JPH1166535A - バインダーおよび磁気記録媒体 - Google Patents

バインダーおよび磁気記録媒体

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JPH1166535A
JPH1166535A JP9241833A JP24183397A JPH1166535A JP H1166535 A JPH1166535 A JP H1166535A JP 9241833 A JP9241833 A JP 9241833A JP 24183397 A JP24183397 A JP 24183397A JP H1166535 A JPH1166535 A JP H1166535A
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JP
Japan
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magnetic
polyol
binder
acid
group
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Application number
JP9241833A
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English (en)
Inventor
Takashi Takemoto
隆志 竹本
Toshiro Shimada
寿郎 島田
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Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のものに比べて磁気記録媒体の耐久性が
良く、しかも塗料粘度が低く、また磁性体の分散性が優
れた磁気記録媒体用バインダーを提供する。 【解決手段】 水酸基当量300〜2,000の高分子
ポリオール(A1)または該(A1)および低分子ポリ
オール(A3)からなるポリオール成分(A)と有機ポ
リイソシアネート(B)とから誘導されるポリウレタン
樹脂(C)からなる磁気記録媒体用バインダーにおい
て、該(A)の少なくとも10重量%が、下記一般式
(1) [式中、Rは2または3価のアルコールの残基、Phは
フェニル基を表す。nは1〜20の整数、kは2または
3の整数を表す。]で示されるポリオール(A2)であ
ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープ、磁気
カ−ド、磁気ディスク等の磁気記録媒体の製造に用いら
れるバインダーおよびそのバインダーを用いた磁気記録
媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から磁気記録用バインダーとして、
1,4−ブタンジオールとアジピン酸とから誘導される
ポリエステルポリオールと有機ポリイソシアネートとか
らのポリウレタン樹脂(特公昭41−16984号公
報)等が用いられている。しかし近年、磁気記録媒体の
高性能化に伴い、磁性粉の微粒子化や高磁力化が図ら
れ、上述のバインダーでは、十分な分散性、表面平滑性
および耐久性が得られない。かかる問題点を改善するた
めに、ポリカプロラクトン系ポリウレタン樹脂(特公昭
63−10457号公報)やポリカーボネート系ポリウ
レタン樹脂(特公平2−8369号公報)等をバインダ
ーとして用いることが提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ポ
リカプロラクトン系ポリウレタン樹脂やポリカーボネー
ト系ポリウレタン樹脂は、従来のポリエステル系ポリウ
レタン樹脂に比べて耐加水分解性は向上しているもの
の、耐久性の点において充分満足すべきものが未だ得ら
れていないのが実状である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、耐久性に
優れ、しかも塗料粘度も低く、また磁性体の分散性が優
れた磁気記録媒体用バインダーについて鋭意検討した結
果、高分子ポリオールとして特定のポリオキシスチレン
ポリオールを使用したポリウレタン樹脂を用いることに
より上記課題を解決できることを見いだし、本発明に到
達した。
【0005】すなわち本発明は、水酸基当量300〜
2,000の高分子ポリオール(A1)または該(A
1)および低分子ポリオール(A3)からなるポリオー
ル成分(A)と、有機ポリイソシアネート(B)とから
誘導されるポリウレタン樹脂(C)からなる磁気記録媒
体用バインダーにおいて、該ポリオール成分(A)の少
なくとも10重量%が、下記一般式(1) [式中、Rは2または3価のアルコールの残基、Phは
フェニル基を表す。nは1〜20の整数、kは2または
3の整数を表す。]で示されるポリオール(A2)であ
ることを特徴とする磁気記録媒体用バインダー;ならび
に該バインダーを含有してなる磁性層を有する磁気記録
媒体に関するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明で用いられる上記一般式
(1)で示されるポリオール(A2)は、2または3価
のアルコールを開始剤として触媒の存在下に80〜20
0℃でスチレンオキサイドを重付加させることによって
得られる。この反応は不活性有機溶剤中で行うこともで
きる。上記一般式(1)におけるnは、通常1〜20、
好ましくは2〜18、さらに好ましくは5〜15の整数
である。nが20を越えると得られるポリウレタン樹脂
の耐久性が低下する。
【0007】上記2または3価のアルコールとしては、
例えば2価アルコール(エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジ
オール、1,8−オクタメチレンジオール、1,10−
デカンジオールなど)、3価アルコール(グリセリン、
トリメチロールプロパンなど)およびこれらの2種以上
の混合物が挙げられる。これらのうち好ましいものは2
価のアルコールであり、さらに好ましいものはエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ールおよび1,4−ブタンジオールである。
【0008】上記反応で必要により用いられる不活性有
機溶剤としては、エステル系溶剤(酢酸エチル、酢酸ブ
チル等)、エーテル系溶剤(ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等)、ケトン系溶剤(シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭
化水素系溶剤(トルエン、キシレン等);およびこれら
2種以上の混合溶媒が挙げられる。これらのうち特に好
ましいものは芳香族炭化水素系溶剤である。
【0009】上記反応においては、触媒として珪酸アル
ミニウム(SiO2・Al23)〔例えば、触媒化成
製:商品名「粉状シリカ・アルミナ(LA)」、協和化
学工業製:商品名「キョーワード700SL−BC」な
ど〕を使用することで目的のポリオキシスチレンポリオ
ール(A2)を得ることができる。
【0010】該触媒の使用量は、製造される(A2)の
最終仕上がり量に対し通常0.1〜20、好ましくは1
〜10重量%である。
【0011】本発明において(A2)の量は、ポリオー
ル成分(A)の重量に基づいて通常10重量%以上、好
ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以
上である。(A2)の量が10重量%未満ではバインダ
ーの物性が低くなり、磁気テープの耐久性が不十分とな
る。
【0012】(A2)の水酸基当量は、通常250〜
2,000、好ましくは300〜1,800、さらに好
ましくは350〜1,500である。(A2)の水酸基
当量が250未満では、得られるポリウレタン樹脂が脆
いものとなり、磁気テープにしたときの耐スクラッチ性
が低下し、2,000を超えると得られるポリウレタン
樹脂の樹脂強度が低下し、磁気テープにしたときの耐久
性が不十分となる。
【0013】本発明において、該(A2)とともに必要
により水酸基当量300〜2,000の高分子ポリオー
ル(A1)を併用することができる。該(A1)として
は、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオー
ル、ポリカーボネートポリオールなどが挙げられる。こ
れらのうち特に好ましいものはポリエステルポリオール
である。
【0014】上記(A1)のうちのポリエステルポリオ
ールには、低分子ポリオールとジカルボン酸とからの縮
合ポリエステルポリオール、ラクトンの開環重合により
得られるポリラクトンポリオール等が含まれる。該低分
子ポリオールとしては、例えば、直鎖状アルキレングリ
コール類(エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、ネ
オペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、
1,8−オクタメチレンジオール、1,10−デカンジ
オール等);環状基を有する低分子ジオール類〔シクロ
ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等のグ
リコール類、および特公昭45−1474号公報記載の
もの:キシリレングリコール、ビス(ヒドロキシエチ
ル)ベンゼン、1,4−ビス(2−ヒドロキシエトキ
シ)ベンゼン、4,4’−ビス(2−ヒドロキシエトキ
シ)−ジフェニルプロパン(ビスフェノールAのエチレ
ンオキシド付加物)等〕;およびこれらの1種または2
種以上の混合物のアルキレンオキシド(炭素数2〜4の
アルキレンオキシド;例えばエチレンオキシド、プロピ
レンオキシド、1,2−、2,3−、1,3−もしくは
1,4−ブチレンオキシド等)付加物(分子量500未
満)などが挙げられる。
【0015】上記ポリエステルポリオールは、通常の方
法、例えば低分子ポリオールとジカルボン酸[脂肪族ジ
カルボン酸(コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、アゼライン酸等)、芳香族ジカルボン酸(フタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等)など]もしくは
そのエステル形成性誘導体[酸無水物、低級アルキル
(炭素数1〜4)エステル、ハライド等]とを反応(重
縮合)させる方法、あるいは開始剤(例えば上記低分子
ポリオール)にラクトン(ε−カプロラクトン、γ−バ
レロラクトン等)を付加重合させることにより製造する
ことができる。
【0016】これらのポリエステルポリオールの具体例
としては、ポリエチレンテレフタレートジオール、ポリ
ブチレンイソフタレートジオール、ポリヘキサメチレン
イソフタレートジオール、ポリネオペンチテレルフタレ
ートジオール、ポリエチレンアジペートジオール、ポリ
ブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジ
ペートジオール、ポリネオペンチルアジペートジオー
ル、ポリエチレンプロピレンアジペートジオール、ポリ
エチレンブチレンアジペートジオール、ポリブチレンヘ
キサメチレンアジペートジオール、ポリジエチレンアジ
ペートジオール、ポリ(ポリテトラメチレンエーテル)
アジペートジオール、ポリエチレンアゼレートジオー
ル、ポリエチレンセバケートジオール、ポリブチレンア
ゼレートジオール、ポリブチレンセバケートジオール、
ポリカプロラクトンジオールもしくはトリオール、ポリ
バレロラクトンジオールもしくはトリオール、およびこ
れらの2種以上の混合物が挙げられる。また、上記以外
に特開昭62−202324記載のフタル酸変性ポリカ
プロラクトンポリオールも使用できる。
【0017】上記(A1)のうちのポリエーテルポリオ
ールとしては、前記の低分子ジオールのアルキレンオキ
シド(炭素数2〜4のアルキレンオキシド:エチレンオ
キシド、プロピレンオキシド、1,2−、2,3−もし
くは1,4−ブチレンオキシド等)単独付加物または共
付加物(ブロックおよび/またはランダム)[例えばポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポ
リオキシエチレン−オキシプロピレングリコール、ポリ
オキシテトラメチレングリコール、ポリオキシテトラメ
チレン−オキシエチレングリコール、ポリテオキシトラ
メチレン−オキシプロピレン(ブロックおよび/または
ランダム)グリコール、ポリへキサメチレンエーテルグ
リコール等];低分子トリオール(グリセリン、トリメ
チロールプロパン、ヘキサントリオール等)のアルキレ
ンオキシド(共)付加物;およびこれらの2種以上の混
合物が挙げられる。
【0018】上記(A1)のうちのポリカーボネートポ
リオールとしては、例えば低分子ポリオール(例えば
1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール等)と炭酸エステル(例えば
ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピ
レンカーボネート、ジフェニルカーボネート等)とを重
縮合反応して得られる化合物が挙げられる。
【0019】また、(A1)として上記したもの以外
に、ポリマーポリオール[例えば上記高分子ポリオール
中でビニル系モノマー(アクリロニトリル、スチレン
等)をラジカル(共)重合したもの]、ポリジエンポリ
オール(ポリブタジエンポリオール等)等も使用でき
る。
【0020】該高分子ポリオール(A1)の水酸基当量
は、通常300〜2,000、好ましくは400〜1,
500である。水酸基当量が300未満では、得られる
ポリウレタン樹脂が脆くなり、耐スクラッチ性が低下
し、2,000を越えると得られるポリウレタン樹脂の
樹脂強度が不十分となり、耐摩耗性、耐スクラッチ性な
どが低下する。
【0021】本発明において(A1)とともに任意に併
用される低分子ポリオール(A3)としては、例えば前
記ポリエステルポリオールの出発物質として例示した低
分子ポリオール(直鎖状アルキレングリコール類、環状
基を有する低分子ジオール類等);グリセリン、トリメ
チロールプロパン、トリメチロールエタン、ヘキサント
リオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、α-
メチルグルコシド、ソルビトール、キシリット、マンニ
ット、グルコース、フラクトース、庶糖等の3〜8価の
アルコール類;およびこれら2種以上の混合物等が挙げ
られる。これらのうち好ましいのは直鎖状アルキレング
リコールおよび環状基を有する低分子ジオールである。
(A1)と(A3)とを併用する場合のポリオール成分
(A)の平均水酸基当量は、通常200〜2,000、
好ましくは250〜1,800、さらに好ましくは30
0〜1,500である。平均水酸基当量が200未満で
は得られるポリウレタン樹脂が脆弱なものとなり、2,
000を越えるとポリウレタン樹脂の機械的強度が不十
分なものとなる。
【0022】さらに、ポリウレタン樹脂(C)の分子側
鎖にカルボン酸(塩)基、スルホン酸(塩)基、スルフ
ァミン酸(塩)基および燐酸エステル(塩)基等から選
ばれる少なくとも1種の有機酸(塩)基を導入すること
により、バインダーに用いたときの磁性粉の分散性をさ
らに向上させることができる。該有機酸の塩としては、
例えば金属(カリウム、ナトリウム、リチウム等)塩お
よびアミン(アルキルアミン、アルカノールアミン等)
塩が挙げられる。これらのうち好ましいものはスルホン
酸およびスルファミン酸の有機酸(塩)基であり、特に
好ましいものはスルホン酸およびスルファミン酸の金属
塩基である。(C)の分子側鎖に有機酸(塩)基を導入
する方法としては、例えば本発明で使用される低分子ポ
リオール(A2)の一部として該有機酸(塩)基を有す
る低分子ポリオールを用いる方法がある。
【0023】カルボン酸基を有する低分子ポリオールと
しては、例えば (HOCH22C(CH3)COOH、 (HOCH22C(CH2CH3)COOH、 (HOCH2CH22NCH2CH2COOH およびこれらの塩(金属塩、有機アミン塩等)が挙げら
れる。
【0024】スルホン酸基を有する低分子ポリオールと
しては、例えば (HOCH22C(CH3)SO3H、 (HOCH2CH22NCH2CH2SO3H、 (HOCH2CH2OCO)263SO3H およびこれらの塩(金属塩、有機アミン塩等)が挙げら
れる。
【0025】スルファミン酸基を有する低分子ポリオー
ルとしては、例えば (HOCH2CH22NSO3H、 (HOCH2CH2CH22NSO3H、 (HOCH2CH2CH2CH22NSO3H、 およびこれらの塩(金属塩、有機アミン塩等)が挙げら
れる。
【0026】燐酸エステル基を有する低分子ポリオール
としては、例えば [HOCH(CH3)CH2O]2PO[OPO(CH2
2CH2CH32]、 (HOCH22C(CH3)PO(OH)2、 (HOCH2CH2OCO)263PO(OH)2 およびこれらの塩(金属塩、有機アミン塩等)が挙げら
れる。
【0027】上記以外に(C)の分子側鎖に有機酸
(塩)基を導入する方法として、上記の有機酸(塩)基
含有低分子ポリオールを出発物質である低分子ポリオー
ル成分に用いたポリエステルポリオール、該有機酸
(塩)基を有する低分子ポリオールを開始剤としてアル
キレンオキシドを付加重合させて得られるポリエーテル
ポリオール等を高分子ポリオール(A1)の一部として
用いる方法も例示できる。
【0028】(C)の分子側鎖に有機酸(塩)基を導入
する場合の該有機酸(塩)基の含有量は、(C)106
gあたり1,000当量を越えない量、好ましくは5〜
500当量、特に好ましくは10〜300当量である。
有機酸(塩)基の含有量が1,000当量を超えると磁
性塗料としたときの粘度が高くなり作業性が悪くなる。
【0029】有機ポリイソシアネート(B)としては、
例えば、芳香族ジイソシアネート(1,3−もしくは
1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−もしく
は2,6−トリレンジイソシアネート、2,4’−もし
くは4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート
等);脂肪族ジイソシアネート(テトラメチレンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジン
ジイソシアネート等);芳香脂肪族ジイソシアネート
(キシリレンジイソシアネート、α,α,α’,α’−
テトラメチルキシリレンジイソシアネート等);脂環式
ジイソシアネート(シクロヘキサン−1,4−ジイソシ
アネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキ
シルメタン−4,4’−ジイソシアネート、2,5−ビ
シクロ[2,2,1]ヘプタンビスイソシアネート、
2,6−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンビスイソシア
ネート等);変性ポリイソシアネート(ヘキサメチレン
ジイソシアネートのビュレット変性体、イソホロンジイ
ソシアネートのイソシアヌレート変性体、2,4−もし
くは2,6−トリレンジイソシアネートのトリメチロー
ルプロパン付加体等);イソシアネート末端ウレタンプ
レポリマー;およびこれらの2種以上の混合物が挙げら
れる。これらのうち好ましいものは芳香族ジイソシアネ
ートであり、特に好ましいものは4,4’−ジフェニル
メタンジイソシアネートである。
【0030】(A)と(B)とを反応させて(C)を製
造するに際し、(A)と(B)の当量比(OH/NCO
比)は通常0.6〜1.5、好ましくは0.8〜1.2
である。当量比が0.6未満または1.5を越えると
(A)と(B)との反応によりえられるポリウレタン樹
脂の分子量が低くなり分散性が低下し、また、樹脂強度
が不十分となり、耐摩耗性、耐スクラッチ性、耐加水分
解性等が低下する。上記反応はイソシアネート基に対し
て不活性な溶媒の存在下または不存在下で行なうことが
できる。この溶媒としてはエステル系溶媒(酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等)、エーテル系溶媒(ジオキサン、テ
トラハイドロフラン等)、ケトン系溶媒(シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等)、芳香族炭化水素系溶媒(トルエン、キシレン等)
およびこれらの2種以上の混合溶媒が挙げられる。
【0031】反応方法としては(A)と(B)とを一括
して反応容器に仕込み反応させる方法、(A)と(B)
とを分割して多段反応をさせる方法、およびあらかじめ
混合した(A)と(B)を加熱された多軸押出し機中を
通過させ反応させる方法等が挙げられる。反応温度は通
常30〜180℃,好ましくは60〜120℃である。
また、反応を促進させるため通常のウレタン反応におい
て用いられる触媒、例えば錫系触媒(トリメチルチンラ
ウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチ
ンジラウレート、ジブチルチンジラウレート、スタナス
オクトエート等)、鉛系触媒(レッドオレート、レッド
2−エチルヘキソエート等)、アミン系触媒(トリエチ
レンジアミン等)等を使用してもよい。
【0032】かくして得られるポリウレタン樹脂(C)
の数平均分子量は、通常1,000〜200,000、
好ましくは3,000〜150,000である。数平均
分子量が1,000未満では樹脂物性が低下し、磁気テ
ープの耐久性が劣り、200,000を越えると塗料粘
度が高くなり、磁性体の分散性も低下する。
【0033】また、該(C)のガラス転移点(Tg)
は、通常0〜125℃、好ましくは30〜120℃、さ
らに好ましくは50〜115℃である。Tgが0℃未満
では磁気テープの耐久性が低下し、125℃を超えると
磁気テープ製造時のカレンダー性が悪くなる。
【0034】本発明のバインダーに用いられる(C)は
必要により他の樹脂と併用してもよい。該他の樹脂とし
ては、ポリ塩化ビニル系樹脂[塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体(「VYHH」;UCC社製、「エスレック
C」;積水化学製など)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体(「VAGH」;UCC社製、
「エスレックA」;積水化学製など)、塩化ビニル−塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体(「サラ
ン」;旭ダウ製など)等]、ポリウレタン系樹脂[「エ
ステン」;グッドリッチ社製など)等]、ポリブタジエ
ン系樹脂[アクリロニトリル−ブタジエン共重合体
(「ハイカー1482」;日本ゼオン製など)等]、ア
クリル系樹脂(アクリル酸エステル系共重合体等)、ニ
トロセルロース、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂等が挙
げられる。
【0035】これらの他の樹脂は、樹脂中にカルボキシ
ル基、スルホン酸金属塩基、スルホベタイン、燐酸エス
テル基、アミノ基、第4級アンモニウム塩基、水酸基等
の官能基を含有していてもよい。
【0036】本発明の磁気記録媒体は、本発明のバイン
ダー、磁性粉、溶剤および添加剤を混合・分散し、得ら
れる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布して磁性層を形成
させることにより得られる。また、本発明のバインダー
は、磁性層とは反対側のバックコート層用のバインダー
としても使用することができる。
【0037】上記磁性塗料に使用される磁性粉として
は、酸化鉄〔例えばγ−Fe23(γ−ヘマタイ
ト)〕、CrO3(三酸化クロム)、合金系の磁性体
〔例えばCo−γ−Fe23(コバルトフェライトまた
はコバルトドープγ−酸化鉄)、Fe−Co−Cr〕、
純鉄Fe(メタルパウダー)、窒化鉄、炭化鉄等が挙げ
られる。
【0038】該磁性塗料に用いられる溶媒としては、エ
ステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル
系溶媒(ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、ケトン
系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルルケトン等)、芳香族炭化水素系溶媒(ト
ルエン、キシレン等)およびこれらの2種以上の混合溶
媒が挙げられる。これらのうち好ましいものはケトン系
溶媒と芳香族炭化水素系溶媒との混合溶媒である。該溶
媒の使用量は、磁性塗料中の固形分含量が通常20〜8
0重量%となる範囲である。
【0039】さらに該磁性塗料には、バインダーおよび
磁性粉の他に、添加剤として公知の分散剤、潤滑剤、研
磨剤、帯電防止剤、防錆剤、架橋剤等が添加されていて
もよい。
【0040】分散剤としては、炭素数12〜18個の脂
肪酸(カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチ
ン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸
等);金属石鹸[前記の脂肪酸のアルカリ金属(カリウ
ム、ナトリウム等)塩およびアルカリ土類金属(マグネ
シウム、カルシウム、バリウム等)塩]等が挙げられ
る。
【0041】潤滑剤としては、ジアルキルポリシロキサ
ン(アルキルは炭素数1〜5個)、ジアルコキシポリシ
ロキサン(アルコキシは炭素数1〜4個)、モノアルキ
ルモノアルコキシポリシロキサン(アルキルは炭素数1
〜5、アルコキシは炭素数1〜4個)、フェニルポリシ
ロキサン、フロロアルキルポリシロキサン、シリコンオ
イル、導電性微粉末(グラファイト等)、無機粉末(二
硫化モリブデン、二硫化タングステン等)、プラスチッ
ク微粉末、脂肪酸エステル類、フルオロカーボン類等が
挙げられる。
【0042】研磨剤としては、アルミナ、炭化珪素、酸
化クロム、コランダム、人造コランダム、ダイヤモン
ド、人造ダイヤモンド等が挙げられる。
【0043】帯電防止剤としては、導電性粉末(カーボ
ンブラック、カーボンブラックグラフトポリマー等)、
天然界面活性剤(サポニン等)、ノニオン型界面界面活
性剤(アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ドール系等)、カチオン型界面活性剤(高級アルキルア
ミン類、第四級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複
素環類、ホスホニウム類等)、アニオン型界面活性剤
(カルボン酸型、スルホン酸型、リン酸型、硫酸エステ
ル基型、燐酸エステル基型等)、両性界面活性剤(アミ
ノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸
または燐酸エステル類等)等が挙げられる。
【0044】防錆剤としては、燐酸、スルフィド、グア
ニジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンククロメート、
カルシウムクロメート、ストロンチウムクロメート等が
挙げられる。また、特にジシクロヘキシルアミンナイト
ライト、シクロヘキシルアミンクロメート、ジイソプロ
ピルアミンナイトライト、ジエタノールアミンホスフェ
ート、シクロヘキシルアンモニウムカーボネート、プロ
ピレンジアミンステアレート、グアニジンカーボネー
ト、トリエタノールアミンナイトライト、モルフォリン
ステアレート等の気化性防錆剤(アミン、アミドまたは
イミドの無機酸塩または有機酸塩)を使用すると防錆効
果が向上する。
【0045】また、磁気記録媒体の磁性層の強度の向上
を目的として磁性塗料中に架橋剤として多官能ポリイソ
シアネートを配合することができる。好ましい多官能ポ
リイソシアネートとしては、たとえば有機ポリイソシア
ネート(TDI,MDI等)と活性水素化合物(低分子
ポリオール、ポリアミン、ポリエーテルポリオール、ポ
リエステルポリオール等)とからのNCO基末端プレポ
リマー[例えば、「コロネートL」(日本ポリウレタン
工業製)、「コロネートHL」(日本ポリウレタン工業
製)等]等が挙げられる。
【0046】バインダーと架橋剤の配合割合は特に限定
されないが、バインダー100重量部に対して架橋剤が
通常3〜80重量部である。また、架橋反応を促進させ
るため、前述のポリウレタン樹脂を製造する際に用いた
ものと同様の触媒を適宜配合してもよい。
【0047】磁気記録媒体を構成する非磁性支持体の素
材としては、ポリエステル類(ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等);ポリ
オレフィン類(ポリエチレン、ポリプロピレン等);セ
ルロース誘導体(セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート、セルロースダイアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロ
ピオネート等);ビニル系樹脂(ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン等);その他のプラスチック(ポリカー
ボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド等);非磁性
金属類(アルミニウム、銅、スズ、亜鉛またはこれらを
含む非磁性合金等);セラミック類(ガラス、陶器、磁
器等);オレフィン類(バライタ、ポリエチレン、エチ
レン−ブテン共重合体等)を塗布またはラミネートした
紙等が挙げられる。また、非磁性支持体の形態はフイル
ム、テープ、シート、ディスク、カード、ドラム等のい
ずれであってもよい。非磁性支持体上に磁性塗料を塗布
して形成される磁性層の厚さは、乾燥膜厚で通常0.1
〜50μmである。
【0048】磁気記録媒体(磁気テープ等)を製造する
方法としては、たとえばバインダー、磁性粉、溶媒およ
び必要により添加剤を予めプレミキサー等で混合したの
ち、混合分散機(ボールミル、ペイントコンディショナ
ー、サンドグラインダー、サンドミル、プラストミル
等)で磁性粉を分散させて磁性塗料を作成し、つぎにこ
の磁性塗料を、ドクターブレード法、転写印刷法(グラ
ビア法、リバースロール法等)の方法により非磁性支持
体に塗布後、配向、乾燥、表面加工、切断、巻取り等の
工程を経て磁気記録媒体とする方法が例示できる。
【0049】該磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層
(磁性粉およびバインダー等)からなるものが一般的で
あるが、非磁性支持体と磁性層の間に中間層(下塗層、
アンダーコート層)を設けたもの、非磁性支持体の両面
に磁性層を有するもの、磁気特性の異なる磁性層を重積
したもの、磁性層の上に保護層を設けたもの、非磁性支
持体にバックコート層を設けたもの等であってもよい。
【0050】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。以下にお
いて、部は重量部、%は重量%を示す。
【0051】合成例1[ポリオキシスチレンポリオール
の製造] 攪拌機および温度調節機能の付いたステンレス製オート
クレーブに、1,4−ブタンジオール1モルおよび「粉
状シリカ・アルミナ(LA)」〔触媒化成(株)製:S
iO2・Al23〕0.04モルを仕込み、90℃でス
チレンオキシド8モルを滴下した。スチレンオキシドの
付加重合反応は8時間で完結した。反応物から触媒を濾
別してポリオキシスチレンポリオール(D−1)を得
た。該(D−1)の水酸基価は106.9(水酸基当
量:525)、GPC法による数平均分子量(ポリスチ
レン換算)は1,050であった。
【0052】実施例1 攪拌機、温度計、還流冷却管および窒素ガス導入管を付
した4つ口コルベンに、合成例1で得た(D−1)0.
5モル、アジピン酸と1,4−ブタンジオールから得ら
れた水酸基当量500のポリエステルジオール0.5モ
ル、(HOCH2CH22NSO3Naのプロピレンオキ
シド8モル付加物0.42モルおよびジフェニルメタン
ジイソシアネート1.38モルを仕込み約70℃で反応
させた。これにメチルエチルケトン(MEK)/シクロ
ヘキサノン混合物(重量比1:1)を加え、固形分30
%のポリウレタン樹脂溶液(C−1)を得た。該(C−
1)の粘度は1,100cP/25℃、固形分濃度は3
0%、GPC法による数平均分子量(ポリスチレン換
算)は12,000、ポリウレタン樹脂中のスルファミ
ン酸塩基含有量は樹脂106g当たり220当量、DS
C法によるガラス転移点は45℃であった。この(C−
1)をバインダーとして使用し、下記組成物をペイント
コンディショナーで混合、分散させて磁性塗料(E−
1)を作成した。 Co−γ−Fe23微粉末 100部 ポリウレタン樹脂(C−1) 10部(固形分換算) 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 (商品名:VAGH;UCC社製) 10部 レシチン 1部 MEK 75部 トルエン 75部 得られた磁性塗料に硬化剤[「コロネートL」(日本ポ
リウレタン工業製)、トリメチロールプロパンのトリレ
ンジイソシアネート3モル付加物]を5部添加し、10
分間混合した。この磁性塗料をポリエステルフィルムに
塗布し(乾燥膜厚5μm)、1,000Oeの磁場をか
けて配向させ、テープを得た。更に、このテープをカレ
ンダーロールで処理し磁気テープ(F−1)を得た。
【0053】実施例2 攪拌機、温度計、還流冷却管および窒素ガス導入管を付
した4つ口コルベンに、合成例1で得た(D−1)1モ
ル、ネオペンチルグリコール1モル、(HOCH2
22NSO3Naのプロピレンオキシド8モル付加物
0.2モルおよびジフェニルメタンジイソシアネート2
モルを仕込み約70℃で反応させた。これにMEK/シ
クロヘキサノン混合物(重量比1:1)を加え、固形分
30%のポリウレタン樹脂溶液(C−2)を得た。該
(C−2)の粘度は900cP/25℃、固形分濃度は
30%、GPC法による数平均分子量(ポリスチレン換
算)は10,000、ポリウレタン樹脂中のスルファミ
ン酸塩基含有量は樹脂106g当たり100当量、DS
C法によるガラス転移点は95℃であった。得られたポ
リウレタン樹脂溶液(C−2)を用いて実施例1と同様
にして磁性塗料(E−2)を作成し、磁気テープ(F−
2)を得た。
【0054】実施例3 攪拌機、温度計、還流冷却管および窒素ガス導入管を付
した4つ口コルベンに、合成例1で得た(D−1)0.
5モル、アジピン酸と1,4−ブタンジオールから得ら
れた水酸基当量500のポリエステルジオール0.5モ
ル、(HOCH2CH2OCO)263SO3Na0.2
モルおよびジフェニルメタンジイソシアネート1.1モ
ルを仕込み約70℃で反応させた。これにMEK/シク
ロヘキサノン混合物(重量比1:1)を加え、固形分3
0%のポリウレタン樹脂溶液(C−3)を得た。該(C
−3)の粘度は1,200cP/25℃、固形分濃度は
30%、GPC法による数平均分子量(ポリスチレン換
算)は12,500、ポリウレタン樹脂中のスルホン酸
塩基含有量は樹脂106g当たり100当量、DSC法
によるガラス転移点は50℃であった。得られたポリウ
レタン樹脂溶液(C−3)を用いて実施例1と同様にし
て磁性塗料(E−3)を作成し、磁気テープ(F−3)
を得た。
【0055】実施例4 攪拌機、温度計、還流冷却管および窒素ガス導入管を付
した4つ口コルベンに、ポリオキシスチレンポリオール
(D)1モル、ネオペンチルグリコール1モル、(HO
CH2CH2OCO)263SO3Na0.1モルおよび
ジフェニルメタンジイソシアネート2モルを仕込み約7
0℃で反応させた。MEK/シクロヘキサノン混合物
(重量比1:1)を加え、固形分30%のポリウレタン
樹脂溶液(C−4)を得た。該(C−4)の粘度は1,
200cP/25℃、固形分濃度は30%、GPC法に
よる数平均分子量(ポリスチレン換算)は12,00
0、ポリウレタン樹脂中のスルホン酸塩基含有量は樹脂
106g当たり100当量、DSC法によるガラス転移
点は95℃であった。得られたポリウレタン樹脂溶液
(C−4)を用い実施例1と同様にして磁性塗料(E−
4)を作成し、磁気テープ(F−4)を得た。
【0056】比較例1 攪拌機、温度計、還流冷却管および窒素ガス導入管を付
した4つ口コルベンに、1,6−ヘキサンジオールとジ
メチルカーボネートから得られた水酸基当量500のポ
リカーボネートジオール1モル、ネオペンチルグリコー
ル1モルおよびジフェニルメタンジイソシアネート1.
9モルを仕込み約70℃で反応させた。これにMEK/
シクロヘキサノン混合物(重量比1:1)を加え、固形
分30%のポリウレタン樹脂溶液(C−5)を得た。該
(C−5)の粘度は1,500cP/25℃、固形分濃
度は30%、GPC法による数平均分子量(ポリスチレ
ン換算)は15,000、DSC法によるガラス転移点
は10℃であった。得られたポリウレタン樹脂溶液(C
−5)を用いて実施例1と同様にして磁性塗料(E−
5)を作成し、磁気テープ(F−5)を得た。
【0057】試験例1 実施例1〜4および比較例1で得られた磁気テープ(F
−1)〜(F−5)の耐久性を測定した。その結果を表
1に示す。耐久性は、学振式摩擦堅牢度試験機(大栄化
学精機製作所製)で100gの荷重で30回摩擦後の粉
落ち量(mg)で示した。数値が小さい程、磁気テープ
の耐久性が良好でることを示す。
【0058】
【表1】
【0059】試験例2 実施例1〜4および比較例1で得られた磁性塗料(E−
1)〜(E−5)の粘度を測定した。その結果を表2に
示す。該粘度は、BL型粘度計(東京計器製)を用い
て、25℃にて測定した。
【0060】
【表2】
【0061】試験例3 実施例1〜4および比較例で得られた磁気テープ(F−
1)〜(F−5)の磁性体の分散性を見るために表面光
沢度を測定した。その結果を表3に示す。光沢計は日本
電色工業製デジタル変角光沢計を用い、75゜の正反射
率を測定した。数値は標準板の反射率を95とした場合
と比較し、相対値(%)で表示した。表面光沢度が高い
ほど分散性が良好であることを示す。
【0062】
【表3】
【0063】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体用バインダーは、
従来のものに比べて次のような効果を奏する。 (1)本発明のバインダーを用いて得られた磁気記録媒
体の耐久性が極めて優れている。 (2)また、本発明のバインダーを用いて得られた磁性
塗料は粘度が低いため、塗布ラインのスピードアップが
でき、しかも、配向時に磁性体が動きやすくなり、磁気
特性が向上する。 (3)磁性体に対する分散性も優れており、さらに磁気
テープの磁気特性が向上する。 上記効果を奏することから本発明のバインダーは、たと
えばオーディオテープ、ビデオテープ、コンピューター
テープ、データーレコーダーテープ、メタルテープ、フ
ロッピーディスク、磁気カード等の磁気記録媒体用バイ
ンダーとして有用である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水酸基当量300〜2,000の高分子
    ポリオール(A1)または該(A1)および低分子ポリ
    オール(A3)からなるポリオール成分(A)と、有機
    ポリイソシアネート(B)とから誘導されるポリウレタ
    ン樹脂(C)からなる磁気記録媒体用バインダーにおい
    て、該ポリオール成分(A)の少なくとも10重量%
    が、下記一般式(1) [式中、Rは2または3価のアルコールの残基、Phは
    フェニル基を表す。nは1〜20の整数、kは2または
    3の整数を表す。]で示されるポリオール(A2)であ
    ることを特徴とする磁気記録媒体用バインダー。
  2. 【請求項2】 (C)が分子側鎖にカルボン酸(塩)
    基、スルホン酸(塩)基、スルファミン酸(塩)基およ
    び燐酸エステル(塩)基からなる群から選ばれる少なく
    とも1種の有機酸(塩)基を有し、かつ該有機酸(塩)
    基の含有量が(C)106g当たり1〜1,000当量
    である請求項1記載のバインダー。
  3. 【請求項3】 (C)のガラス転移点が50〜115℃
    である請求項1または2記載のバインダー。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3いずれか記載のバインダー
    を含有してなる磁性層を有する磁気記録媒体。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004307833A (ja) * 2003-03-26 2004-11-04 Sanyo Chem Ind Ltd 熱可塑性ポリウレタンエラストマー

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004307833A (ja) * 2003-03-26 2004-11-04 Sanyo Chem Ind Ltd 熱可塑性ポリウレタンエラストマー
JP4567995B2 (ja) * 2003-03-26 2010-10-27 三洋化成工業株式会社 熱可塑性ポリウレタンエラストマー

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