캐소드 간의 전류인 튜브전류, 그리고 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되는 상기 애노드의 구역인 촛점 크기를 갖고 있는, 상기 X-선 튜브에 의하여 상기 전리 방사선을 생성하는 단계; 및
    - 짧은 시간 동안 상기 전리 방사선 검출에 응하여 상기 X-선 튜브의 상기 가변 작동 전압을 조정하는 단계
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  45. 제 29 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 전자들을 방출하는 캐소드 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되고 X-선들의 소스인 애노드를 갖고 있는 X-선 튜브로서, 상기 애노드 및 상기 캐소드 사이에서의 전압 강하인 작동 전압, 상기 애노드 및 상기 캐소드 간의 전류인 가변 튜브 전류, 그리고 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되는 상기 애노드의 구역인 촛점 크기를 갖고 있는, 상기 X-선 튜브에 의하여 상기 전리 방사선을 생성하는 단계; 및
    - 짧은 시간 동안 상기 전리 방사선 검출에 응하여 상기 X-선 튜브의 상기 가변 튜브 전류를 조정하는 단계
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  46. 제 29 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 전자들을 방출하는 캐소드 및 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되는 X-선들의 소스인 애노드를 갖고 있는 X-선 튜브로서, 상기 애노드 및 상기 캐소드 사이에서의 전압 강하인 작동 전압, 상기 애노드 및 상기 캐소드 간의 전류인 튜브 전류, 그리고 상기 전자들이 위에서 충돌하게 되는 상기 애노드의 구역인 가변 촛점 크기를 갖고 있는, 상기 X-선 튜브에 의하여 상기 전리 방사선을 생성하는 단계; 및
    - 짧은 시간 동안 상기 전리 방사선 검출에 응하여 상기 X-선 튜브의 상기 가변 촛점 크기를 조정하는 단계
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  47. 제 29 항 내지 제 46 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은 공통 지지대(42) 위에서 2차원 패턴으로 제공되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  48. 제 29 항 내지 제 47 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은 열들(44; 61; 71) 및 더미들(45; 63; 73)로 제공되는데, 상기 열들은 상기 1차원 검출기 유닛들과 평행하고, 상기 더미들은 상기 1차원 검출기 유닛들에 수직이며, 여기에서 각각의 열에 있는 상기 1차원 검출기 유닛들은 함께 상기 대상물을 1차원에서 완전히 검출할 수 있는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  49. 제 48 항에 있어서,
    각각의 열들(44; 61)의 상기 1차원 검출기 유닛들은, 상기 열 방향으로 인접한 1차원 검출기 유닛들 사이에 중첩부(X1)를 갖고서 엇갈려져 있는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  50. 제 29 항 내지 제 47 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은 원형으로 배열되어 있으며, 그 각각이 상기 원형에 관하여 방사상으로 방향잡혀져 있는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  51. 제 29 항 내지 제 50 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들 각각은 가스에 근거를 둔 전리 방사선 검출기이며, 여기에서 방사선 광자들과 가스 간의 상호 작용에 의하여 방출된 전자들이 상기 1차원 검출기 유닛에 들어온 상기 전리 방사선에 수직인 방향에서 추출되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
  52. 제 29 항 내지 제 51 항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 상기 대상물(55)의 상류측에 있는 상기 전리 방사선의 경로에, 흡수 재질의 시준기(51)로서, 복수의 방사선 통과 슬릿들(52)을 포함하고 있으며, 상기 방사선 통과 슬릿들의 수가 1차원 검출기 유닛들의 수에 상응하게 되어있는 시준기를 배열하는 단계; 및
    - 상기 시준기의 방사선 통과 슬릿들에 관통될 수 있는 평면 선 묶음들이 상기 각각의 1차원 검출기 유닛들을 비추도록, 상기 방사선 통과 슬릿들을 상기 1차원 검출기 유닛들과 정렬 맞추는 단계를 더 포함하되, 여기에서
    - 상기 시준기는 상기 대상물에 관련하여 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열을 이동시키는 단계 동안, 상기 1차원 검출기 유닛들의 배열에 관하여 고정되는 것을 특징으로 하는 대상물의 2차원 이미지를 기록하는 방법.
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