JPH04160351A - ガンマ又はx線によるテスト対象物検査装置 - Google Patents
ガンマ又はx線によるテスト対象物検査装置Info
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- JPH04160351A JPH04160351A JP3000218A JP21891A JPH04160351A JP H04160351 A JPH04160351 A JP H04160351A JP 3000218 A JP3000218 A JP 3000218A JP 21891 A JP21891 A JP 21891A JP H04160351 A JPH04160351 A JP H04160351A
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title abstract description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 14
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract description 4
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 abstract description 2
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 abstract description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 238000009659 non-destructive testing Methods 0.000 description 2
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 1
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
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- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
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- G01N2223/05—Investigating materials by wave or particle radiation by diffraction, scatter or reflection
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- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
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- G01N2223/321—Accessories, mechanical or electrical features manipulator for positioning a part
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[0001]
本発明はテスト対象物に向けられる少なくとも一つの1
次X線ペンシルビームを発生する1次X線源と、テスト
対象物と検出器との間に配置される少なくとも一つのス
リットダイアフラムとからなり、ガンマ又はX線により
テスト対象物を検査し、テスト対象物に1次ビームによ
り発生した2次X線(コンプトン効果)を少なくとも一
つの検出器に向ける装置に係る。 [0002]
次X線ペンシルビームを発生する1次X線源と、テスト
対象物と検出器との間に配置される少なくとも一つのス
リットダイアフラムとからなり、ガンマ又はX線により
テスト対象物を検査し、テスト対象物に1次ビームによ
り発生した2次X線(コンプトン効果)を少なくとも一
つの検出器に向ける装置に係る。 [0002]
【従来の技術】
この種の装置は欧州特許明細書第184247号で公知
であり、高品質部品、例えば航空宇宙産業に用いられる
部品の非破壊検査に用いられる。 [0003] テスト対象物の物質を貫通するペンシル型1次X線ビー
ムの強度は吸収及び散乱により変化する。1次放射エネ
ルギーが大きくなるにつれ、コンプトン散乱は大きくな
り、その散乱は1次放射線の通路上の物質の各点から実
質的に球状に伝搬する。従ってコンプトン散乱の強度は
全ての角方向に実質的に等しい。軽金属プラスチック、
積層又はセラミックのような侵れた物質は有利に試、験
されうる[0004] 1次の放射線方向に対して後方散乱される2次放射線の
物質が適切な検出器により検出される時、特に簡単なテ
スト用装置が得られる。次に、検出器は1次X線源と同
じテスト対象物側に配置される。 [0005] スリットダイアフラムはピンホールカメラと同じように
動作する。検出器に関する空間のその位置は1次ビーム
、路に位置するテスト対象物のその点から決められ、散
乱放射線は検出器に至る。テスト対象物の3次元領域は
検査装置に対するテスト対象物の変位又はその逆により
検査されうる。 [0006] 複数の検出器のアレーが用いられる場合、所定の奥行範
囲で1次X線ビームの方向に互いに続くテスト対象物の
点はテスト対象物又は検査装置の置換なしに走査されう
る。更に、1次X線ビームは、例えば欧州特許明細書第
184247号に記載のような適切なたわみ装置により
ビーム方向に直角にシフトされ、これによりテスト対象
物の面は検査装置の複雑な変位なしに走査されうる。 [0007] テスト対象物及び検査装置間の所定の空間関係に対し、
測定されうる奥行範囲はスリットダイアフラム及び検出
器の位置間の幾何方向関係により予め決められる。 [0008]
であり、高品質部品、例えば航空宇宙産業に用いられる
部品の非破壊検査に用いられる。 [0003] テスト対象物の物質を貫通するペンシル型1次X線ビー
ムの強度は吸収及び散乱により変化する。1次放射エネ
ルギーが大きくなるにつれ、コンプトン散乱は大きくな
り、その散乱は1次放射線の通路上の物質の各点から実
質的に球状に伝搬する。従ってコンプトン散乱の強度は
全ての角方向に実質的に等しい。軽金属プラスチック、
積層又はセラミックのような侵れた物質は有利に試、験
されうる[0004] 1次の放射線方向に対して後方散乱される2次放射線の
物質が適切な検出器により検出される時、特に簡単なテ
スト用装置が得られる。次に、検出器は1次X線源と同
じテスト対象物側に配置される。 [0005] スリットダイアフラムはピンホールカメラと同じように
動作する。検出器に関する空間のその位置は1次ビーム
、路に位置するテスト対象物のその点から決められ、散
乱放射線は検出器に至る。テスト対象物の3次元領域は
検査装置に対するテスト対象物の変位又はその逆により
検査されうる。 [0006] 複数の検出器のアレーが用いられる場合、所定の奥行範
囲で1次X線ビームの方向に互いに続くテスト対象物の
点はテスト対象物又は検査装置の置換なしに走査されう
る。更に、1次X線ビームは、例えば欧州特許明細書第
184247号に記載のような適切なたわみ装置により
ビーム方向に直角にシフトされ、これによりテスト対象
物の面は検査装置の複雑な変位なしに走査されうる。 [0007] テスト対象物及び検査装置間の所定の空間関係に対し、
測定されうる奥行範囲はスリットダイアフラム及び検出
器の位置間の幾何方向関係により予め決められる。 [0008]
本発明の目的は、検出器によりカバーされるテスト対象
物の奥行範囲がテスト対象物又は検査装置の位置を変え
ることなしに変えられうるような上記種類の装置を構成
することである。 [0009]
物の奥行範囲がテスト対象物又は検査装置の位置を変え
ることなしに変えられうるような上記種類の装置を構成
することである。 [0009]
この目的は、検出器に関するスリットダイアフラムの位
置が調整装置により変更されうろことにより達せられる
。 [0010] 本発明によりスリットダイアフラム又は検出器からなる
検査装置の小さい部品だけを調整するだけでよい。これ
は高精度で簡単に実現されうる。スリットダイアフラム
の位置を変更することは特に簡単である。 [0011] スリットダイアフラムの相対位置はテスト対象奥行を予
め決め、それからの2次放射は検出器により検出される
。複数の検出器のアレーが用いられる時、スリットダイ
アフラムの位置はまたは検出器によりカバーされる位置
の間の距離に影響する。従って、検出器のアレー、即ち
個々の関連した測定点間の距離による解像度のみが変化
する場合、スリットダイアフラムはスリットを貫通する
2次放射の中心軸に対応する座標方向に望ましくは変位
される。しかし、個々の点がその空間を変えずに1次ビ
ームの方向に共にシフトされうる場合、変位の座標方向
は散乱放射の中心軸に関して望ましくは傾けられるべき
である。その場合には、座標方向が2次X線の中心軸に
並行に延在することで通常は十分であり;これは構造的
に単純な方法で達成される。この単純な解決策により、
検出された個々の点間の空間はただ無意味に変えられう
る。 [0012] 検出された点の空間と同様奥行の位置が変えられる場合
、スリットダイアフラム又は検出器は2つの座標方向に
変位可能であるべきである。 [0013] スリットダイアフラム又は検出器がマニピュレータによ
り少なくとも一つの座標方向に変位可能である時に、容
易に取扱える検査装置が得られる。所望の解決策により
、マニピュレータは電動モータにより駆動されうる。そ
の場合には、調整操作は任意の位置の制御ディスク上で
始められる。 [0014] マニピュレータの電動モータがプログラム可能な制御回
路を介して制御される時、所定の領域に位置した測定点
は自動的に走査されうる。個々の点に対する測定値は全
体の映像を形成するよう蓄積されうる。 [0015]
置が調整装置により変更されうろことにより達せられる
。 [0010] 本発明によりスリットダイアフラム又は検出器からなる
検査装置の小さい部品だけを調整するだけでよい。これ
は高精度で簡単に実現されうる。スリットダイアフラム
の位置を変更することは特に簡単である。 [0011] スリットダイアフラムの相対位置はテスト対象奥行を予
め決め、それからの2次放射は検出器により検出される
。複数の検出器のアレーが用いられる時、スリットダイ
アフラムの位置はまたは検出器によりカバーされる位置
の間の距離に影響する。従って、検出器のアレー、即ち
個々の関連した測定点間の距離による解像度のみが変化
する場合、スリットダイアフラムはスリットを貫通する
2次放射の中心軸に対応する座標方向に望ましくは変位
される。しかし、個々の点がその空間を変えずに1次ビ
ームの方向に共にシフトされうる場合、変位の座標方向
は散乱放射の中心軸に関して望ましくは傾けられるべき
である。その場合には、座標方向が2次X線の中心軸に
並行に延在することで通常は十分であり;これは構造的
に単純な方法で達成される。この単純な解決策により、
検出された個々の点間の空間はただ無意味に変えられう
る。 [0012] 検出された点の空間と同様奥行の位置が変えられる場合
、スリットダイアフラム又は検出器は2つの座標方向に
変位可能であるべきである。 [0013] スリットダイアフラム又は検出器がマニピュレータによ
り少なくとも一つの座標方向に変位可能である時に、容
易に取扱える検査装置が得られる。所望の解決策により
、マニピュレータは電動モータにより駆動されうる。そ
の場合には、調整操作は任意の位置の制御ディスク上で
始められる。 [0014] マニピュレータの電動モータがプログラム可能な制御回
路を介して制御される時、所定の領域に位置した測定点
は自動的に走査されうる。個々の点に対する測定値は全
体の映像を形成するよう蓄積されうる。 [0015]
本発明は添付図面を参照して詳細に説明される。
[0016]
任意の公知の型のX線源(図示せず)から放射するX線
1は、測定ヘッド5のチャンネル4を介してスリット2
から放射した後ペンシルビーム3としてテスト対象物4
を貫通する。テスト対象物を通るその通路の全ての点に
おいて、散乱放射は全ての角方向に分散し、該放射の強
度は物質の種類に存る。 [0017] スリットダイアフラム8,9は2次放射線を所定の点か
ら測定ヘッド5に固定的に配置された検出器アレー6及
び7へ伝送する。これらの検出器アレーのそれぞれは、
例えば1次ビーム3の方向に互いに重なって配置される
。5つの個々の検出器からなり、これにより検出器アレ
ー6又は7は夫々奥行領域10又は奥行領域11の5つ
の点をカバーする。 [0018] 2つの検出器アレー6及び7により覆われた点は一般的
に同一でなく、例えばそれらは互いに交互にづれな状態
になる。原則的に単一検出器からなる単一検出アレーは
本発明による装置を満足する。しかし、複数の検出器は
並行測定の同時実行により測定時間を削減するのに有利
である。これは、走査さるべき多数の測定点及び雑音抑
圧に必要な測定時間がテスト対象物の検査用に対する実
質的測定期間になるからである。 [0019] スリットダイアフラム8及び9は各ダイアフラム部材1
6及び17の各スリットリム12.13及び14.15
間に形成される。これらのダイアフラム部材は夫々マニ
ピュレータ18及び19により夫々スピンドル20.2
1及び22,23を介して各両側矢印24及び25の方
向に独立的に調整自在である。 [0020] 右側ダイアフラム部材16がきわめて低い位置にある時
、左側ダイアフラム部材17は持ち上った位置に上げら
れる。従って、検出器アレー7に至る2次極限放射26
及び27は検出器アレー6に至る2次の極限放射28及
び29間の奥行領域10より高い奥行領域11を画成す
る。 [0021] マニピュレータ18及び19は夫々制御回路30及び3
1により制御される電動モータ(図示せず)により駆動
される。制御回路は、測定点が自動的にシーケンスで異
なる奥行領域に順次カバーされるようプログラムされて
もよい。測定データが蓄積され、表示スクリーン上に最
後に表示される。 [0022] 料量+4−160351 (7) たわみ装置(欧州特許明細書第184247号参照)が
1次ビーム(簡略化の為図示されない)(欧州゛特許第
184247号参照)の為に設けられている時、テスト
対象物4の平面領域が撮像されうる。測定ヘッドが第3
の座標方向に所定の範囲に亘って付加的に変位自在であ
る時、テスト対象物4の3次元部分が映像されうる。 [0023] 検査によりカバーされた奥行範囲の望ましい変更は、ス
リットダイアフラムが矢印24又は1次ビーム3の方向
にのみ調整自在である時、既に可能である。その場合は
、調整機構の特に簡単な構成が得られ、ここでダイアフ
ラム部材16及び17は一つの構造ユニットとして共に
変位されうる。
1は、測定ヘッド5のチャンネル4を介してスリット2
から放射した後ペンシルビーム3としてテスト対象物4
を貫通する。テスト対象物を通るその通路の全ての点に
おいて、散乱放射は全ての角方向に分散し、該放射の強
度は物質の種類に存る。 [0017] スリットダイアフラム8,9は2次放射線を所定の点か
ら測定ヘッド5に固定的に配置された検出器アレー6及
び7へ伝送する。これらの検出器アレーのそれぞれは、
例えば1次ビーム3の方向に互いに重なって配置される
。5つの個々の検出器からなり、これにより検出器アレ
ー6又は7は夫々奥行領域10又は奥行領域11の5つ
の点をカバーする。 [0018] 2つの検出器アレー6及び7により覆われた点は一般的
に同一でなく、例えばそれらは互いに交互にづれな状態
になる。原則的に単一検出器からなる単一検出アレーは
本発明による装置を満足する。しかし、複数の検出器は
並行測定の同時実行により測定時間を削減するのに有利
である。これは、走査さるべき多数の測定点及び雑音抑
圧に必要な測定時間がテスト対象物の検査用に対する実
質的測定期間になるからである。 [0019] スリットダイアフラム8及び9は各ダイアフラム部材1
6及び17の各スリットリム12.13及び14.15
間に形成される。これらのダイアフラム部材は夫々マニ
ピュレータ18及び19により夫々スピンドル20.2
1及び22,23を介して各両側矢印24及び25の方
向に独立的に調整自在である。 [0020] 右側ダイアフラム部材16がきわめて低い位置にある時
、左側ダイアフラム部材17は持ち上った位置に上げら
れる。従って、検出器アレー7に至る2次極限放射26
及び27は検出器アレー6に至る2次の極限放射28及
び29間の奥行領域10より高い奥行領域11を画成す
る。 [0021] マニピュレータ18及び19は夫々制御回路30及び3
1により制御される電動モータ(図示せず)により駆動
される。制御回路は、測定点が自動的にシーケンスで異
なる奥行領域に順次カバーされるようプログラムされて
もよい。測定データが蓄積され、表示スクリーン上に最
後に表示される。 [0022] 料量+4−160351 (7) たわみ装置(欧州特許明細書第184247号参照)が
1次ビーム(簡略化の為図示されない)(欧州゛特許第
184247号参照)の為に設けられている時、テスト
対象物4の平面領域が撮像されうる。測定ヘッドが第3
の座標方向に所定の範囲に亘って付加的に変位自在であ
る時、テスト対象物4の3次元部分が映像されうる。 [0023] 検査によりカバーされた奥行範囲の望ましい変更は、ス
リットダイアフラムが矢印24又は1次ビーム3の方向
にのみ調整自在である時、既に可能である。その場合は
、調整機構の特に簡単な構成が得られ、ここでダイアフ
ラム部材16及び17は一つの構造ユニットとして共に
変位されうる。
【図1】
本発明によるテスト対象物の非破壊検査用装置の測定ヘ
ッドの断面図である。
ッドの断面図である。
I X線
2 スリット
3 ペンシルビーム
4 テスト対象物
5 測定ヘッド
6.7 検出器アレー
8.9 スリットダイアフラム
10.11 奥行領域
12.13,14.15 スリットリム16.17
ダイアフラム部材 18.19 マニピュレータ 20.21,22,23 スピンドル24.25
矢印 26.27,28.29 極限放射 30.31− 制御回路
ダイアフラム部材 18.19 マニピュレータ 20.21,22,23 スピンドル24.25
矢印 26.27,28.29 極限放射 30.31− 制御回路
図面
【図1】
Claims (10)
- 【請求項1】テスト対象物(4)に向けられる少なくと
も一つの1次X線ペンシルビーム(3)を発生する1次
X線源と、テスト対象物(4)と検出器(6、7)との
間に配置される少なくとも一つのスリットダイアフラム
(8、9)とからなり、ガンマ又はX線によりテスト対
象物(4)を検査し、テスト対象物(4)に1次ビーム
(3)により発生した散乱X線(26、27、28、2
9)を少なくとも一つの検出器(6、7)に向ける装置
であって、検出器(6、7)に対するスリットダイアフ
ラム(8、9)の位置が調整装置(18、19)により
変更されうることを特徴とする装置。 - 【請求項2】スリットダイアフラム(8、9)の位置が
変更されうることを特徴とする請求項1の装置。 - 【請求項3】検出器(6、7)の位置が変更されうるこ
とを特徴とする請求項1の装置。 - 【請求項4】スリット
ダイアフラム(8、9)又は検出器(6、7)が単一座
標方向に変位されうることを特徴とする請求項1乃至3
のうちいずれか一項の装置。 - 【請求項5】座標方向が2次X線(26、27又は28
、29)の中心軸に関して傾くことを特徴とする請求項
4の装置。 - 【請求項6】座標方向が散乱X線(26、27又は28
、29)の中心軸に本質的に並行に延在することを特徴
とする請求項4の装置。 - 【請求項7】スリットダイアフラム(8、9)又は検出
器(6、7)は2つの座標方向に変位可能であることを
特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか一項の装置。 - 【請求項8】スリットダイアフラム(8、9)又は検出
器(6、7)はマニピュレータ(18、19)により少
なくとも一つの座標方向に変位できることを特徴とする
請求項1乃至7のうちいずれか一項の装置。 - 【請求項9】マニピュレータ(18、19)は電動モー
タにより駆動されうることを特徴とする請求項8の装置
。 - 【請求項10】マニピュレータ(18、19)の電動モ
ータはプログラム可能な制御回路(30、31)により
制御されうることを特徴とする請求項9の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4000507A DE4000507A1 (de) | 1990-01-10 | 1990-01-10 | Anordnung zur untersuchung eines pruefobjekts mit gamma- oder roentgenstrahlung |
DE40005070 | 1990-01-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04160351A true JPH04160351A (ja) | 1992-06-03 |
JP3081002B2 JP3081002B2 (ja) | 2000-08-28 |
Family
ID=6397820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03000218A Expired - Fee Related JP3081002B2 (ja) | 1990-01-10 | 1991-01-07 | ガンマ又はx線によるテスト対象物検査装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5150395A (ja) |
EP (1) | EP0436986B1 (ja) |
JP (1) | JP3081002B2 (ja) |
DE (2) | DE4000507A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1990-12-18 DE DE59010822T patent/DE59010822D1/de not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-01-04 US US07/638,255 patent/US5150395A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-07 JP JP03000218A patent/JP3081002B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0436986A2 (de) | 1991-07-17 |
EP0436986A3 (en) | 1992-07-29 |
DE59010822D1 (de) | 1998-06-25 |
JP3081002B2 (ja) | 2000-08-28 |
US5150395A (en) | 1992-09-22 |
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