JP3018043B2 - 膜厚測定用検量線作成方法 - Google Patents
膜厚測定用検量線作成方法Info
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- JP3018043B2 JP3018043B2 JP2238667A JP23866790A JP3018043B2 JP 3018043 B2 JP3018043 B2 JP 3018043B2 JP 2238667 A JP2238667 A JP 2238667A JP 23866790 A JP23866790 A JP 23866790A JP 3018043 B2 JP3018043 B2 JP 3018043B2
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- fluorescent
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、あらかじめ膜厚既知試料によってケイ光Ｘ
線強度と膜厚の関係を検量線として用意し、これに基づ
いて膜厚測定を実施するケイ光Ｘ線膜厚測定方法に関す
る。
線強度と膜厚の関係を検量線として用意し、これに基づ
いて膜厚測定を実施するケイ光Ｘ線膜厚測定方法に関す
る。
ケイ光Ｘ線膜厚測定法には、装置定数等により理論的
にケイ光Ｘ線強度のみから膜厚を求めるファンダメンタ
ル・パラメータ法と、あらかじめ膜厚既知試料によって
ケイ光Ｘ線強度と膜厚の関係を求めておき、これに基づ
いて膜厚を求める検量線法の２通りがあるが、ケイ光Ｘ
線膜厚測定装置に広く利用されているのは検量線法であ
る。
にケイ光Ｘ線強度のみから膜厚を求めるファンダメンタ
ル・パラメータ法と、あらかじめ膜厚既知試料によって
ケイ光Ｘ線強度と膜厚の関係を求めておき、これに基づ
いて膜厚を求める検量線法の２通りがあるが、ケイ光Ｘ
線膜厚測定装置に広く利用されているのは検量線法であ
る。
ケイ光Ｘ線の場合、マトリックス効果があり、一元素
系の薄膜でも膜厚とケイ光Ｘ線強度の関係は直線になら
ず、指数関数で表現される。従って単層膜でも、第１図
に示すように膜厚既知試料を最低３種必要とし、これが
二元系ともなると８〜10種類必要となってくる。これを
使用する装置毎に用意し、Ｘ線管球の寿命や、検出器の
寿命や、温度特性等の経時変化は特定の元素によって校
正する方法を採用している。
系の薄膜でも膜厚とケイ光Ｘ線強度の関係は直線になら
ず、指数関数で表現される。従って単層膜でも、第１図
に示すように膜厚既知試料を最低３種必要とし、これが
二元系ともなると８〜10種類必要となってくる。これを
使用する装置毎に用意し、Ｘ線管球の寿命や、検出器の
寿命や、温度特性等の経時変化は特定の元素によって校
正する方法を採用している。
従来の方法では、２層薄膜測定や２元合金薄膜測定を
実施する前に、あらかじめ８〜10種類の標準試料を測定
する必要があり、この検量線作成の為に長時間を要して
いた。
実施する前に、あらかじめ８〜10種類の標準試料を測定
する必要があり、この検量線作成の為に長時間を要して
いた。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、装
置が異なっても利用できる検量線データベースを用意し
て、数点測定するだけで複数種の正確な膜厚測定用検量
線を作成する方法であり、膜厚測定のための準備時間を
短縮し、正確な膜厚測定法を提供することを目的とす
る。
置が異なっても利用できる検量線データベースを用意し
て、数点測定するだけで複数種の正確な膜厚測定用検量
線を作成する方法であり、膜厚測定のための準備時間を
短縮し、正確な膜厚測定法を提供することを目的とす
る。
本発明はケイ光Ｘ線のマトリックス効果で表現される
吸収係数を物理的な定数と仮定し、一度作成した検量線
の傾きは装置が異なっても同等であるとして、原器で作
成した膜厚とＸ線強度の関係をデータベース検量線と
し、装置の構造が変わらない限り、これを他の全ての装
置で利用するものとし、複数の無限厚試料を測定するこ
とによって校正しうることを特徴とするケイ光Ｘ線膜厚
測定用検量線作成方法。
吸収係数を物理的な定数と仮定し、一度作成した検量線
の傾きは装置が異なっても同等であるとして、原器で作
成した膜厚とＸ線強度の関係をデータベース検量線と
し、装置の構造が変わらない限り、これを他の全ての装
置で利用するものとし、複数の無限厚試料を測定するこ
とによって校正しうることを特徴とするケイ光Ｘ線膜厚
測定用検量線作成方法。
以下本発明を図面に基づき具体的に説明する。従来
は、第１図に示すような膜厚xo,xi,xsとＸ線強度Io,Ii,
Isまたは強度比Ro＝O,Ri,Rs＝１の検量線を装置毎に作
成していた。本発明においては、ある原器でIo,Isおよ
びI1:x1の関係を求めデータベース検量線とし、個々の
装置ではIoとIsのみ測定するだけ校正し、その装置の検
量線とする。R1とX1の関係は、一次Ｘ線の照射面積（コ
リメータ・サイズ）によって限定されず、IoとIsを再測
定するだけで検量線の傾きμ（吸収係数）を求め直すこ
とができる。
は、第１図に示すような膜厚xo,xi,xsとＸ線強度Io,Ii,
Isまたは強度比Ro＝O,Ri,Rs＝１の検量線を装置毎に作
成していた。本発明においては、ある原器でIo,Isおよ
びI1:x1の関係を求めデータベース検量線とし、個々の
装置ではIoとIsのみ測定するだけ校正し、その装置の検
量線とする。R1とX1の関係は、一次Ｘ線の照射面積（コ
リメータ・サイズ）によって限定されず、IoとIsを再測
定するだけで検量線の傾きμ（吸収係数）を求め直すこ
とができる。
この際、測定する試料を例えば、銅，ニッケル，金，
錫，鉛の５種類とすると、第２図に示す実施例のよう
に、あらかじめ用意されているデータベースが単層３
種，二層２種、合金２種とすると、これら７種の検量線
が作成可能となる。
錫，鉛の５種類とすると、第２図に示す実施例のよう
に、あらかじめ用意されているデータベースが単層３
種，二層２種、合金２種とすると、これら７種の検量線
が作成可能となる。
以上詳述した如く、本発明により従来の検量線法を実
施する場合に比べて、検量線作成の為の標準試料の数を
減らすことができ、複数個の無限厚試料を測定するだけ
で、予め用意されている複数種のデータベース検量線を
校正し使用できることから、検量線作成に要していた時
間を短縮でき、更に操作が簡単になる等、優れた効果を
奏する。
施する場合に比べて、検量線作成の為の標準試料の数を
減らすことができ、複数個の無限厚試料を測定するだけ
で、予め用意されている複数種のデータベース検量線を
校正し使用できることから、検量線作成に要していた時
間を短縮でき、更に操作が簡単になる等、優れた効果を
奏する。
第１図は検量線の概念図であり、第２図は本発明の一実
施例の校正用標準試料と、それにより校正可能なデータ
ベースの種類を示す。
施例の校正用標準試料と、それにより校正可能なデータ
ベースの種類を示す。
Claims (2)
- 【請求項１】試料にＸ線を照射するＸ線発生器と、試料
から放出されるケイ光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、得
られたケイ光Ｘ線強度から薄膜の膜厚を計算する膜厚演
算部からなるケイ光Ｘ線膜厚測定装置において、膜厚演
算手段として、ケイ光Ｘ線のマトリックス効果を考慮し
た指数関数的演算式より求められる検量線定数を、ある
膜厚と，該膜厚でのＸ線強度の無限厚Ｘ線強度に対する
比、との関係として、ある原器で測定して求め、前記検
量線定数は物理的な不変定数とした検量線データベース
とし、次に別の装置でこのデータベースと無限厚サンプ
ルの測定のみで膜厚検量線を校正しうる膜厚測定用検量
線作成方法。 - 【請求項２】前記ある膜厚と、該膜厚でのＸ線強度の無
限厚Ｘ線強度に対する比との関係が、 xi＝−1/μlogRi （ここで、Ri＝（Ii−Io）／（Is−Io）、 Io,Ii,Isは、膜厚xo,xi,xsにおけるケイ光Ｘ線強度、μ
は、検量線の傾きである。） で表されることを特徴とする請求項１記載の膜厚測定用
検量線作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238667A JP3018043B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 膜厚測定用検量線作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238667A JP3018043B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 膜厚測定用検量線作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04118509A JPH04118509A (ja) | 1992-04-20 |
| JP3018043B2 true JP3018043B2 (ja) | 2000-03-13 |
Family
ID=17033533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2238667A Expired - Lifetime JP3018043B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 膜厚測定用検量線作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3018043B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7666490B1 (en) | 1999-02-10 | 2010-02-23 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Functional roll film and vacuum evaporation apparatus capable of producing the functional roll film |
| JP7249666B2 (ja) * | 2020-10-30 | 2023-03-31 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
-
1990
- 1990-09-07 JP JP2238667A patent/JP3018043B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04118509A (ja) | 1992-04-20 |
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