JPH1170797A - エンボス化粧材 - Google Patents
エンボス化粧材Info
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- JPH1170797A JPH1170797A JP24596797A JP24596797A JPH1170797A JP H1170797 A JPH1170797 A JP H1170797A JP 24596797 A JP24596797 A JP 24596797A JP 24596797 A JP24596797 A JP 24596797A JP H1170797 A JPH1170797 A JP H1170797A
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- Japan
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- decorative material
- embossed
- pattern
- embossed decorative
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Abstract
(57)【要約】
【課題】従来のサンドブラスト法によるエンボス版によ
って賦型されたエンボス化粧材に匹敵する艶、質感を有
し、且つ再版による再現性が良好なエンボス化粧材を短
納期で提供する。 【解決手段】凸状素子パターンＰを位相をずらして焼き
付け、多段腐食することにより製造されたエンボス版に
よって、互いに所定の段差を有する複数の水準面Ｌ１，
Ｌ２−−−Ｌｎ上にそれぞれ形成される平面視が不定型
で、略水平な平面部Ａ１，Ａ２−−−Ａｎと隣接した前
記水準面Ｌ１，Ｌ２−−−Ｌｎ上に形成された最寄りの
前記平面部Ａ１，Ａ２−−−Ａｎの周縁同志を略垂直に
接続する垂直曲面Ｂ１，Ｂ２−−とによって構成されて
なる凹凸形状を有するエンボス版によって、最表面基材
の熱可塑性樹脂等のシートに賦型する。
って賦型されたエンボス化粧材に匹敵する艶、質感を有
し、且つ再版による再現性が良好なエンボス化粧材を短
納期で提供する。 【解決手段】凸状素子パターンＰを位相をずらして焼き
付け、多段腐食することにより製造されたエンボス版に
よって、互いに所定の段差を有する複数の水準面Ｌ１，
Ｌ２−−−Ｌｎ上にそれぞれ形成される平面視が不定型
で、略水平な平面部Ａ１，Ａ２−−−Ａｎと隣接した前
記水準面Ｌ１，Ｌ２−−−Ｌｎ上に形成された最寄りの
前記平面部Ａ１，Ａ２−−−Ａｎの周縁同志を略垂直に
接続する垂直曲面Ｂ１，Ｂ２−−とによって構成されて
なる凹凸形状を有するエンボス版によって、最表面基材
の熱可塑性樹脂等のシートに賦型する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面が粗面化され
たエンボス化粧材に関する。
たエンボス化粧材に関する。
【０００２】
【従来の技術】内装材、家具等の化粧材には質感、高級
感、意匠性を高めるためにプラスチック仕上げ面を粗面
化して艶を制御した製品が多用されている。従来の、ポ
リ塩化ビニルあるいはポリオレフィン系樹脂等の熱可塑
性樹脂層を表面に有する化粧材が最終的に有する艶を制
御するには、微細な凹凸形状のあるエンボス版によって
賦型することが一般に行われている。図４は、粗面化さ
れた従来のエンボス化粧材最表面の断面形状の一態様を
示す拡大図である。これまでのエンボス化粧材２０の表
面の凹凸形状は、図４に示すように、いわゆる梨地と称
する不規則な凹凸からなるものであって、これは、一般
にサンドブラスト法によって、エンボスシリンダー表面
に投射材料を吹きつけるか、あるいはシリンダー表面に
マットクロムメッキを行うことによって形成された凹凸
形状が熱可塑性樹脂面にエンボスによって賦型されてな
るものである。また、化粧シート加工の最終段階で、化
粧シートの方にマットＯＰニスをコートすることによっ
て艶を制御することがある。
感、意匠性を高めるためにプラスチック仕上げ面を粗面
化して艶を制御した製品が多用されている。従来の、ポ
リ塩化ビニルあるいはポリオレフィン系樹脂等の熱可塑
性樹脂層を表面に有する化粧材が最終的に有する艶を制
御するには、微細な凹凸形状のあるエンボス版によって
賦型することが一般に行われている。図４は、粗面化さ
れた従来のエンボス化粧材最表面の断面形状の一態様を
示す拡大図である。これまでのエンボス化粧材２０の表
面の凹凸形状は、図４に示すように、いわゆる梨地と称
する不規則な凹凸からなるものであって、これは、一般
にサンドブラスト法によって、エンボスシリンダー表面
に投射材料を吹きつけるか、あるいはシリンダー表面に
マットクロムメッキを行うことによって形成された凹凸
形状が熱可塑性樹脂面にエンボスによって賦型されてな
るものである。また、化粧シート加工の最終段階で、化
粧シートの方にマットＯＰニスをコートすることによっ
て艶を制御することがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一般に、エンボス版の
表面あらさＲa （中心線平均あらさ）が大きくなるとエ
ンボス化粧シートの艶は少なくなる。サンドブラスト法
でエンボス版を粗面化して、艶を下げる場合に、Ｒa で
３μｍ以上の粒径の大きな投射材料を使用することが効
果的であるが、エンボス化粧材表面の荒れが目立つよう
になり、繊細で、質感のある仕上がりを損なうという問
題がある。また、サンドブラスト法では、一般に耐スク
ラッチ性の良好なエンボス化粧シートを得にくいという
問題がある。また汚れが付くと落ちにくいという耐汚染
性の問題がある。サンドブラスト法は、エンボス版作成
工程からみて、異質の加工方法であり、インライン化が
難しく、完成までに時間がかかりすぎ、納期が長期化す
るという問題がある。さらに、再版されるエンボス版に
よる表面の仕上がり感触が前回使用したエンボス版によ
るものと微妙に異なるという再現性の問題がある。さら
にまた、エンボス化粧材の方にＯＰニスコートを施す方
法は、表面物性が不安定となり易く、繊細な質感のある
仕上がりを得ることが難しいという問題がある。本発明
は、前述の問題点に鑑みてなされたもので、腐食法によ
って製作されたエンボス版によって、短納期で、再版に
おいても再現性のある凹凸形状を有するエンボス化粧材
を提供することを目的とする。
表面あらさＲa （中心線平均あらさ）が大きくなるとエ
ンボス化粧シートの艶は少なくなる。サンドブラスト法
でエンボス版を粗面化して、艶を下げる場合に、Ｒa で
３μｍ以上の粒径の大きな投射材料を使用することが効
果的であるが、エンボス化粧材表面の荒れが目立つよう
になり、繊細で、質感のある仕上がりを損なうという問
題がある。また、サンドブラスト法では、一般に耐スク
ラッチ性の良好なエンボス化粧シートを得にくいという
問題がある。また汚れが付くと落ちにくいという耐汚染
性の問題がある。サンドブラスト法は、エンボス版作成
工程からみて、異質の加工方法であり、インライン化が
難しく、完成までに時間がかかりすぎ、納期が長期化す
るという問題がある。さらに、再版されるエンボス版に
よる表面の仕上がり感触が前回使用したエンボス版によ
るものと微妙に異なるという再現性の問題がある。さら
にまた、エンボス化粧材の方にＯＰニスコートを施す方
法は、表面物性が不安定となり易く、繊細な質感のある
仕上がりを得ることが難しいという問題がある。本発明
は、前述の問題点に鑑みてなされたもので、腐食法によ
って製作されたエンボス版によって、短納期で、再版に
おいても再現性のある凹凸形状を有するエンボス化粧材
を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明では、基材の最表面が凹凸模様によって粗面化
される化粧材において、表面の不規則な凹凸形状を、互
いに所定の段差を有する複数の水準面上にそれぞれ形成
される平面視が不定型で、略水平な平面部と隣接した前
記水準面上に形成された最寄りの前記平面部の周縁同志
を略垂直に接続する垂直面とによって構成する。
に本発明では、基材の最表面が凹凸模様によって粗面化
される化粧材において、表面の不規則な凹凸形状を、互
いに所定の段差を有する複数の水準面上にそれぞれ形成
される平面視が不定型で、略水平な平面部と隣接した前
記水準面上に形成された最寄りの前記平面部の周縁同志
を略垂直に接続する垂直面とによって構成する。
【０００５】
【発明の実施の形態】エンボス化粧材とは、エンボス加
工等の方法で凹凸模様が施されたシート或いは板であ
る。尚、本発明で謂う「エンボス」の語は所謂狭義のエ
ンボス即ち凹凸模様を有する型で基材を押圧して賦型す
る方法に限らず、型に液状物を流し込んで固化せしめて
型から脱型する方法等、各種の凹凸形成方法の総称とし
て用いる。材料としては、通常、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ塩化ビニル、アクリル等の熱可塑性樹脂
が用いられる。用途としては、壁、床、天井等の建築物
の内装材、扉、窓枠、手摺等の建具、家電製品の筐体、
箪笥等の家具、箱等の容器、車両等の内装材、船舶内装
材等であって、必要に応じて更に任意の素材が裏打ちし
て使用される。また、本発明の凹凸模様（エンボスパタ
ーンとも言う）による艶、質感の再現の対象となる代表
的なものは、天然木材板表面の木肌表面ではあるが、無
論、本発明の凹凸模様は、木肌表面以外にも煉瓦配列の
目地溝や天面、花崗岩、大理石等の石目の表面、布、皮
絞等の表面艶、テクスチュアの再現にも適用が可能であ
る。
工等の方法で凹凸模様が施されたシート或いは板であ
る。尚、本発明で謂う「エンボス」の語は所謂狭義のエ
ンボス即ち凹凸模様を有する型で基材を押圧して賦型す
る方法に限らず、型に液状物を流し込んで固化せしめて
型から脱型する方法等、各種の凹凸形成方法の総称とし
て用いる。材料としては、通常、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ塩化ビニル、アクリル等の熱可塑性樹脂
が用いられる。用途としては、壁、床、天井等の建築物
の内装材、扉、窓枠、手摺等の建具、家電製品の筐体、
箪笥等の家具、箱等の容器、車両等の内装材、船舶内装
材等であって、必要に応じて更に任意の素材が裏打ちし
て使用される。また、本発明の凹凸模様（エンボスパタ
ーンとも言う）による艶、質感の再現の対象となる代表
的なものは、天然木材板表面の木肌表面ではあるが、無
論、本発明の凹凸模様は、木肌表面以外にも煉瓦配列の
目地溝や天面、花崗岩、大理石等の石目の表面、布、皮
絞等の表面艶、テクスチュアの再現にも適用が可能であ
る。
【０００６】本発明を図面によりさらに詳細に説明す
る。図１は、本発明によるエンボス化粧シートの表面の
凹凸形状を形成するための基本パターンの説明図であ
る。本発明によるエンボス化粧シートの表面の凹凸形状
を形成するための基本となるパターン（以下凸状素子パ
ターンと称する）は、図１（ａ）に示すように、網点が
それぞれが独立して、ランダムに配列するか、あるいは
図１（ｂ）に示すように、隣接する複数の網点が融合、
合体することによって形成される不定型な凸状素子Ｔの
独立した集合体であってもよい。この場合、網点の平面
視（底面）形状は、円形に限定されることなく、楕円、
四角形、六角形、亀甲形、八角形等であってもよい。本
発明によるエンボス化粧材の最終仕上がりの表面あらさ
を決定する大きな要因となるのは、この凸状素子Ｔのサ
イズである。なお、表面の凹凸形状をより複雑化するに
は、図１（ａ）よりは図１（ｂ）のような不定型の凸状
素子パターンの使用が好ましい。凸状素子Ｔの平均径
は、１０乃至５００μｍの範囲にあることが好ましく、
望ましくは、５０乃至１００μｍの範囲である。これ
は、後述するように凸状素子Ｔ個々のパターンが、レー
ザービームによって描かれるモザイクパターンであて、
レーザービーム径が略５μｍであるめ、凸状素子のサイ
ズの下限には、自ずから限界があり、また凸状素子が５
００μｍを越えると目視可能な大きさになってくるから
である。
る。図１は、本発明によるエンボス化粧シートの表面の
凹凸形状を形成するための基本パターンの説明図であ
る。本発明によるエンボス化粧シートの表面の凹凸形状
を形成するための基本となるパターン（以下凸状素子パ
ターンと称する）は、図１（ａ）に示すように、網点が
それぞれが独立して、ランダムに配列するか、あるいは
図１（ｂ）に示すように、隣接する複数の網点が融合、
合体することによって形成される不定型な凸状素子Ｔの
独立した集合体であってもよい。この場合、網点の平面
視（底面）形状は、円形に限定されることなく、楕円、
四角形、六角形、亀甲形、八角形等であってもよい。本
発明によるエンボス化粧材の最終仕上がりの表面あらさ
を決定する大きな要因となるのは、この凸状素子Ｔのサ
イズである。なお、表面の凹凸形状をより複雑化するに
は、図１（ａ）よりは図１（ｂ）のような不定型の凸状
素子パターンの使用が好ましい。凸状素子Ｔの平均径
は、１０乃至５００μｍの範囲にあることが好ましく、
望ましくは、５０乃至１００μｍの範囲である。これ
は、後述するように凸状素子Ｔ個々のパターンが、レー
ザービームによって描かれるモザイクパターンであて、
レーザービーム径が略５μｍであるめ、凸状素子のサイ
ズの下限には、自ずから限界があり、また凸状素子が５
００μｍを越えると目視可能な大きさになってくるから
である。
【０００７】図２は、本発明による化粧材の表面の凹凸
形状形成原理説明図である。一般に、サンドブラスト法
等で形成される微細な凹凸形状は、図４に示すような山
と谷が入り組んだ複雑な断面形状を示すものであるが、
これに対し、本発明によるエンボス化粧材に施される凹
凸形状は、その一部を拡大して示すと図２（ｂ）に示す
ような模式的な断面形状を有するものである。この形状
の形成原理を最も単純なモデルを使用して説明する。図
２（ａ）は、同一サイズの円がランダムに独立した最も
単純な凸状素子パターンＰ１，Ｐ２が、位相をずらして
重ねられたものである。先ず凸状素子パターンＰ１をエ
ンボスシリンダー面の予め塗布、形成されたレジスト感
光層に焼き付け、現像して得られるレジストパターンの
円形の内側を非レジスト部分として、サイドエチングを
少なく、略均一な所定の深度になるよう一回目の腐食を
行う。この面のレジスト剥離後、一回目の腐食によって
段差が形成されたシリンダー面に再度レジスト感光層を
塗布、形成し、今度は位相をずらした凸状素子パターン
Ｐ２を焼き付け、２回目の腐食を行えば、図２（ｂ）に
示すような３水準面（最初のシリンダー面も含む）にわ
たって，Ａ１，Ａ２，Ａ３からなる不定型な略平らな平
面部が形成される。また、隣接した水準面上に形成され
た最寄りの平面部の周縁同志は垂直曲面によって略垂直
に接続されている。その模様は、図２（ｂ）によって示
される。すなわち、図２（ｂ）は、図２（ａ）のｘ−
ｘ’断面形状を有するエンボス版によって賦型されたエ
ンボス化粧材最表面の模式断面図である。この２（ｂ）
に示すように、本発明によるエンボス化粧材の最表面の
凹凸形状には、３水準面Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３があり、また
各水準面上には、不定型な平面部Ａ１，Ａ２，Ａ３が形
成されており、隣接する水準面の最寄りの平面部はそれ
らの周縁同志を垂直曲面Ｂ１，Ｂ２を介して接続されて
いる。図２はモデル化して描かれているが、実際には、
多少のサイドエッチングは起こり、また腐食深度も精度
よく揃わないので、もっと変形した凹凸形状を呈するが
本質的には図２と変わりないものである。また、実際に
は、凸状素子パターンＰに図１（ｂ）等のさらに複雑な
ものを使用し、腐食回数もさらに増えるので、以上の方
法で得られる凹凸形状は極めて複雑なものとなる。尚、
腐食の深度は、本発明によるエンボス化粧材の最表面に
使用される基材の厚み、最終仕上げ面に与える艶の効果
等から決定されるが、一回の腐食深度は、５μｍ乃至３
０μｍの範囲で適宜採用することができる。
形状形成原理説明図である。一般に、サンドブラスト法
等で形成される微細な凹凸形状は、図４に示すような山
と谷が入り組んだ複雑な断面形状を示すものであるが、
これに対し、本発明によるエンボス化粧材に施される凹
凸形状は、その一部を拡大して示すと図２（ｂ）に示す
ような模式的な断面形状を有するものである。この形状
の形成原理を最も単純なモデルを使用して説明する。図
２（ａ）は、同一サイズの円がランダムに独立した最も
単純な凸状素子パターンＰ１，Ｐ２が、位相をずらして
重ねられたものである。先ず凸状素子パターンＰ１をエ
ンボスシリンダー面の予め塗布、形成されたレジスト感
光層に焼き付け、現像して得られるレジストパターンの
円形の内側を非レジスト部分として、サイドエチングを
少なく、略均一な所定の深度になるよう一回目の腐食を
行う。この面のレジスト剥離後、一回目の腐食によって
段差が形成されたシリンダー面に再度レジスト感光層を
塗布、形成し、今度は位相をずらした凸状素子パターン
Ｐ２を焼き付け、２回目の腐食を行えば、図２（ｂ）に
示すような３水準面（最初のシリンダー面も含む）にわ
たって，Ａ１，Ａ２，Ａ３からなる不定型な略平らな平
面部が形成される。また、隣接した水準面上に形成され
た最寄りの平面部の周縁同志は垂直曲面によって略垂直
に接続されている。その模様は、図２（ｂ）によって示
される。すなわち、図２（ｂ）は、図２（ａ）のｘ−
ｘ’断面形状を有するエンボス版によって賦型されたエ
ンボス化粧材最表面の模式断面図である。この２（ｂ）
に示すように、本発明によるエンボス化粧材の最表面の
凹凸形状には、３水準面Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３があり、また
各水準面上には、不定型な平面部Ａ１，Ａ２，Ａ３が形
成されており、隣接する水準面の最寄りの平面部はそれ
らの周縁同志を垂直曲面Ｂ１，Ｂ２を介して接続されて
いる。図２はモデル化して描かれているが、実際には、
多少のサイドエッチングは起こり、また腐食深度も精度
よく揃わないので、もっと変形した凹凸形状を呈するが
本質的には図２と変わりないものである。また、実際に
は、凸状素子パターンＰに図１（ｂ）等のさらに複雑な
ものを使用し、腐食回数もさらに増えるので、以上の方
法で得られる凹凸形状は極めて複雑なものとなる。尚、
腐食の深度は、本発明によるエンボス化粧材の最表面に
使用される基材の厚み、最終仕上げ面に与える艶の効果
等から決定されるが、一回の腐食深度は、５μｍ乃至３
０μｍの範囲で適宜採用することができる。
【０００８】図３は、本発明によるエンボス化粧材の製
造方法の一例の説明図である。先ず、コンピュータグラ
フィック手法により、コンピュータの表示装置の画面上
で予め用意したソフトウエアーを用いて、図１（ｂ）の
ような例えば円形の網点がランダムに配列し、隣接した
もの同志が融合、合体した凸状素子Ｔからなる凸状素子
パターンＰを形成する。凸状素子Ｔの平均直径、集合密
度は適宜決定すればよい。次に、この凸状素子パターン
Ｐの画像をエンボス版のシリンダーの円周長でエンドレ
スになるよう整数で分割したエンドレスファイルを作成
する。このためには、エンドレスパターン発生のソフト
を設計してもよいし、または、ファイル接合部分を市販
のレタッチソフトで修正してもよい。
造方法の一例の説明図である。先ず、コンピュータグラ
フィック手法により、コンピュータの表示装置の画面上
で予め用意したソフトウエアーを用いて、図１（ｂ）の
ような例えば円形の網点がランダムに配列し、隣接した
もの同志が融合、合体した凸状素子Ｔからなる凸状素子
パターンＰを形成する。凸状素子Ｔの平均直径、集合密
度は適宜決定すればよい。次に、この凸状素子パターン
Ｐの画像をエンボス版のシリンダーの円周長でエンドレ
スになるよう整数で分割したエンドレスファイルを作成
する。このためには、エンドレスパターン発生のソフト
を設計してもよいし、または、ファイル接合部分を市販
のレタッチソフトで修正してもよい。
【０００９】このようにして得られたエンドレスファイ
ルから凸状素子パターンＰの画像データをレジスト感光
液を塗布した鉄、銅からなるエンボスシリンダー１上に
レーザービーム走査による直接露光装置を用いて直接出
力して焼き付け、現像して、図３（ａ）に示すようなレ
ジスト層２と非レジスト部分３とからなる面を形成す
る。この場合、シリンダー１の幅方向には、レーザービ
ーム走査による直接露光装置の幅送り機能を利用し、一
定幅のファイルのデジタル画像情報をリピートしながら
出力し、シリンダー全面に凸状素子パターンＰの画像デ
ータを焼き付ける。次いで、レジストパターンが形成さ
れた銅メッキ層からなる図３（ａ）の状態のシリンダー
面を、略均等な深度になるよう第１回目の腐食を行い、
レジスト剥離を行うと、図３（ｂ）に示すような凹陥部
が得られる。尚、腐食には、塩化第２鉄等公知の腐食法
を適用すればよい。次に、この凹陥部の形成されたシリ
ンダー面に対し、再度レジスト感光層を形成し、前回と
同一の凸状素子パターンＰを位相をずらして焼き付け、
現像の後、初回と同じような２回目の腐食、レジスト剥
離を行うと図３（ｃ）に示すような凹陥部が形成され
る。この凹陥部が形成されたシリンダー面に対して以上
のプロセスを繰り返し、３度目の腐食を施し、最後にク
ロムメッキを行って図３（ｄ）に示すようなエンボス版
Ｅを得ることができる。この腐食の回数は必要に応じて
さらに増やしてもよい。最後に、このエンボス版Ｅを用
いて、エンボス化粧材の最表面の熱可塑性樹脂からなる
基材シート４にエンボスによって賦型すると同時に、あ
るいはオフラインで着色シート５にラミネーし、最後に
使用目的に応じた裏打ち材６を貼り合わせれば、本発明
によるエンボス化粧材１０が得られる。エンボス化粧材
１０が、たとえば、ドアーの場合には、ハニカム構造を
有するドアの芯材等を強力接着材で貼り合わせればよ
い。以上の方法で得られる表面の凹凸形状は、例えば、
側断面が、図３（ｅ）によって、また平面視が図１
（ｂ）の凸状素子パターンが折り重なった複雑な凹凸模
様として示される。腐食条件は、サイドエッチを少なく
し、各段が５〜３０μｍの間で決められた所定の深さに
なるように腐食条件を制御する。このためには、比較的
比重の高い塩化第１鉄溶液をシリンダー面に対して垂直
にスプレーする方法が好ましい。
ルから凸状素子パターンＰの画像データをレジスト感光
液を塗布した鉄、銅からなるエンボスシリンダー１上に
レーザービーム走査による直接露光装置を用いて直接出
力して焼き付け、現像して、図３（ａ）に示すようなレ
ジスト層２と非レジスト部分３とからなる面を形成す
る。この場合、シリンダー１の幅方向には、レーザービ
ーム走査による直接露光装置の幅送り機能を利用し、一
定幅のファイルのデジタル画像情報をリピートしながら
出力し、シリンダー全面に凸状素子パターンＰの画像デ
ータを焼き付ける。次いで、レジストパターンが形成さ
れた銅メッキ層からなる図３（ａ）の状態のシリンダー
面を、略均等な深度になるよう第１回目の腐食を行い、
レジスト剥離を行うと、図３（ｂ）に示すような凹陥部
が得られる。尚、腐食には、塩化第２鉄等公知の腐食法
を適用すればよい。次に、この凹陥部の形成されたシリ
ンダー面に対し、再度レジスト感光層を形成し、前回と
同一の凸状素子パターンＰを位相をずらして焼き付け、
現像の後、初回と同じような２回目の腐食、レジスト剥
離を行うと図３（ｃ）に示すような凹陥部が形成され
る。この凹陥部が形成されたシリンダー面に対して以上
のプロセスを繰り返し、３度目の腐食を施し、最後にク
ロムメッキを行って図３（ｄ）に示すようなエンボス版
Ｅを得ることができる。この腐食の回数は必要に応じて
さらに増やしてもよい。最後に、このエンボス版Ｅを用
いて、エンボス化粧材の最表面の熱可塑性樹脂からなる
基材シート４にエンボスによって賦型すると同時に、あ
るいはオフラインで着色シート５にラミネーし、最後に
使用目的に応じた裏打ち材６を貼り合わせれば、本発明
によるエンボス化粧材１０が得られる。エンボス化粧材
１０が、たとえば、ドアーの場合には、ハニカム構造を
有するドアの芯材等を強力接着材で貼り合わせればよ
い。以上の方法で得られる表面の凹凸形状は、例えば、
側断面が、図３（ｅ）によって、また平面視が図１
（ｂ）の凸状素子パターンが折り重なった複雑な凹凸模
様として示される。腐食条件は、サイドエッチを少なく
し、各段が５〜３０μｍの間で決められた所定の深さに
なるように腐食条件を制御する。このためには、比較的
比重の高い塩化第１鉄溶液をシリンダー面に対して垂直
にスプレーする方法が好ましい。
【００１０】尚、以上の例では、エンボス版を用いて、
加熱軟化させた熱可塑性樹脂表面に押圧して賦型する狭
義のエンボス加工の例を記した。しかし、本発明による
エンボス化粧材の製法は、これに限定されるものではな
く、その他の方法で製造することもできる。例えば、上
記方法で製版したエンボス版の表面に不飽和アクリレー
トオリゴマー等の未硬化の液状組成物を塗布して凹凸模
様の凹部内に液状組成物を充填し、次いで該液状組成物
に樹脂等のシートを重ねて密着させた状態でシート側か
ら紫外線又は電子線を照射して該樹脂層を硬化（個化）
せしめ、該シート及びその表面に接着し、且つエンボス
版の凹凸模様が賦型された硬化物層をエンボス版から離
型する方法（特開平２−１３１１７５号公報等に開示）
を用いることもできる。また、本発明において凹凸模様
を賦型する基材は、ポリエチレン、ポリプロピレン、オ
レフィン系熱可塑性エラストマー等のポリオレフィン系
樹脂、ポリ塩化ビニル、アクリル、ポリエステル等の熱
可塑性樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、不飽和ア
クリレート等からなる紫外線、又は、電子線硬化性樹脂
の硬化物等の材料が用いられ、単層でも２層以上の積層
体でもよい。さらに、必要に応じて、表面から目視可能
な位置に、木目柄、石目柄等の絵柄層を設けてもよい。
加熱軟化させた熱可塑性樹脂表面に押圧して賦型する狭
義のエンボス加工の例を記した。しかし、本発明による
エンボス化粧材の製法は、これに限定されるものではな
く、その他の方法で製造することもできる。例えば、上
記方法で製版したエンボス版の表面に不飽和アクリレー
トオリゴマー等の未硬化の液状組成物を塗布して凹凸模
様の凹部内に液状組成物を充填し、次いで該液状組成物
に樹脂等のシートを重ねて密着させた状態でシート側か
ら紫外線又は電子線を照射して該樹脂層を硬化（個化）
せしめ、該シート及びその表面に接着し、且つエンボス
版の凹凸模様が賦型された硬化物層をエンボス版から離
型する方法（特開平２−１３１１７５号公報等に開示）
を用いることもできる。また、本発明において凹凸模様
を賦型する基材は、ポリエチレン、ポリプロピレン、オ
レフィン系熱可塑性エラストマー等のポリオレフィン系
樹脂、ポリ塩化ビニル、アクリル、ポリエステル等の熱
可塑性樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、不飽和ア
クリレート等からなる紫外線、又は、電子線硬化性樹脂
の硬化物等の材料が用いられ、単層でも２層以上の積層
体でもよい。さらに、必要に応じて、表面から目視可能
な位置に、木目柄、石目柄等の絵柄層を設けてもよい。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、凸状素子パターンの位
相をずらして繰り返し前回の腐食面に焼き付けて略同一
深度に腐食する多重腐食方式によって作成されたエンボ
ス版によって、所定の段差を有する複数の水準面上にそ
れぞれ形成される不定型で、略水平な平面部と隣接した
水準面上に形成された最寄りの平面部の周縁同志を略垂
直に接続する垂直面とによって構成される凹凸形状を基
材に賦型することができ、従来のサンドブラスト法によ
る梨地と同等の艶と質感を持たせることができるばかり
か、耐スクラッチ性、耐汚染性において優れ、再版にお
ける再現性に優れ、納期を短縮したエンボス化粧材を提
供することができる。
相をずらして繰り返し前回の腐食面に焼き付けて略同一
深度に腐食する多重腐食方式によって作成されたエンボ
ス版によって、所定の段差を有する複数の水準面上にそ
れぞれ形成される不定型で、略水平な平面部と隣接した
水準面上に形成された最寄りの平面部の周縁同志を略垂
直に接続する垂直面とによって構成される凹凸形状を基
材に賦型することができ、従来のサンドブラスト法によ
る梨地と同等の艶と質感を持たせることができるばかり
か、耐スクラッチ性、耐汚染性において優れ、再版にお
ける再現性に優れ、納期を短縮したエンボス化粧材を提
供することができる。
【図１】本発明によるエンボス化粧シートの表面の凹凸
形状を形成するための基本パターンの説明図
形状を形成するための基本パターンの説明図
【図２】本発明による化粧材の表面の凹凸形状形成原理
説明図
説明図
【図３】本発明によるエンボス化粧材の製造方法の一例
の説明図
の説明図
【図４】粗面化された従来のエンボス化粧材最表面の断
面形状の一態様を示す拡大図
面形状の一態様を示す拡大図
１ シリンダー ２ レジスト層 ３ 非レジスト部分 ４ 最表面基材シート ５ 着色シート ６ 裏打ち材 １０ 本発明によるエンボス化粧材 ２０ 従来のエンボス化粧材 Ａ１，Ａ２−− 不定型な平面部 Ｂ１，Ｂ２−− 垂直曲面 Ｅ エンボス版 Ｌ１，Ｌ２−− 水準面 Ｐ 凸状素子パターン Ｔ 凸状素子
Claims (1)
- 【請求項１】 基材の最表面が凹凸模様によって粗面化
される化粧材において、表面の不規則な凹凸形状が、互
いに所定の段差を有する複数の水準面上にそれぞれ形成
される平面視が不定型で、略水平な平面部と隣接した前
記水準面上に形成された最寄りの前記平面部の周縁同志
を略垂直に接続する垂直面とによって構成されてなるこ
とを特徴とするエンボス化粧材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24596797A JPH1170797A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | エンボス化粧材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24596797A JPH1170797A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | エンボス化粧材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1170797A true JPH1170797A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=17141506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24596797A Pending JPH1170797A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | エンボス化粧材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1170797A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015502458A (ja) * | 2011-12-20 | 2015-01-22 | アップル インコーポレイテッド | 金属表面及び金属表面の処理プロセス |
| JPWO2020183713A1 (ja) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 |
-
1997
- 1997-08-28 JP JP24596797A patent/JPH1170797A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015502458A (ja) * | 2011-12-20 | 2015-01-22 | アップル インコーポレイテッド | 金属表面及び金属表面の処理プロセス |
| US9683305B2 (en) | 2011-12-20 | 2017-06-20 | Apple Inc. | Metal surface and process for treating a metal surface |
| JPWO2020183713A1 (ja) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 | ||
| WO2020183713A1 (ja) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 | 大日本印刷株式会社 | 化粧シート |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
| A977 | Report on retrieval |
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| A521 | Written amendment |
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| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070828 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071012 |
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| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20071101 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20080208 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 |