JP2594220B2 - 蛍光ｘ線分析方法 - Google Patents
蛍光ｘ線分析方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、蛍光Ｘ線分析方法に
関し、特に、試料の広い面積についての濃度や膜厚の分
布の分析に適した分析方法に関するものである。
関し、特に、試料の広い面積についての濃度や膜厚の分
布の分析に適した分析方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】蛍光Ｘ線分析法は、試料に一次Ｘ線を照
射して試料から発生した蛍光Ｘ線を分析することによ
り、試料の組成などを求める分析法である。この分析法
を用いて、元素の濃度分布を求めることがある。この一
例を図５に示す。
射して試料から発生した蛍光Ｘ線を分析することによ
り、試料の組成などを求める分析法である。この分析法
を用いて、元素の濃度分布を求めることがある。この一
例を図５に示す。
【０００３】図５（ａ）において、点状のＸ線源１Ａ
は、一次Ｘ線Ｂ１を出射する。この一次Ｘ線Ｂ１は、ポ
イントフォーカス用のコリメータ２Ａを通過して、試料
３の微小な点状部分３ａを照射する。照射された一次Ｘ
線Ｂ１は、試料３の原子を励起して、その元素固有の蛍
光Ｘ線Ｂ２を発生させる。試料３からの蛍光Ｘ線Ｂ２
は、Ｘ線検出器４に入射して検出される。この検出値か
ら蛍光Ｘ線Ｂ２の強度が求められ、試料３の点状部分３
ａの元素分析がなされる。上記試料３をＸ，Ｙ方向に走
査することで、Ｘ線分析を図５（ｂ）の多数の点状部分
３ａについて行うことにより、元素の二次元的な濃度分
布を求めることができる。
は、一次Ｘ線Ｂ１を出射する。この一次Ｘ線Ｂ１は、ポ
イントフォーカス用のコリメータ２Ａを通過して、試料
３の微小な点状部分３ａを照射する。照射された一次Ｘ
線Ｂ１は、試料３の原子を励起して、その元素固有の蛍
光Ｘ線Ｂ２を発生させる。試料３からの蛍光Ｘ線Ｂ２
は、Ｘ線検出器４に入射して検出される。この検出値か
ら蛍光Ｘ線Ｂ２の強度が求められ、試料３の点状部分３
ａの元素分析がなされる。上記試料３をＸ，Ｙ方向に走
査することで、Ｘ線分析を図５（ｂ）の多数の点状部分
３ａについて行うことにより、元素の二次元的な濃度分
布を求めることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ここで、この種の濃度
分布の分析では、図５（ａ）の一次Ｘ線Ｂ１の照射部
分、つまり点状部分３ａの直径を、たとえば１００μｍ
程度以下に絞ることで、空間的な分解能を高くしてい
る。しかし、この分析方法では、点状のＸ線源１Ａとポ
イントフォーカス用のコリメータ２Ａを用いているの
で、立体角が小さくなるから、試料３の点状部分３ａに
入射する一次Ｘ線Ｂ１の強度が小さく、そのため、濃度
についての精度が低くなるのは避けられない。
分布の分析では、図５（ａ）の一次Ｘ線Ｂ１の照射部
分、つまり点状部分３ａの直径を、たとえば１００μｍ
程度以下に絞ることで、空間的な分解能を高くしてい
る。しかし、この分析方法では、点状のＸ線源１Ａとポ
イントフォーカス用のコリメータ２Ａを用いているの
で、立体角が小さくなるから、試料３の点状部分３ａに
入射する一次Ｘ線Ｂ１の強度が小さく、そのため、濃度
についての精度が低くなるのは避けられない。
【０００５】また、図５（ｂ）のように多数の点状部分
３ａに、図５（ａ）の一次Ｘ線Ｂ１を照射して蛍光Ｘ線
Ｂ２の強度を測定するから、つまり、測定箇所が多いか
ら、測定に時間がかかるので、濃度分布のデータを疎ら
にせざるを得ない。したがって、図５（ｂ）のように、
濃度分布に見落とし部分３ｂが生じる。かかる問題は濃
度の分析に限らず、膜厚などの分布についても同様に生
じる。
３ａに、図５（ａ）の一次Ｘ線Ｂ１を照射して蛍光Ｘ線
Ｂ２の強度を測定するから、つまり、測定箇所が多いか
ら、測定に時間がかかるので、濃度分布のデータを疎ら
にせざるを得ない。したがって、図５（ｂ）のように、
濃度分布に見落とし部分３ｂが生じる。かかる問題は濃
度の分析に限らず、膜厚などの分布についても同様に生
じる。
【０００６】したがって、この発明の目的の１つは、試
料の二次元的な濃度や膜厚などの分布を求める蛍光Ｘ線
分析方法において、一次Ｘ線の強度を増加させることに
より分析精度を高めることができるとともに、分布の見
落としを少なくすることを目的とする。
料の二次元的な濃度や膜厚などの分布を求める蛍光Ｘ線
分析方法において、一次Ｘ線の強度を増加させることに
より分析精度を高めることができるとともに、分布の見
落としを少なくすることを目的とする。
【０００７】また、この発明の他の目的は、試料の広い
面積にわたって濃度や膜厚などの分布を、比較的短時間
の間に求めることができる蛍光Ｘ線分析方法を提供する
ことである。
面積にわたって濃度や膜厚などの分布を、比較的短時間
の間に求めることができる蛍光Ｘ線分析方法を提供する
ことである。
【０００８】
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するための請求項１の発明方法を図１ないし図３を用
いて説明する。まず、図１（ａ）のように、試料３にラ
イン状に一次Ｘ線Ｂ１を照射するとともに、試料３にお
ける一次Ｘ線の照射位置を変化させることで、図１
（ｂ）のように、互いに平行な多数のライン状部分３ｃ
について蛍光Ｘ線の強度を測定して、その強度をライン
方向に投影したＸ線強度の投影データＩ（ｒi ，θj ）
を求める。更に、投影データＩ（ｒi ，θj ）を図２
（ａ）〜（ｄ）のように、ラインの長手方向が異なる複
数の方向について求める。上記複数の方向についての投
影データＩ（ｒi ，θj ）に基づいて、たとえば画像処
理により、図３のように、二次元的な多数の点状部分に
ついての元素の濃度分布や膜厚分布を求める。
成するための請求項１の発明方法を図１ないし図３を用
いて説明する。まず、図１（ａ）のように、試料３にラ
イン状に一次Ｘ線Ｂ１を照射するとともに、試料３にお
ける一次Ｘ線の照射位置を変化させることで、図１
（ｂ）のように、互いに平行な多数のライン状部分３ｃ
について蛍光Ｘ線の強度を測定して、その強度をライン
方向に投影したＸ線強度の投影データＩ（ｒi ，θj ）
を求める。更に、投影データＩ（ｒi ，θj ）を図２
（ａ）〜（ｄ）のように、ラインの長手方向が異なる複
数の方向について求める。上記複数の方向についての投
影データＩ（ｒi ，θj ）に基づいて、たとえば画像処
理により、図３のように、二次元的な多数の点状部分に
ついての元素の濃度分布や膜厚分布を求める。
【０００９】図１（ａ）のように、試料３にライン状に
一次Ｘ線Ｂ１を照射するので、ラインの長手方向Ｓにつ
いては、濃度分布の情報が得られない。しかし、図２
（ａ）〜（ｄ）のように、ラインの長手方向Ｓが異なる
複数種類の方向について、投影データＩ（ｒi ，θj ）
を求め、これを画像処理することにより、図３のよう
に、二次元的な多数の点状部分についての元素の濃度分
布を得ることができる。
一次Ｘ線Ｂ１を照射するので、ラインの長手方向Ｓにつ
いては、濃度分布の情報が得られない。しかし、図２
（ａ）〜（ｄ）のように、ラインの長手方向Ｓが異なる
複数種類の方向について、投影データＩ（ｒi ，θj ）
を求め、これを画像処理することにより、図３のよう
に、二次元的な多数の点状部分についての元素の濃度分
布を得ることができる。
【００１０】また、請求項１の発明方法によれば、図１
（ａ）のように、試料３にライン状の一次Ｘ線Ｂ１を照
射するので、試料３の微小部分３ｄにライン状の光源１
から一次Ｘ線Ｂ１が入射する。したがって、照射される
一次Ｘ線Ｂ１の単位面積当たりの強度が大きくなるの
で、分析精度が向上する。
（ａ）のように、試料３にライン状の一次Ｘ線Ｂ１を照
射するので、試料３の微小部分３ｄにライン状の光源１
から一次Ｘ線Ｂ１が入射する。したがって、照射される
一次Ｘ線Ｂ１の単位面積当たりの強度が大きくなるの
で、分析精度が向上する。
【００１１】また、図１（ｂ）のライン状部分３ｃにつ
いて蛍光Ｘ線Ｂ２の強度を測定するので、点状部分３ａ
（図５（ａ））を測定するのに比べ、単位面積当たりの
測定時間が短縮されるので、濃度分布や膜厚分布のデー
タを密にすることができる。したがって、濃度分布や膜
厚分布の見落としが少なくなる。
いて蛍光Ｘ線Ｂ２の強度を測定するので、点状部分３ａ
（図５（ａ））を測定するのに比べ、単位面積当たりの
測定時間が短縮されるので、濃度分布や膜厚分布のデー
タを密にすることができる。したがって、濃度分布や膜
厚分布の見落としが少なくなる。
【００１２】つぎに、請求項２の発明方法について説明
する。まず、図１（ａ）のように、試料３にライン状に
一次Ｘ線Ｂ１を照射するとともに、試料３における一次
Ｘ線の照射位置を変化させることで、図１（ｂ）のよう
に、互いに平行な多数のライン状部分３ｃについて蛍光
Ｘ線の強度を測定して、図２（ａ）のように、その強度
をライン方向に投影したＸ線強度の投影データＩ
（ｒi ，θj ）を求める。このＸ線強度の投影データＩ
（ｒi ，θj ）に基づいて、多数のライン状部分３ｃに
分割した分布分析を行う。
する。まず、図１（ａ）のように、試料３にライン状に
一次Ｘ線Ｂ１を照射するとともに、試料３における一次
Ｘ線の照射位置を変化させることで、図１（ｂ）のよう
に、互いに平行な多数のライン状部分３ｃについて蛍光
Ｘ線の強度を測定して、図２（ａ）のように、その強度
をライン方向に投影したＸ線強度の投影データＩ
（ｒi ，θj ）を求める。このＸ線強度の投影データＩ
（ｒi ，θj ）に基づいて、多数のライン状部分３ｃに
分割した分布分析を行う。
【００１３】請求項２の発明によれば、図１（ａ）のよ
うに、試料３にライン状に一次Ｘ線Ｂ１を照射するの
で、ラインの長手方向Ｓについては、濃度や膜厚の情報
が得られない。しかし、試料３の種類によっては、正確
な分布ではなく、おおよその分布を知りたい場合も多
い。かかる場合において、請求項２の発明によれば、多
数のライン状部分３ｃに分割した分布が得られるので、
おおよその分布を知ることができるとともに、試料３に
ライン状に一次Ｘ線Ｂ１（図１）を照射するので、点状
部分に一次Ｘ線Ｂ１（図５）を照射するよりも、分析を
短時間に行うことができる。
うに、試料３にライン状に一次Ｘ線Ｂ１を照射するの
で、ラインの長手方向Ｓについては、濃度や膜厚の情報
が得られない。しかし、試料３の種類によっては、正確
な分布ではなく、おおよその分布を知りたい場合も多
い。かかる場合において、請求項２の発明によれば、多
数のライン状部分３ｃに分割した分布が得られるので、
おおよその分布を知ることができるとともに、試料３に
ライン状に一次Ｘ線Ｂ１（図１）を照射するので、点状
部分に一次Ｘ線Ｂ１（図５）を照射するよりも、分析を
短時間に行うことができる。
【００１４】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図面にしだがっ
て説明する。図１（ａ）において、ライン状のＸ線源１
は、一次Ｘ線Ｂ１を出射する。この一次Ｘ線Ｂ１は、ラ
インフォーカス用のコリメータ２を通過して、試料３の
表面にライン状に照射される。試料３のライン状部分３
ｃからは、蛍光Ｘ線Ｂ２が出射され、この蛍光Ｘ線Ｂ２
がＸ線検出器４に入射して検出される。
て説明する。図１（ａ）において、ライン状のＸ線源１
は、一次Ｘ線Ｂ１を出射する。この一次Ｘ線Ｂ１は、ラ
インフォーカス用のコリメータ２を通過して、試料３の
表面にライン状に照射される。試料３のライン状部分３
ｃからは、蛍光Ｘ線Ｂ２が出射され、この蛍光Ｘ線Ｂ２
がＸ線検出器４に入射して検出される。
【００１５】１つのライン状部分３ｃについての蛍光Ｘ
線Ｂ２の測定が終了したら、試料３を試料台（図示せ
ず）と共に、矢印Ｘ方向に移動させ、つまり、ライン状
部分３ｃの長手方向Ｓと直交する方向Ｘに試料３を移動
させることで、試料３における一次Ｘ線Ｂ１の照射位置
を変化させて、別のライン状部分について、蛍光Ｘ線Ｂ
２の強度を測定する。こうして、図１（ｂ）のように、
互いに平行な多数のライン状部分３ｃについて蛍光Ｘ線
Ｂ２の強度を測定して、図２（ａ）のように、Ｘ線強度
の投影データＩ（ｒi ，θj ）を求める。
線Ｂ２の測定が終了したら、試料３を試料台（図示せ
ず）と共に、矢印Ｘ方向に移動させ、つまり、ライン状
部分３ｃの長手方向Ｓと直交する方向Ｘに試料３を移動
させることで、試料３における一次Ｘ線Ｂ１の照射位置
を変化させて、別のライン状部分について、蛍光Ｘ線Ｂ
２の強度を測定する。こうして、図１（ｂ）のように、
互いに平行な多数のライン状部分３ｃについて蛍光Ｘ線
Ｂ２の強度を測定して、図２（ａ）のように、Ｘ線強度
の投影データＩ（ｒi ，θj ）を求める。
【００１６】つづいて、図１（ａ）の試料３を試料台と
共に矢印θ方向に、たとえば９０°回転させる。その
後、図１（ｃ）のライン状の一次Ｘ線Ｂ１の照射と、試
料３の矢印Ｘ方向の移動とを繰り返して、図１（ｄ）の
ように、図１（ｂ）とは異なる方向について、互いに平
行な多数のライン状部分３ｃについて蛍光Ｘ線Ｂ２の強
度を測定する。これにより、図２（ｂ）のように、前述
とは別の方向についてのＸ線強度の投影データＩ
（ｒi ，θj ）を求める。
共に矢印θ方向に、たとえば９０°回転させる。その
後、図１（ｃ）のライン状の一次Ｘ線Ｂ１の照射と、試
料３の矢印Ｘ方向の移動とを繰り返して、図１（ｄ）の
ように、図１（ｂ）とは異なる方向について、互いに平
行な多数のライン状部分３ｃについて蛍光Ｘ線Ｂ２の強
度を測定する。これにより、図２（ｂ）のように、前述
とは別の方向についてのＸ線強度の投影データＩ
（ｒi ，θj ）を求める。
【００１７】このような投影データＩ（ｒi ，θj ）
を、図２（ａ）〜（ｄ）のように、ラインの長手方向Ｓ
が互いに異なる複数の方向（たとえば４つの方向）につ
いて求める。その後、これらの複数の方向についての投
影データＩ（ｒi ，θj ）に基づいて、公知の画像処理
により、図３のように、二次元的な多数の点状部分につ
いての元素の濃度分布ｆ（ｘ，ｙ）を求める。
を、図２（ａ）〜（ｄ）のように、ラインの長手方向Ｓ
が互いに異なる複数の方向（たとえば４つの方向）につ
いて求める。その後、これらの複数の方向についての投
影データＩ（ｒi ，θj ）に基づいて、公知の画像処理
により、図３のように、二次元的な多数の点状部分につ
いての元素の濃度分布ｆ（ｘ，ｙ）を求める。
【００１８】つぎに、投影データＩ（ｒi ，θj ）から
二次元的な濃度分布ｆ（ｘ，ｙ）を求める方法について
説明する。
二次元的な濃度分布ｆ（ｘ，ｙ）を求める方法について
説明する。
【００１９】
【数１】
【００２０】
【数２】
【００２１】
【数３】
【００２２】
【数４】
【００２３】
【数５】
【００２４】
【数６】
【００２５】上記(6) 式および(7) 式から、投影データ
Ｉ（ｒi ，θj ）のｒ方向のフーリエ変換は、二次元濃
度分布像ｆ（ｘ，ｙ）の二次元フーリエスペクトルをθ
＝θj 方向に沿って切断した断面に等しいことが分か
る。したがって、全てのθ方向の投影データＩ（ｒi ，
θj ）を集めることにより、その二次元フーリエ変換を
求めることができる。つまり、図２のように、複数の方
向についての投影データＩ（ｒi ，θj ）に基づいて、
二次元的な多数の点状部分についての元素の濃度分布ｆ
（ｘ，ｙ）を求めることができる。
Ｉ（ｒi ，θj ）のｒ方向のフーリエ変換は、二次元濃
度分布像ｆ（ｘ，ｙ）の二次元フーリエスペクトルをθ
＝θj 方向に沿って切断した断面に等しいことが分か
る。したがって、全てのθ方向の投影データＩ（ｒi ，
θj ）を集めることにより、その二次元フーリエ変換を
求めることができる。つまり、図２のように、複数の方
向についての投影データＩ（ｒi ，θj ）に基づいて、
二次元的な多数の点状部分についての元素の濃度分布ｆ
（ｘ，ｙ）を求めることができる。
【００２６】なお、二次元的な濃度分布ｆ（ｘ，ｙ）を
復元する方法としては、上記二次元フーリエ変換法の他
に、投影データをフィルタ補正した後、逆投影するFilt
eredBack Projection法や、投影データ領域でフィルタ
関数をたたみ込み演算する方法などのトモグラフィの手
法を用いることができる。また、上記実施例では、濃度
の分布について説明したが、この発明は膜厚の分布など
の他の分布についても適用される。
復元する方法としては、上記二次元フーリエ変換法の他
に、投影データをフィルタ補正した後、逆投影するFilt
eredBack Projection法や、投影データ領域でフィルタ
関数をたたみ込み演算する方法などのトモグラフィの手
法を用いることができる。また、上記実施例では、濃度
の分布について説明したが、この発明は膜厚の分布など
の他の分布についても適用される。
【００２７】ところで、上記実施例では、複数の方向に
ついての投影データＩ（ｒi ，θj）を求めた。しか
し、請求項２の発明では、単一（１つ）の方向について
の投影データＩ（ｒi ，θj ）を求め、この投影データ
Ｉ（ｒi ，θj ）に基づいて多数のライン状部分３ｃに
分割した分布分析を行ってもよい。この場合、おおよそ
の分布分析を短時間の間に行うことができるという利点
がある。
ついての投影データＩ（ｒi ，θj）を求めた。しか
し、請求項２の発明では、単一（１つ）の方向について
の投影データＩ（ｒi ，θj ）を求め、この投影データ
Ｉ（ｒi ，θj ）に基づいて多数のライン状部分３ｃに
分割した分布分析を行ってもよい。この場合、おおよそ
の分布分析を短時間の間に行うことができるという利点
がある。
【００２８】また、１方向ないし２方向の測定でも、粗
い分布の全体像を求めることができるが、トモグラフィ
の性質上、測定方向の数を増加すれば、より正確な分布
を求めることができる。したがって、測定者の要求精度
に応じて測定方向の数を調整すれば、能率の良い測定を
行うことができる。
い分布の全体像を求めることができるが、トモグラフィ
の性質上、測定方向の数を増加すれば、より正確な分布
を求めることができる。したがって、測定者の要求精度
に応じて測定方向の数を調整すれば、能率の良い測定を
行うことができる。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、試料にライン状に一次Ｘ線を照射するととも
に、試料における一次Ｘ線の照射位置を変化させて互い
に平行な多数のライン状部分についての蛍光Ｘ線の強度
を測定し、この測定強度から二次元的な多数の点状部分
についての分布を求めるので、照射される一次Ｘ線の単
位面積当たりの強度が大きくなるから、分析精度が向上
する。また、ライン状部分についての蛍光Ｘ線の強度を
測定するので、単位面積当たりの測定時間が短くなるか
ら、分布のデータを密にすることができ、したがって、
分布の見落としが少なくなる。
よれば、試料にライン状に一次Ｘ線を照射するととも
に、試料における一次Ｘ線の照射位置を変化させて互い
に平行な多数のライン状部分についての蛍光Ｘ線の強度
を測定し、この測定強度から二次元的な多数の点状部分
についての分布を求めるので、照射される一次Ｘ線の単
位面積当たりの強度が大きくなるから、分析精度が向上
する。また、ライン状部分についての蛍光Ｘ線の強度を
測定するので、単位面積当たりの測定時間が短くなるか
ら、分布のデータを密にすることができ、したがって、
分布の見落としが少なくなる。
【００３０】また、請求項２の発明によれば、多数のラ
イン状部分に分割した分布が得られるので、おおよその
分布を知ることができるとともに、試料にライン状に一
次Ｘ線を照射するので、点状部分に一次Ｘ線を照射する
よりも、分析を短時間の間に行うことができる。
イン状部分に分割した分布が得られるので、おおよその
分布を知ることができるとともに、試料にライン状に一
次Ｘ線を照射するので、点状部分に一次Ｘ線を照射する
よりも、分析を短時間の間に行うことができる。
【図１】この発明の一実施例にかかる蛍光Ｘ線の測定方
法を示す工程図である。
法を示す工程図である。
【図２】蛍光Ｘ線強度の投影データを示す概念図であ
る。
る。
【図３】二次元的な濃度分布を示す斜視図である。
【図４】Ｘ−Ｙ座標とｒ−θ座標の関係を示す図であ
る。
る。
【図５】従来の濃度分布の測定方法を示す斜視図であ
る。
る。
３…試料、３ｃ…ライン状部分、Ｂ１…一次Ｘ線、Ｂ２
…蛍光Ｘ線、Ｓ…長手方向。
…蛍光Ｘ線、Ｓ…長手方向。
Claims (2)
- 【請求項１】 試料に一次Ｘ線を照射して試料から発生
した蛍光Ｘ線に基づいて試料の分析を行う蛍光Ｘ線分析
方法において、 試料にライン状に一次Ｘ線を照射するとともに、試料に
おける一次Ｘ線の照射位置を変化させることで、互いに
平行な多数のライン状部分について蛍光Ｘ線の強度を測
定して、その強度をライン方向に投影したＸ線強度の投
影データを求め、 上記Ｘ線強度の投影データを上記ラインの長手方向が異
なる複数の方向について求め、 上記複数の方向についてのＸ線強度の投影データに基づ
いて二次元的な多数の点状部分についての分析を行うこ
とを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。 - 【請求項２】 試料に一次Ｘ線を照射して試料から発生
した蛍光Ｘ線に基づいて試料の分析を行う蛍光Ｘ線分析
方法において、 試料にライン状に一次Ｘ線を照射するとともに、試料に
おける一次Ｘ線の照射位置を変化させることで、互いに
平行な多数のライン状部分について蛍光Ｘ線の強度を測
定して、その強度をライン方向に投影したＸ線強度の投
影データを求め、 このＸ線強度の投影データに基づいて多数のライン状部
分に分割した分布分析を行うことを特徴とする蛍光Ｘ線
分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24387793A JP2594220B2 (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | 蛍光ｘ線分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24387793A JP2594220B2 (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | 蛍光ｘ線分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0772101A JPH0772101A (ja) | 1995-03-17 |
| JP2594220B2 true JP2594220B2 (ja) | 1997-03-26 |
Family
ID=17110317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24387793A Expired - Fee Related JP2594220B2 (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | 蛍光ｘ線分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2594220B2 (ja) |
-
1993
- 1993-09-03 JP JP24387793A patent/JP2594220B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0772101A (ja) | 1995-03-17 |
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